【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
技术介绍
技术实现思路
【技术保护点】
1.一种在基材上形成涂层的方法，其包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述涂覆装置是用于执行物理气相沉积装置(PVD)的装置，并且操作所述涂覆装置是进行物理气相沉积。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述PVD装置包括磁控溅射装置，并且操作所述涂覆装置是进行磁控溅射。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，磁控溅射以脉冲方式进行，并且脉冲中的最大功率密度为至少0.08kW.cm-2
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述最大功率密度为至多0.5kW.cm-2。
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，至少一些脉冲的占空比、优选脉冲的平均占空比、最优选所有脉冲的占空比可选择为高于10％。
7.根据权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述方法包括在涂层沉积之前预清洁所述基材的步骤，其中使用提供正离子的第二装置来进行这种预清洁，并且优选所述第二装置包括等离子体源。
8.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述第二装置提供的离子是质量比碳大的离
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述离子包括氩离子和/或选自稀有气体元素例如Ne、Ar、Kr、Xe的元素和/或其混合物。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种在基材上形成涂层的方法，其包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述涂覆装置是用于执行物理气相沉积装置(pvd)的装置，并且操作所述涂覆装置是进行物理气相沉积。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述pvd装置包括磁控溅射装置，并且操作所述涂覆装置是进行磁控溅射。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，磁控溅射以脉冲方式进行，并且脉冲中的最大功率密度为至少0.08kw.cm-2
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述最大功率密度为至多0.5kw.cm-2。
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【专利技术属性】
技术研发人员：J·凯劳迪，S·吉蒙德，S·克拉斯尼策，
申请(专利权)人：欧瑞康表面解决方案股份公司，普费菲孔，
类型：发明
国别省市：
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