一种多焦点调控系统技术方案

技术编号:4178880 阅读:243 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术属于应用光学技术领域,涉及一种径向余弦相位型轴向多焦点调控系统。整套系统由相干光源发射部件、光束直径调节器、径向余弦相位波前调节器、光学聚焦部件构成。相干光源发射部件出射光束经过光束直径调节器将光束调节所需直径后,由光学聚焦部件聚焦形成焦点区域。径向余弦相位波前调节器对入射光波前面进行调节,使波前相位呈径向余弦变化,经过光学聚焦部件聚焦后,焦点区域便形成光轴上的多焦点分布,并且多焦点间距和个数可由径向余弦相位波前调节器的余弦函数参数调控。系统具有多焦点轴向调控便捷、光能量利用率高、系统简洁等特点。(*该技术在2019年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术属于应用光学
,与聚焦光学系统焦点区域光强调节系统有关,特别是一种多焦点调控系统。主要用于激光微加工、光学微操纵、光信息存储、光与物质 相互作用等领域。
技术介绍
在许多聚焦光学系统中,焦点区域光强起着非常重要的作用。在光存储系统中, 降低焦点光斑尺寸即可提高光信息存储密度,长焦深易于激光伺服系统工作,轴向多焦点 则可以应用到新兴的多层光存储技术中。在光镊子领域,自Ashkin研发光镊子以来,从 光镊子技术得到了迅猛的发展,促进了很多领域大步发展,特别是在生命科学领域。为了 增加光镊子装置的有效性、灵活性和可控型,相称技术、全息光镊子阵列和干涉条纹模式 等一些方法被提出来,多焦点系统由于可以实现多个颗粒同时被操纵的优点,受到广泛关 注。在先技术中,有一种应用于光镊
的聚焦光学系统多焦点产生技术(参见美国 专利Transverseoptical accelerator and generalized optical vortex,,,专利号US 7, 109, 473,B2,专利时间Date of patent :2006年9月19日)。该聚焦光学系统多焦点产 生技术具有相当的优点,但是,仍然存在一些不足l)在此聚焦光学系统多焦点产生技术 中多焦点分布的平面在与系统光轴垂直的平面上,使光能量较分散,如果保证每个焦点产 生的相当的光强度和光梯度力,光能量利用率低,所需要入射激光光源就要具有较高的输 出光功率;2)产生的光镊对于光轴向方向上的微小颗粒控制无能为力;3)光束传播存在离 轴,增加了调节难度,系统结构复杂。技术 本技术要解决的问题在于克服了上述在先技术的不足,提供一种轴向多焦点调控系统,它具有多焦点轴向调控、调控便捷、光能量利用率高、系统简洁等特点。 本技术的基本构思是 本技术提供一种多焦点调控系统。整套系统由相干光源发射部件、光束直径 调节器、径向余弦相位波前调节器、光学聚焦部件构成。相干光源发射部件出射光束经过光 束直径调节器将光束调节所需直径后,由光学聚焦部件聚焦形成焦点区域。径向余弦相位 波前调节器对入射光波前面进行调节,使波前相位呈径向余弦变化,经过光学聚焦部件聚 焦后,焦点区域便形成光轴上的多焦点分布,并且多焦点间距和个数可由径向余弦相位波 前调节器的余弦函数参数调控。系统具有多焦点轴向调控便捷、光能量利用率高、系统简洁 等特点。 本技术的技术解决方案如下 —种多焦点调控系统,系统由相干光源发射部件1、光束直径调节器2、径向余弦 相位波前调节器3、光学聚焦部件4构成;相干光源发射部件1出射光束方向上依次置有光 束直径调节器2、径向余弦相位波前调节器3、光学聚焦部件4 ;径向余弦相位波前调节器3上的调节相位沿径向呈现余弦函数分布,对入射光束波前面进行相位调制,余弦函数参数 可调。 上述多焦点调控系统的光束直径调节器2是光束扩束倍率可调的光束扩束光学 部件。 上述多焦点调控系统的光束直径调节器2可以是伽利略型扩束镜或开普敦型扩 束镜。 上述多焦点调控系统的径向余弦相位波前调节器3的工作模式可为透射型或反 射型两种模式其一。 上述多焦点调控系统的径向余弦相位波前调节器3为可编程相位型空间光调制 器或可编程液晶光学相位控制器件或光机电集成相位控制器件其一。 上述多焦点调控系统的径向余弦相位波前调节器3为反射工作模式时,径向余弦 相位波前调节器3和光束直径调节器2之间置有光束分光镜6。 上述多焦点调控系统的光束分光镜6与径向余弦相位波前调节器3之间置有四分 之一玻片,四分之一玻片光轴方向与入射光线偏振方向成45度角,光束分光镜6为偏振分 光镜。或者,上述多焦点调控系统的光束分光镜6靠近径向余弦相位波前调节器3 —侧光 学工作面上镀有四分之一玻片。 本技术的一种多焦点调控系统如上所述结构,工作过程为相干光源发射部件 1出射相干光束经过光束直径调节器2,光束直径调节器2对光束进行扩束,扩束后的激光 束经过径向余弦相位波前调节器3后,由光学聚焦部件4聚焦;径向余弦相位波前调节器 3对入射的激光束的波前相位分布进行了径向分布调节,使相位分布呈现径向余弦函数变 化,具有径向余弦相位变化波前面的激光束经过光学聚焦部件4聚焦后,在焦点区域形成 了轴向分布的多个焦点。 径向余弦相位波前调节器3的工作模式可为透射型和反射型两种模式。在反射模 式工作情况下,径向余弦相位波前调节器3和光束直径调节器2之间置有光束分光镜6。相 干光源发射部件1光束出射方向上依次置有光束直径调节器2、光束分光镜6和径向余弦相 位波前调节器3,径向余弦相位波前调节器3的工作模式为反射型,光束照射在径向余弦相 位波前调节器3被反射回,再次经过光束分光镜6后反射光束方向上置有光学聚焦部件4。 工作过程为相干光源发射部件l出射相干光束经过光束直径调节器2,扩束后的激光束经 过光束分光镜6透射后被径向余弦相位波前调节器3反射;反射回的光束再次经过光束分 光镜6时部分光被反射,由光学聚焦部件4聚焦;反射工作模式的径向余弦相位波前调节器 3对入射的激光束的波前相位分布进行了径向分布调节,具有径向余弦相位变化波前面的 激光束经过光学聚焦部件4聚焦后,在焦点区域形成了轴向分布的多个焦点。 为了提高反射工作模式下光能利用率光束分光镜采用偏振分光镜7,在偏振分光 镜7和反射工作模式的径向余弦相位波前调节器3之间置有四分之一玻片8,四分之一玻片 8光轴方向与入射光线偏振方向成45度角,四分之一玻片8可以为单独的光学元件,也可以 为镀在偏振分光镜7靠近径向余弦相位波前调节器3 —侧光学面上的四分之一薄膜8。工 作过程为相干光源发射部件l出射相干光束经过光束直径调节器2,扩束后的激光束经过 偏振分光镜7和四分之一玻片8透射后变成元偏振光束,被径向余弦相位波前调节器3反 射;反射回的光束再次经过四分之一玻片8由圆偏振光转化为线偏振光,偏振方向与第一次经过四分之一玻片8前偏振光向垂直,故被偏振分光镜7反射时反射率很高,反射光由光 学聚焦部件4聚焦;反射工作模式的径向余弦相位波前调节器3对入射的激光束的波前相 位分布进行了径向分布调节,在焦点区域形成了轴向分布的多个焦点。 本技术的优点 1)相位式轴向多焦点产生与调控,焦点数量、分布形状、间距均可调控,并且可以 产生焦移和焦点跳跃; 2)轴向多焦点调控便捷,可靠性高,灵活性强; 3)入射光光能量利用率高; 4)系统结构简单,性能稳定,对机械定位要求低。附图说明 图1为本技术的第一实施例示意图。 图2为本技术的径向余弦相位波前调节器示意图。 图3为本技术的焦点区域轴向多焦点分布图(含图3A和图3B两个图)。 图4为本技术的第二实施例示意图。 图5为本技术的第三实施例示意图。具体实施方式 第一具体实施例 图1为本技术的第一实施例示意图。 一种多焦点调控系统,其特征在于系统 由相干光源发射部件1、光束直径调节器2、径向余弦相位波前调节器3、光学聚焦部件4构 成;相干光源发射部件1出射光束方向上依次置有光束直径调节器2、径向余弦相位波前调 节器3、光学聚焦部件4 ;径向余弦相位波前调节器3上的调节相位沿径向呈现余弦本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多焦点调控系统,其特征在于:系统由相干光源发射部件(1)、光束直径调节器(2)、径向余弦相位波前调节器(3)、光学聚焦部件(4)构成;相干光源发射部件(1)出射光束方向上依次置有光束直径调节器(2)、径向余弦相位波前调节器(3)、光学聚焦部件(4);径向余弦相位波前调节器(3)上的调节相位沿径向呈现余弦函数分布,对入射光束波前面进行相位调制,余弦函数参数可调。

【技术特征摘要】
一种多焦点调控系统,其特征在于系统由相干光源发射部件(1)、光束直径调节器(2)、径向余弦相位波前调节器(3)、光学聚焦部件(4)构成;相干光源发射部件(1)出射光束方向上依次置有光束直径调节器(2)、径向余弦相位波前调节器(3)、光学聚焦部件(4);径向余弦相位波前调节器(3)上的调节相位沿径向呈现余弦函数分布,对入射光束波前面进行相位调制,余弦函数参数可调。2. 如权利要求1所述一种多焦点调控系统,其特征在于光束直径调节器(2)是光束扩束倍率可调的光束扩束光学部件。3. 如权利要求1所述一种多焦点调控系统,其特征在于光束直径调节器(2)是伽利略型扩束镜或开普敦型扩束镜。4. 如权利要求l所述一种多焦点调控系统,其特征在于径向余弦相位波前调节器(3)的工作模式为透射型或反...

【专利技术属性】
技术研发人员:李劲松高秀敏方溁
申请(专利权)人:中国计量学院
类型:实用新型
国别省市:86[中国|杭州]

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