一种真空炉烧结辅助支架制造技术

技术编号:41774760 阅读:2 留言:0更新日期:2024-06-21 21:50
本技术涉及真空炉烧结领域,具体涉及一种真空炉烧结辅助支架,包括炉胆,所述炉胆的内腔设置有支撑组件,所述支撑组件的顶部设置有承接组件,所述承接组件用于对工件进行支撑,所述承接组件的底部设置有限位组件,所述限位组件用于对工件进行固定限位,所述支撑组件包括支撑杆、卡槽和底座,所述底座固定安装在炉胆的内壁上,所述支撑杆固定安装在底座的顶面上;本技术通过在炉胆的内壁上设置支撑组件,通过支撑组件中底座和支撑杆的相互配合,可以对承接板起到支撑作用,而承接板上开设的放置槽,则便于把元器件置入放置槽的内腔中,来对元器件实现固定作用,便于对元器件进行烧结。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及真空炉烧结领域,具体涉及一种真空炉烧结辅助支架


技术介绍

1、石墨烯广泛的应用于元器件的表面上,因其具有高导热率的特点,使得将其涂抹在高温器件及设备表面,可以起到散热降温的效果,而在把石墨烯涂覆在元器件的表面之后,还需对其进行加热烧结,使得石墨烯涂料可以稳定依附在元器件的表面上。

2、目前常用的烧结方式为真空炉,在真空炉的炉胆内部形成类真空环境,再辅以加热装置,便可以实现烧结过程,而待烧结的元器件便需在炉胆的内部设置支架,方便对元器件提供支撑力,而一般的支架其对元器件的稳固性差,且不能适应不同长短的元器件,导致烧结过程中元器件的稳定性得不到保障。


技术实现思路

1、基于上述表述,本技术提供了一种真空炉烧结辅助支架,以解决现有的真空炉支架对元器件的稳固性差,且不能适应不同长短元器件的问题。

2、本技术解决上述技术问题的技术方案如下:一种真空炉烧结辅助支架,包括炉胆;

3、所述炉胆的内腔设置有支撑组件,所述支撑组件的顶部设置有承接组件,所述承接组件用于对工件进行支撑;

4、所述承接组件的底部设置有限位组件,所述限位组件用于对工件进行固定限位。

5、在上述技术方案的基础上,本技术还可以做如下改进。

6、进一步的,所述支撑组件包括支撑杆、卡槽和底座,所述底座固定安装在炉胆的内壁上,所述支撑杆固定安装在底座的顶面上,所述卡槽开设在支撑杆的侧壁上。

7、进一步的,所述支撑杆和底座的数量均为四个,四个所述支撑杆和底座于四个方位进行固定安装,用于对承接组件提供支撑力。

8、在上述技术方案的基础上,本技术还可以做如下改进。

9、进一步的,所述承接组件包括承接板、放置槽、拉杆和卡块,所述卡块固定安装在承接板的侧壁上,所述放置槽均匀开设在承接板的顶面上,所述拉杆固定安装在承接板的一侧。

10、进一步的,所述卡块远离承接板的一侧与卡槽的内壁活动连接,所说卡块和卡槽的横截面均设计成“凸”字形,所述卡块在卡槽的内部前后活动。

11、进一步的,所述限位组件包括限位板、调节杆、托块和转杆,所述调节杆的一端从下向上活动贯穿限位板以及承接板,所述托块固定安装在调节杆的底部,所述转杆固定安装在调节杆的顶部,所述托块的顶部与限位板的底部活动贴合。

12、进一步的,所述调节杆的表面设置有螺纹槽,且调节杆与承接板的内部为螺纹连接,所述调节杆的数量为若干个,且每两个调节杆为一组,每组中的两个调节杆对称分布在放置槽的两侧。

13、进一步的,所述托块对称分布在调节杆的两侧,且从俯视面看呈“一”字形,所述转杆以“十”字形的方式位于调节杆的侧面。

14、与现有技术相比,本申请的技术方案具有以下有益技术效果:

15、1、本技术通过在炉胆的内壁上设置支撑组件,通过支撑组件中底座和支撑杆的相互配合,可以对承接板起到支撑作用,而承接板上开设的放置槽,则便于把元器件置入放置槽的内腔中,来对元器件实现固定作用,便于对元器件进行烧结。

16、2、通过在承接板的下方设置限位组件,利用限位组件中的限位板,来托住元器件的底部,保证元器件的稳定性,而同时通过转动调节杆,带动限位板上下移动,以此调节限位板的高度,用于适应不同长度的元器件,扩大了支架的适用范围。

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【技术保护点】

1.一种真空炉烧结辅助支架,包括炉胆(1),其特征在于:

2.根据权利要求1所述的一种真空炉烧结辅助支架,其特征在于,所述支撑组件(2)包括支撑杆(201)、卡槽(202)和底座(203),所述底座(203)固定安装在炉胆(1)的内壁上,所述支撑杆(201)固定安装在底座(203)的顶面上,所述卡槽(202)开设在支撑杆(201)的侧壁上。

3.根据权利要求2所述的一种真空炉烧结辅助支架,其特征在于,所述支撑杆(201)和底座(203)的数量均为四个,四个所述支撑杆(201)和底座(203)于四个方位进行固定安装,用于对承接组件(3)提供支撑力。

4.根据权利要求1所述的一种真空炉烧结辅助支架,其特征在于,所述承接组件(3)包括承接板(301)、放置槽(302)、拉杆(303)和卡块(304),所述卡块(304)固定安装在承接板(301)的侧壁上,所述放置槽(302)均匀开设在承接板(301)的顶面上,所述拉杆(303)固定安装在承接板(301)的一侧。

5.根据权利要求4所述的一种真空炉烧结辅助支架,其特征在于,所述卡块(304)远离承接板(301)的一侧与卡槽(202)的内壁活动连接,所说卡块(304)和卡槽(202)的横截面均设计成“凸”字形,所述卡块(304)在卡槽(202)的内部前后活动。

6.根据权利要求1所述的一种真空炉烧结辅助支架,其特征在于,所述调节杆(402)的表面设置有螺纹槽,且调节杆(402)与承接板(301)的内部为螺纹连接,所述调节杆(402)的数量为若干个,且每两个调节杆(402)为一组,每组中的两个调节杆(402)对称分布在放置槽(302)的两侧。

7.根据权利要求1所述的一种真空炉烧结辅助支架,其特征在于,所述托块(403)对称分布在调节杆(402)的两侧,且从俯视面看呈“一”字形,所述转杆(404)以“十”字形的方式位于调节杆(402)的侧面。

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【技术特征摘要】

1.一种真空炉烧结辅助支架,包括炉胆(1),其特征在于:

2.根据权利要求1所述的一种真空炉烧结辅助支架,其特征在于,所述支撑组件(2)包括支撑杆(201)、卡槽(202)和底座(203),所述底座(203)固定安装在炉胆(1)的内壁上,所述支撑杆(201)固定安装在底座(203)的顶面上,所述卡槽(202)开设在支撑杆(201)的侧壁上。

3.根据权利要求2所述的一种真空炉烧结辅助支架,其特征在于,所述支撑杆(201)和底座(203)的数量均为四个,四个所述支撑杆(201)和底座(203)于四个方位进行固定安装,用于对承接组件(3)提供支撑力。

4.根据权利要求1所述的一种真空炉烧结辅助支架,其特征在于,所述承接组件(3)包括承接板(301)、放置槽(302)、拉杆(303)和卡块(304),所述卡块(304)固定安装在承接板(301)的侧壁上,所述放置槽(302)均匀开设在承接板(301)...

【专利技术属性】
技术研发人员:闫俊良
申请(专利权)人:大秦科技湖北有限公司
类型:新型
国别省市:

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