System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种中空SiO2纳米颗粒的制备方法技术_技高网

一种中空SiO2纳米颗粒的制备方法技术

技术编号:41756452 阅读:16 留言:0更新日期:2024-06-21 21:38
一种中空SiO2纳米颗粒的制备方法,包括如下步骤:以正硅酸四乙酯和N‑[3‑(三甲氧基硅基)丙基]乙二胺作为硅源、氨水作为催化剂、无水乙醇作为溶剂,通过水解聚合反应制备含有机‑无机杂化SiO2内层核结构的混合溶液;向混合溶液中加入一定量的正硅酸四乙酯,通过水解聚合反应在有机‑无机杂化的SiO2表面形成一层SiO2壳结构,用乙醇和去离子水离心收集固体硅球,最后,将所得产物分散于无水乙醇中;向步骤S2中获得的溶液中加入一定量的HF溶液,搅拌刻蚀内层核结构,获得中空SiO2纳米颗粒。本发明专利技术以有机‑无机杂化的SiO2作为内层核结构,无机SiO2作为外层壳结构,HF溶液刻蚀其内部结构获得中空SiO2纳米颗粒,制备过程快速简单,能够精准控制中空程度和粒径。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种中空sio2纳米颗粒的制备方法,属于纳米材料。


技术介绍

1、具有超低折射率的材料在光学应用中具有重要意义。然而,具有超低折射率的天然材料非常有限。自然界中折射率最低的块体材料mgf2,折射率约为1.38。研究人员发现,增加材料的孔隙率可以降低材料本身的折射率。在这一理论基础上,研究人员开发了各种方法引入孔隙来降低材料的折射率。由于材料来源丰富、绿色环保,中空sio2纳米颗粒一直是行业研究的热点。

2、目前,中空sio2纳米颗粒的制备常常需要模板,例如以聚苯乙烯微球作为模板(cn202210393958.6),然后将硅源水解、缩合、沉积在其表面形成sio2球壳,再通过高温煅烧,去除内部聚苯乙烯微球,从而形成中空sio2纳米颗粒。该方法获得的中空sio2纳米颗粒在煅烧过程中可能会聚集,难以分散,影响后续使用。


技术实现思路

1、本专利技术为克服现有技术弊端,提供一种中空sio2纳米颗粒的制备方法,通过合成有机-无机杂化的sio2内层核结构,然后再在其表面水解一层无机sio2外层壳结构,之后加入hf溶液,不断搅拌刻蚀其内部结构获得中空sio2纳米颗粒,制备过程快速简单,能够精准控制中空程度和粒径。

2、本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是:

3、一种中空sio2纳米颗粒的制备方法,所述制备方法包括如下步骤:

4、s1、制备有机-无机杂化sio2内层核结构:以正硅酸四乙酯和n-[3-(三甲氧基硅基)丙基]乙二胺作为硅源、氨水作为催化剂、无水乙醇作为溶剂,通过水解聚合反应得到含有机-无机杂化sio2内层核结构的混合溶液;

5、s2、制备无机sio2外层壳结构:向步骤s1中获得的混合溶液中加入一定量的正硅酸四乙酯,通过水解聚合反应在有机-无机杂化的sio2表面形成一层sio2壳结构,用乙醇和去离子水离心收集固体硅球,最后,将所得产物分散于无水乙醇中;

6、s3、制备中空sio2纳米颗粒:向步骤s2中获得的溶液中加入一定量的hf溶液,搅拌刻蚀内层核结构,获得中空sio2纳米颗粒。

7、上述中空sio2纳米颗粒的制备方法,所述步骤s1中,正硅酸四乙酯、n-[3-(三甲氧基硅基)丙基]乙二胺、氨水和无水乙醇的添加量分别为:10~20质量份、1~5质量份、10~50质量份、100~300质量份。

8、上述中空sio2纳米颗粒的制备方法,所述步骤s2中,所述正硅酸四乙酯的添加量为1~8质量份。

9、上述中空sio2纳米颗粒的制备方法,所述步骤s3中,所述hf溶液的添加量为0.5~5质量份,所述hf溶液的溶质质量分数为40%。

10、上述中空sio2纳米颗粒的制备方法,所述步骤s1中,水解聚合反应过程为:将n-[3-(三甲氧基硅基)丙基]乙二胺溶解在乙醇中,随后,将上述溶液与正硅酸四乙酯同时加入到含氨水的乙醇溶液,在室温下,剧烈搅拌3~6h。

11、上述中空sio2纳米颗粒的制备方法,所述步骤s3中,搅拌刻蚀时间为10~60min。

12、本专利技术的有益效果是:

13、本专利技术中空sio2纳米颗粒制备过程中,先制备有机-无机杂化sio2作为内层核结构,再在其表面包裹生成无机sio2,之后通过hf酸刻蚀内层核结构,形成中空的sio2纳米颗粒。整个制备过程在胶体体系中进行,可以通过控制氨水和硅源的添加量控制中空sio2纳米颗粒的尺寸和中空程度,制备过程简单快捷,易于精准控制中空sio2纳米颗粒的尺寸和中空程度。本专利技术制备的中空sio2纳米颗粒的尺寸在30~100nm,空腔体积与中空sio2颗粒体积之比为10~60%。

14、与传统的高温去除球模板的方法相比,本专利技术方法可在更温和的条件下进行,这可能减少对材料的损伤和结构的破坏,且制备的纳米颗粒不会发生团聚。通过控制有机-无机杂化的组成和反应条件,可以在一定程度上调节中空sio2的性质和功能,例如颗粒尺寸、孔径大小、表面性质等。

15、一般的金属微球做内核模版,例如zns、zno,在其外面生长sio2,首先需要对这些金属微球表面进行修饰,诱导sio2在其表面沉积。而本专利技术使用有机-无机杂化的sio2作为内核,无需对其表面进行修饰,无机的sio2就会自发的沉积在其表面,形成外壳。

16、hf酸蚀刻过程中产生的sif4气体可以溶解在乙醇中,不会逸出到周围空气中造成环境破坏。

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【技术保护点】

1.一种中空SiO2纳米颗粒的制备方法,其特征在于:所述制备方法包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的中空SiO2纳米颗粒的制备方法,其特征在于:所述步骤S1中,正硅酸四乙酯、N-[3-(三甲氧基硅基)丙基]乙二胺、氨水和无水乙醇的添加量分别为:10~20质量份、1~5质量份、10~50质量份、100~300质量份。

3.根据权利要求1所述的中空SiO2纳米颗粒的制备方法,其特征在于:所述步骤S2中,所述正硅酸四乙酯的添加量为1~8质量份。

4.根据权利要求1所述的中空SiO2纳米颗粒的制备方法,其特征在于:所述步骤S3中,所述HF溶液的添加量为0.5~5质量份,所述HF溶液的溶质质量分数为40%。

5.根据权利要求1所述的中空SiO2纳米颗粒的制备方法,其特征在于:所述步骤S1中,水解聚合反应过程为:将N-[3-(三甲氧基硅基)丙基]乙二胺溶解在乙醇中,随后,将上述溶液与正硅酸四乙酯同时加入到含氨水的乙醇溶液,在室温下,剧烈搅拌3~6h。

6.根据权利要求1所述的中空SiO2纳米颗粒的制备方法,其特征在于:所述步骤S3中,搅拌刻蚀时间为10~60min。

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【技术特征摘要】

1.一种中空sio2纳米颗粒的制备方法,其特征在于:所述制备方法包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的中空sio2纳米颗粒的制备方法,其特征在于:所述步骤s1中,正硅酸四乙酯、n-[3-(三甲氧基硅基)丙基]乙二胺、氨水和无水乙醇的添加量分别为:10~20质量份、1~5质量份、10~50质量份、100~300质量份。

3.根据权利要求1所述的中空sio2纳米颗粒的制备方法,其特征在于:所述步骤s2中,所述正硅酸四乙酯的添加量为1~8质量份。

4.根据权利要求1所述的中空si...

【专利技术属性】
技术研发人员:高俊红周迪黄建勇刘保军刘红妹王钦孙晶晶孙璐阳冯岩
申请(专利权)人:合肥乐凯科技产业有限公司
类型:发明
国别省市:

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