System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种可控释放CO、H2S气体的创面敷料薄膜及其制备方法技术_技高网

一种可控释放CO、H2S气体的创面敷料薄膜及其制备方法技术

技术编号:41751063 阅读:15 留言:0更新日期:2024-06-21 21:35
本发明专利技术公开了一种可控释放CO、H<subgt;2</subgt;S气体的创面敷料薄膜及其制备方法。本薄膜包括聚对苯二甲酸乙二醇酯层和敷料层,敷料层包括水凝胶基底、负载在水凝胶基底中的可控释放CO/H<subgt;2</subgt;S气体纳米颗粒,可控释放CO/H<subgt;2</subgt;S气体纳米颗粒包括内核和外壳层,内核为掺杂一氧化碳释放剂的普鲁士蓝内核,外壳层为硫化氢释放剂;制备方法包括两步:首先,将羰基锰席夫碱配合物掺杂到普鲁士蓝纳米颗粒中得到PB‑MnCO颗粒,用掺杂四硫键(H<subgt;2</subgt;S供体)的二氧化硅包裹PB‑MnCO颗粒合成PB‑MnCO@SiO<subgt;2</subgt;纳米颗粒;接着将PB‑MnCO@SiO<subgt;2</subgt;纳米颗粒均匀分散在聚乙烯醇水溶液中,涂布后通过循环冷冻/解冻法制备而成。本发明专利技术制备的创面敷料薄膜实现了CO和H<subgt;2</subgt;S气体的逐步释放,使用时方便拿取、不黏连。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及医用敷料领域,尤其涉及一种可控释放co、h2s气体的创面敷料薄膜及其制备方法。


技术介绍

1、糖尿病慢性伤口难以愈合,是糖尿病最严重的并发症之一,将导致患者具有截肢的危险或可能因伤口不愈合而死亡。伤口部位出现细菌感染和形成生物膜、伤口长期处于炎症状态、伤口部位血管生成受阻等因素导致糖尿病伤口难以愈合。创面敷料可加速创面修复,减少伤口感染,减轻糖尿病患者痛苦。现有创面敷料功能较为单一,难以有效促进糖尿病创面愈合问题。

2、在此背景下,气体疗法在生物应用中引起了很多关注。一些常见的气体分子如一氧化氮(no)、硫化氢(h2s)、一氧化碳(co)等,这些小分子气体在高浓度时均具有生物毒性,在低浓度时却均为生命体内重要的信号。这些气体为内源性信号分子,在多种疾病过程中发挥重要作用。然而,多种气体的不可控释放会导致治疗效果不佳或引发严重的不良反应。并且,目前大多数响应性纳米药物需要通过复杂的合成操作实现单一响应。


技术实现思路

1、针对现有技术中的缺陷,本专利技术的目的是提供一种可控释放co/h2s气体的创面敷料薄膜及其制备方法。

2、本专利技术采用的技术方案是:

3、(一)一种可控释放co/h2s气体的创面敷料薄膜

4、所述创面愈合敷料薄膜包括依次设置的聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)层和敷料层,所述敷料层靠近创面;所述敷料层包括水凝胶基底、负载在所述水凝胶基底中的可控释放co/h2s气体纳米颗粒,所述可控释放co/h2s气体纳米颗粒为核-壳结构,包括内核和外壳层,所述内核采用掺杂具有释放一氧化碳co气体的功能的一氧化碳释放剂的普鲁士蓝内核,所述外壳层采用具有释放硫化氢h2s气体的功能的硫化氢释放剂。

5、所述内核与外壳层之间为化学键连接。

6、所述硫化氢释放剂为含有四硫键结构的改性二氧化硅。

7、所述一氧化碳释放剂为羰基锰席夫碱配合物mn(co)3lbr;其中,l=

8、

9、所述羰基锰席夫碱配合物的结构式具体为:

10、

11、所述可控释放co/h2s气体纳米颗粒的粒径为200~250nm。

12、所述可控释放co/h2s气体纳米颗粒的包覆层的厚度为60~130nm;所述可控释放co/h2s气体纳米颗粒的内核的粒径为120~140nm。

13、所述可控释放co/h2s气体纳米颗粒在水凝胶基底中的浓度为20~22g/l。

14、所述水凝胶基底为浓度为100~110g/l的聚乙烯醇水凝胶。

15、所述创面愈合敷料薄膜的厚度为1.1~2.1mm;所述聚对苯二甲酸乙二醇酯层的厚度为0.1mm;所述敷料层的厚度为1.0~2.0mm。

16、(二)一种可控释放co/h2s气体的创面敷料薄膜的制备方法

17、所述制备方法的步骤具体为:

18、s1)在避光条件下,向质量分数为10~11%的聚乙烯醇水溶液中加入可控释放co/h2s气体纳米颗粒,超声处理将可控释放co/h2s气体纳米颗粒均匀分散至聚乙烯醇水溶液中后,得到纳米颗粒-聚乙烯醇混合溶液。

19、s2)将步骤s1)得到的纳米颗粒-聚乙烯醇混合溶液涂布在聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)薄膜的一侧表面,涂布厚度为1.0~2.0mm,接着进行循环冷冻解冻处理,得到所述创面愈合敷料薄膜。

20、所述循环冷冻解冻处理的条件为:冷冻温度为120℃,冷冻时间为14h,解冻温度为室温,解冻时间为6h,循环次数为3~5次。

21、所述步骤s1)中,将聚乙烯醇在90℃下溶解在蒸馏水中,搅拌至完全溶解,得到质量分数为10%的聚乙烯醇水溶液。

22、所述可控释放co/h2s气体纳米颗粒的制备过程具体为:

23、d1)制备掺杂一氧化碳释放剂的普鲁士蓝内核:按质量份数计,将羰基锰席夫碱配合物、铁氰化钾和聚乙烯吡咯烷酮(pvp)加入到盐酸溶液中,得到混合溶液,在70~90℃下加热12小时,反应结束后冷却,离心取沉淀,经水洗、干燥后得到掺杂一氧化碳释放剂的普鲁士蓝内核(pb-mnco纳米颗粒)。

24、所述羰基锰席夫碱配合物的质量:所述铁氰化钾的质量:所述聚乙烯吡咯烷酮的质量:所述盐酸溶液的体积为14g:1g:40~50g:600~660ml。

25、所述盐酸溶液的浓度为0.1mol/l。

26、所述羰基锰席夫碱配合物与铁氰化钾的物质的量比例为9:1。

27、d2)包覆硫化氢释放剂,得到可控释放co/h2s气体纳米颗粒:向乙醇-水混合溶液中加入粉末状的、所述步骤d1)得到的掺杂一氧化碳释放剂的普鲁士蓝内核(pb-mnco纳米颗粒),搅拌20min后,接着加入氨水再继续搅拌20min,最后加入原硅酸四乙酯与双[3-(三乙氧基硅)丙基]-四硫化物的混合物,在室温下继续搅拌反应6h后,离心取沉淀,经水洗、干燥后得到可控释放co/h2s气体纳米颗粒,避光保存。

28、所述掺杂一氧化碳释放剂的普鲁士蓝内核的质量:乙醇-水混合溶液的体积:氨水的体积:原硅酸四乙酯与双[3-(三乙氧基硅)丙基]-四硫化物的混合物的体积为1.0~1.5g:100~120ml:2~3ml:0.8~1.2ml。

29、所述步骤d2)中,所述乙醇-水混合溶液中,乙醇与水的体积比为50~75:25~50;所述原硅酸四乙酯与双[3-(三乙氧基硅)丙基]-四硫化物的混合物中,原硅酸四乙酯与双[3-(三乙氧基硅)丙基]-四硫化物的体积比为1:1。

30、(三)一种可控释放co/h2s气体的创面敷料薄膜的应用

31、上述创面敷料薄膜用于制备创面敷料。

32、与现有技术相比,本专利技术具有如下的有益效果:

33、1、本专利技术制备的可控释放co/h2s气体的创面敷料薄膜联合co、h2s气体抗菌疗法与光热疗法,可以促进糖尿病创面愈合,对糖尿病感染创面具有良好的治疗效果。创面敷料薄膜具有聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet层),可以为敷料层提供支撑作用,使用时方便拿取、不黏连。

34、2、本专利技术采用的可控释放co/h2s气体纳米颗粒(pb-mnco@sio2纳米颗粒)采用两步法进行合成,操作简便,并且能够通过内/外源性刺激(多重响应)触发纳米颗粒以提高纳米颗粒的利用率。

35、3、本专利技术制备的可控释放co/h2s气体纳米颗粒(pb-mnco@sio2纳米颗粒)实现了多种气体(co和h2s)的可控、逐步释放。

36、4、本专利技术制备的创面敷料薄膜每单位面积(1cm×1cm)的co和h2s气体释放量达到1μmol以上。

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【技术保护点】

1.一种可控释放CO、H2S气体的创面敷料薄膜,其特征在于:所述创面愈合敷料薄膜包括聚对苯二甲酸乙二醇酯层和敷料层;所述敷料层包括水凝胶基底以及负载在所述水凝胶基底中的可控释放CO/H2S气体纳米颗粒,所述可控释放CO/H2S气体纳米颗粒包括内核和外壳层,所述内核采用掺杂一氧化碳释放剂的普鲁士蓝内核,所述外壳层采用硫化氢释放剂。

2.根据权利要求1所述的一种可控释放CO、H2S气体的创面敷料薄膜,其特征在于:所述硫化氢释放剂为含有四硫键结构的改性二氧化硅;所述一氧化碳释放剂为羰基锰席夫碱配合物,所述羰基锰席夫碱配合物的结构式为:

3.根据权利要求1所述的一种可控释放CO、H2S气体的创面敷料薄膜,其特征在于:所述可控释放CO/H2S气体纳米颗粒的粒径为200~250nm;所述可控释放CO/H2S气体纳米颗粒的内核的粒径为120~140nm。

4.根据权利要求1所述的一种可控释放CO、H2S气体的创面敷料薄膜,其特征在于:所述可控释放CO/H2S气体纳米颗粒在水凝胶基底中的浓度为20~22g/L。

5.根据权利要求1或4任一所述的一种可控释放CO、H2S气体的创面敷料薄膜,其特征在于:所述水凝胶基底为浓度为100~110g/L的聚乙烯醇水凝胶。

6.根据权利要求1所述的一种可控释放CO、H2S气体的创面敷料薄膜,其特征在于:所述创面愈合敷料薄膜的厚度为1.1~2.1mm;所述聚对苯二甲酸乙二醇酯层的厚度为0.1mm;所述敷料层的厚度为1.0~2.0mm。

7.一种如权利要求1~6任一所述的创面敷料薄膜的制备方法,其特征在于:所述制备方法的步骤具体为:

8.根据权利要求7所述的一种可控释放CO、H2S气体的创面敷料薄膜的制备方法,其特征在于:所述可控释放CO/H2S气体纳米颗粒的制备过程具体为:

9.根据权利要求8所述的一种可控释放CO、H2S气体的创面敷料薄膜的制备方法,其特征在于:所述步骤D2)中,所述乙醇-水混合溶液中,乙醇与水的体积比为50~75:25~50;所述原硅酸四乙酯与双[3-(三乙氧基硅)丙基]-四硫化物的混合物中,原硅酸四乙酯与双[3-(三乙氧基硅)丙基]-四硫化物的体积比为1:1。

10.一种如权利要求1~6任一所述的创面敷料薄膜的应用,其特征在于:用于制备创面敷料。

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【技术特征摘要】

1.一种可控释放co、h2s气体的创面敷料薄膜,其特征在于:所述创面愈合敷料薄膜包括聚对苯二甲酸乙二醇酯层和敷料层;所述敷料层包括水凝胶基底以及负载在所述水凝胶基底中的可控释放co/h2s气体纳米颗粒,所述可控释放co/h2s气体纳米颗粒包括内核和外壳层,所述内核采用掺杂一氧化碳释放剂的普鲁士蓝内核,所述外壳层采用硫化氢释放剂。

2.根据权利要求1所述的一种可控释放co、h2s气体的创面敷料薄膜,其特征在于:所述硫化氢释放剂为含有四硫键结构的改性二氧化硅;所述一氧化碳释放剂为羰基锰席夫碱配合物,所述羰基锰席夫碱配合物的结构式为:

3.根据权利要求1所述的一种可控释放co、h2s气体的创面敷料薄膜,其特征在于:所述可控释放co/h2s气体纳米颗粒的粒径为200~250nm;所述可控释放co/h2s气体纳米颗粒的内核的粒径为120~140nm。

4.根据权利要求1所述的一种可控释放co、h2s气体的创面敷料薄膜,其特征在于:所述可控释放co/h2s气体纳米颗粒在水凝胶基底中的浓度为20~22g/l。

5.根据权利要求1或4任一所述的一种可控释放co、h2s...

【专利技术属性】
技术研发人员:张敏胡艳玲
申请(专利权)人:杭州华塑实业股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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