【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及激光直写领域，特别是涉及一种激光直写装置、激光直写方法及超构透镜。
技术介绍
1、材料的特异性表面调控是现阶段的其中一个研究热点，其目的通常是为了获得柱阵列，柱阵列经过设计可广泛应用于疏水材料、超表面、微流控等领域。现阶段柱阵列的设计需求逐渐从周期性结构转向非周期性结构，从小面积设计逐渐转向大面积设计，由此柱阵列中的不同柱体往往被要求设计成不同的高度，需要以扫描的方式对每个柱体进行单独制备，制备周期较长。
技术实现思路
1、基于此，有必要针对柱阵列制备时间长的问题，提供一种激光直写装置、激光直写方法及超构透镜。
2、一种激光直写装置，沿光路传播方向依次包括光源、数字微镜阵列、锥透镜以及刻写平台，所述数字微镜阵列的数量与所述锥透镜的数量相同，以使所述数字微镜阵列和所述锥透镜一一对应。
3、本专利技术所述数字微镜阵列中的子微镜数量有多个并且呈正方形阵列排布。
4、本专利技术所述数字微镜阵列对应的子微镜行数为不小于三的奇数。
5、本专利技术所述激光直写装置还包括设置在所述光源和所述数字微镜阵列之间的匀光扩束组件。
6、本专利技术所述激光直写装置还包括4f组件，所述4f组件位于所述锥透镜和所述刻写平台之间。
7、本专利技术所述激光直写装置还包括成像系统，所述成像系统位于所述4f组件的侧面。
8、一种激光直写方法，基于激光直写装置，所述激光直写方法包括：
9、基于目标制备的柱体高度确
10、至少基于所述焦深对所述数字微镜阵列中的子微镜进行筛选，以确定用于曝光光刻胶的子微镜；
11、打开用于曝光光刻胶的子微镜。
12、本专利技术所述数字微镜阵列中的子微镜数量有多个并且呈正方形阵列排布,所述数字微镜阵列对应的子微镜行数为不小于三的奇数；
13、打开用于曝光光刻胶的子微镜的过程包括：打开所有所述子微镜，或者仅打开位于所述数字微镜阵列中心点和边缘处之间部分所述子微镜。
14、本专利技术所述数字微镜阵列中心点处处于关闭状态的所述子微镜对应圈数为p，所述数字微镜阵列边缘处处于关闭状态的所述子微镜对应圈数为q，p=q。
15、一种超构透镜，采用激光直写方法制备获得。
16、本专利技术的有益效果为：
17、通过改变数字微镜阵列中处于打开状态的子微镜分布、数量，由此能够改变在锥透镜出光侧所形成焦点区域对应的焦深，以及焦点区域在x方向和y方向上对应的宽度，由此改变获得的柱体高度和半径。
18、通过增加数字微镜阵列的数量，可以同时曝光获得多个柱体，从而提升柱阵列的制备效率。
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1.一种激光直写装置，其特征在于，沿光路传播方向依次包括光源（1）、数字微镜阵列（2）、锥透镜（3）以及刻写平台（4），所述数字微镜阵列（2）的数量与所述锥透镜（3）的数量相同，以使所述数字微镜阵列（2）和所述锥透镜（3）一一对应。
2.根据权利要求1所述的激光直写装置，其特征在于，所述数字微镜阵列（2）中的子微镜（21）数量有多个并且呈正方形阵列排布。
3.根据权利要求2所述的激光直写装置，其特征在于，所述数字微镜阵列（2）对应的子微镜（21）行数为不小于三的奇数。
4.根据权利要求2所述的激光直写装置，其特征在于，所述激光直写装置还包括设置在所述光源（1）和所述数字微镜阵列（2）之间的匀光扩束组件（5）。
5.根据权利要求1所述的激光直写装置，其特征在于，所述激光直写装置还包括4F组件（6），所述4F组件（6）位于所述锥透镜（3）和所述刻写平台（4）之间。
6.根据权利要求5所述的激光直写装置，其特征在于，所述激光直写装置还包括成像系统（7），所述成像系统（7）位于所述4F组件（6）的侧面。
7.一种激光
8.根据权利要求7所述的激光直写方法，其特征在于，所述数字微镜阵列（2）中的子微镜（21）数量有多个并且呈正方形阵列排布,所述数字微镜阵列（2）对应的子微镜（21）行数为不小于三的奇数；
9.根据权利要求8所述的激光直写方法，其特征在于，所述数字微镜阵列（2）中心点处处于关闭状态的所述子微镜（21）对应圈数为p，所述数字微镜阵列（2）边缘处处于关闭状态的所述子微镜（21）对应圈数为q，p=q。
10.一种超构透镜，其特征在于，采用如权利要求7-权利要求9任一权利要求所述的激光直写方法制备获得。
...【技术特征摘要】
1.一种激光直写装置，其特征在于，沿光路传播方向依次包括光源（1）、数字微镜阵列（2）、锥透镜（3）以及刻写平台（4），所述数字微镜阵列（2）的数量与所述锥透镜（3）的数量相同，以使所述数字微镜阵列（2）和所述锥透镜（3）一一对应。
2.根据权利要求1所述的激光直写装置，其特征在于，所述数字微镜阵列（2）中的子微镜（21）数量有多个并且呈正方形阵列排布。
3.根据权利要求2所述的激光直写装置，其特征在于，所述数字微镜阵列（2）对应的子微镜（21）行数为不小于三的奇数。
4.根据权利要求2所述的激光直写装置，其特征在于，所述激光直写装置还包括设置在所述光源（1）和所述数字微镜阵列（2）之间的匀光扩束组件（5）。
5.根据权利要求1所述的激光直写装置，其特征在于，所述激光直写装置还包括4f组件（6），所述4f组件（6）位于所述锥透镜（3）和所述刻写平台（4）之间。...
【专利技术属性】
技术研发人员：苏晨怡，杨顺华，杨臻垚，施钧辉，
申请(专利权)人：之江实验室，
类型：发明
国别省市：
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