【技术实现步骤摘要】
本公开涉及使用灰度光刻和等离子蚀刻制造倾斜光栅母版和工作印模。
技术介绍
1、头戴式设备(hmd)、平视显示器(hud)和其他近眼显示系统通常采用波导，该波导利用表面光栅或全息光栅来实现各种光操纵目的，诸如将显示光入耦合到波导内或将显示光从波导向用户眼睛的方向出耦合。与二元表面光栅和闪耀表面光栅相比，倾斜表面光栅通常具有更高的衍射效率，因此非常适合增强现实(ar)和虚拟现实(vr)波导应用。然而，与二元表面光栅和闪耀表面光栅及其正交或“垂直”侧壁相比，由于其在制造过程期间与工件表面的非正交关系，使用传统制造技术相对难以制造倾斜光栅。
技术实现思路
1、本公开涉及一种形成用于在波导工件中制造倾斜表面光栅的工作印模的方法，该方法包括：提供包括衬底的母版工件；以及在所述母版工件上执行光致抗蚀剂沉积过程、灰度光刻过程和蚀刻过程的序列，以形成压印复制母版，所述压印复制母版在所述衬底的工作表面中具有倾斜光栅的图案，所述倾斜光栅具有实质上不与所述衬底的工作表面正交的侧壁；使软印模材料层适形于所述压印复制母版的所述衬底的所述工作表面，使得所述软印模材料层具有与所述倾斜光栅的图案相对应的倾斜突起的图案；以及从所述软印模材料去除所述压印复制母版，且固化至少围绕所述倾斜突起的图案的所述软印模材料层的区域以形成所述工作印模。
2、本公开还涉及一种工作印模和波导工件，其中该工作印模用于在根据以上方法形成的波导工件中制造倾斜光栅，并且该波导工件具有使用该工作印模在其中制造的倾斜光栅。
4、此外，上述方法还包括通过以下方式从具有多个倾斜突起的压印复制母版形成所述工作印模：执行旋涂过程以用软印模材料的保形层涂覆所述压印复制母版的衬底的工作表面；以及固化软印模材料的所述保形层以形成所述工作印模。
5、此外，上述方法还包括通过以下方式从具有多个倾斜突起的压印复制母版形成所述工作印模：将所述压印复制母版的衬底的工作表面压入软印模材料的层中以形成软印模材料的保形层；以及固化软印模材料的所述保形层以形成所述工作印模。
6、此外，上述方法还包括：使用灰度光刻过程形成压印复制母版，以在母版工件的光致抗蚀剂层的表面中引入斜坡，所述斜坡基于所述倾斜光栅的斜坡；以及从所述压印复制母版形成所述工作印模。
7、本公开还涉及一种波导工件，该波导工件具有倾斜光栅，该倾斜光栅是使用在以上方法中形成的工作印模在该波导工件中形成的。
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1.一种形成用于在波导工件中制造倾斜表面光栅的工作印模的方法，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其中，光致抗蚀剂沉积过程、灰度光刻过程和蚀刻过程的所述序列包括：
3.根据权利要求2所述的方法，其中，所述第一光致抗蚀剂层是纳米图案光致抗蚀剂层。
4.根据权利要求2所述的方法，其中，光致抗蚀剂沉积过程、灰度光刻过程和蚀刻过程的所述序列包括：
5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述第二光致抗蚀剂层是低对比度光致抗蚀剂层。
6.根据权利要求4所述的方法，其中，所述第一蚀刻过程和所述第二蚀刻过程是垂直等离子体蚀刻过程。
7.根据权利要求4所述的方法，其中，光致抗蚀剂沉积过程、灰度光刻过程和蚀刻过程的所述序列包括：
8.根据权利要求7所述的方法，其中，使所述软印模材料层适形于所述工作表面包括：
9.根据权利要求7所述的方法，其中，使所述软印模材料层适形于所述工作表面包括：
10.根据权利要求1所述的方法，其中，光致抗蚀剂沉积过程、灰度光刻过程和蚀刻过程的所述序列包括：
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