System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种卡盘的表面处理方法技术_技高网

一种卡盘的表面处理方法技术

技术编号:41738361 阅读:12 留言:0更新日期:2024-06-19 12:57
本发明专利技术提供了一种卡盘的表面处理方法,在卡盘中的部分或全部的可活动部件中的表面设置表面硬质层,所述表面硬质层为类金刚石薄膜DLC层或者纳米陶瓷层。本发明专利技术主要解决了在高强度连续多次重复使用后,卡盘零部件表面磨损、腐蚀,影响精度的问题,从而提高产品寿命。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种卡盘的表面处理方法


技术介绍

1、在高精卡盘领域,保持精度一直是行业追求的方向。在高功率、高强度连续工作的场合,卡盘的零部件之间难免出现形变、磨损等现象,从而影响精度。另外,在高强度连续工作后,长期高压力恶劣环境下,表面会缺油,使表面摩擦力增大,使各零件提前磨损。

2、目前行业的通用做法是进行热处理(包括激光淬火或者高频淬火)来提高卡盘的表面硬度,减少形变、降低磨损从而保持精度。


技术实现思路

1、本专利技术的目的是提供一种卡盘的表面处理方法,主要解决在高强度连续多次重复使用后,卡盘零部件表面磨损、腐蚀,影响精度的问题,从而提高产品寿命。

2、一种卡盘的表面处理方法,其特征在于,在卡盘中的部分或全部的可活动部件中的表面设置表面硬质层,所述表面硬质层为类金刚石薄膜dlc层,所述表面硬质层厚度h和硬度c为:h≥1μm且h≤2μm,c≥hv1500且c≤hv5500;或者,所述表面硬质层为纳米陶瓷。

3、进一步地,所述可活动部件包括爪座。

4、进一步地,所述可活动部件还包括与爪座连接的楔心套。

5、进一步地,卡盘中固定件的与活动件的接触面也设置表面硬质层。

6、进一步地,所述卡盘中的盘体至少中心孔的内壁表面设置所述表面硬质层。

7、进一步地,所述爪座至少与盘体径向导向卡槽配合的径向导向筋的上下面设置所述表面硬质层。

8、进一步地,所述爪座至少与盘体径向导向卡槽配合的径向导向筋的上下面以及与楔心套连接孔配合的导向块的前后面设置所述表面硬质层。

9、进一步地,所述楔心套的连接孔上下斜面、外壁设置所述表面硬质层。

10、进一步地,所述表面硬质层为类金刚石薄膜dlc层时,所述表面硬质层使用物理气相沉积法(pvd)制备,沉积温度t≥180℃且t≤500℃。

11、进一步地,所述表面硬质层为纳米陶瓷时,纳米陶瓷层厚度h为:50μm≤h≤200μm,纳米陶瓷层硬度c为,hv1000≤c≤hv1200。

12、本专利技术具有以下优点:

13、1、避免卡盘内相邻的相对运动部件之间粘连的产生,避免咬合胀死。

14、2、防止高强度连续多次工作后各零部件因发生所述退火现象,相邻的表面变软,相对运动部件之间夹具磨损,影响精度的问题发生。

15、3、良好的化学惰性能防止使用过程中被切削液、冷却液腐蚀。

16、4、在长时间高热的工作环境下保持零部件稳定,避免高温度降低零部件表面硬度,从而影响精度。

17、5、降低零部件之间的摩擦,提高使用体验。

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【技术保护点】

1.一种卡盘的表面处理方法,其特征在于,在卡盘中的部分或全部的可活动部件中的表面设置表面硬质层,所述表面硬质层为类金刚石薄膜DLC层,所述表面硬质层厚度h和硬度c为:h≥1μm且h≤2μm,c≥Hv1500且c≤Hv5500;或者,所述表面硬质层为纳米陶瓷。

2.如权利要求1所述的一种卡盘的表面处理方法,其特征在于,所述可活动部件包括爪座。

3.如权利要求1所述的一种卡盘的表面处理方法,其特征在于,所述可活动部件还包括与爪座连接的楔心套。

4.如权利要求1所述的一种卡盘的表面处理方法,其特征在于,卡盘中固定件的与活动件的接触面也设置表面硬质层。

5.如权利要求1所述的一种卡盘的表面处理方法,其特征在于,所述卡盘的盘体至少中心孔的内壁表面设置所述表面硬质层。

6.如权利要求2所述的一种卡盘的表面处理方法,其特征在于,所述爪座至少与盘体径向导向卡槽配合的径向导向筋的上下面设置所述表面硬质层。

7.如权利要求3所述的一种卡盘的表面处理方法,其特征在于,所述爪座至少与盘体径向导向卡槽配合的径向导向筋的上下面以及与楔心套连接孔配合的导向块的前后面设置所述表面硬质层。

8.如权利要求2所述的一种卡盘的表面处理方法,其特征在于,所述楔心套的连接孔上下斜面、外壁设置所述表面硬质层。

9.如权利要求1、2、3、4、5、6、7或8所述的一种卡盘的表面处理方法,其特征在于,所述表面硬质层为类金刚石薄膜DLC层时,使用物理气相沉积法(PVD)制备,沉积温度T≥180℃且T≤500℃。

10.如权利要求1、2、3、4、5、6、7或8所述的一种卡盘的表面处理方法,其特征在于所述表面硬质层为纳米陶瓷时,纳米陶瓷层厚度h为:50μm≤h≤200μm,纳米陶瓷层硬度c为,Hv1000≤c≤Hv1200。

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【技术特征摘要】

1.一种卡盘的表面处理方法,其特征在于,在卡盘中的部分或全部的可活动部件中的表面设置表面硬质层,所述表面硬质层为类金刚石薄膜dlc层,所述表面硬质层厚度h和硬度c为:h≥1μm且h≤2μm,c≥hv1500且c≤hv5500;或者,所述表面硬质层为纳米陶瓷。

2.如权利要求1所述的一种卡盘的表面处理方法,其特征在于,所述可活动部件包括爪座。

3.如权利要求1所述的一种卡盘的表面处理方法,其特征在于,所述可活动部件还包括与爪座连接的楔心套。

4.如权利要求1所述的一种卡盘的表面处理方法,其特征在于,卡盘中固定件的与活动件的接触面也设置表面硬质层。

5.如权利要求1所述的一种卡盘的表面处理方法,其特征在于,所述卡盘的盘体至少中心孔的内壁表面设置所述表面硬质层。

6.如权利要求2所述的一种卡盘的表面处理方法,其特征在于,所述爪座至少与盘体...

【专利技术属性】
技术研发人员:周文华林正青童学标
申请(专利权)人:浙江三鸥机械股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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