【技术实现步骤摘要】
领域本公开内容的实施方式总体涉及用于处理一个或多个基板的设备、系统和方法，并且更特别地涉及用于执行光刻工艺(photolithography process)的设备、系统和方法。相关技术的说明光刻术广泛地使用于制造半导体装置和显示器装置，例如液晶显示器(lcd)。经常在lcd制造中利用大面积基板。lcd，或者平面面板通常用于有源矩阵显示器，例如计算机、触摸面板装置、个人数字助理(pda)、移动电话、电视监视器和类似物。一般来说，平面面板可包括液晶材料层，液晶材料层形成夹置于两个板之间的像素。当跨液晶材料施加来自电源的功率时，可在像素位置处控制通过液晶材料的光量而能够产生图像。已经采用微光刻术技术来产生电特征，电特征合并成形成像素的液晶材料层的部分。根据这些技术，将光敏光刻胶施加于基板的至少一个表面。接着，图案产生器利用光来曝光光敏光刻胶的选择区域以作为图案的部分，以使在选择区域中的光刻胶的化学改变为了后续的材料移除和/或材料添加工艺而准备这些选择区域，以产生电特征。在光刻术期间图案化的基板可跨基板具有厚度的变化，此厚度的变化大于微光刻术系统的自由度。这可致使系统相对于基板焦距未对准，并且导致在显示器中的一个或多个像素的模糊，而产生显示器中的云纹(mura)或其他不希望的影响。为了持续提供消费者所需价位的显示装置和其他装置，需要新的设备和方法来精确并且有成本效益地在基板上产生图案，例如是在大面积基板上产生图案，新的设备和方法包括在曝光基板之前，用于成像设备的实时自动聚焦的设备和方法。概述在一个实施方式中，一种图案化基板的方法，包括：当基板相对于成像设备的
技术介绍
0、背景
技术实现思路
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种将基板图案化的方法，所述方法包括：
2.如权利要求1所述的方法，其中确定所述曝光位置包括：
3.如权利要求1所述的方法，进一步包括：
4.如权利要求1所述的方法，其中在所述多个像素的每个像素的所述多个图像中的所述噪声百分比与所述基板的所述金属材料反射的所述多个激光束相关联。
5.如权利要求3所述的方法，其中所述噪声百分比在从1％至30％的范围内。
6.如权利要求1所述的方法，其中将所述基板从所述初始位置调整到所述曝光位置包括：相对于所述成像设备移动所述工作台。
7.如权利要求1所述的方法，其中将所述基板从所述初始位置调整到所述曝光位置包括：相对于所述工作台移动所述成像设备。
8.一种系统，包括：
9.如权利要求8所述的系统，其中为了确定所述曝光位置，所述控制器被配置为：
10.如权利要求8所述的系统，其中所述控制器被配置为：
11.如权利要求10所述的系统，其中在所述多个像素的每个像素的所述多个图像中的所述噪声百分比与所述基板的所述金属材料反射的所述多个
12.如权利要求8所述的系统，其中为了将所述基板从所述初始位置调整到所述曝光位置，所述控制器被配置为相对于所述成像设备移动所述工作台。
13.如权利要求8所述的系统，其中为了将所述基板从所述初始位置调整到所述曝光位置，所述控制器被配置为相对于所述工作台移动所述成像设备。
14.如权利要求8所述的系统，其中所述曝光源包括多个固态发射器。
15.一种非暂时性计算机可读介质，包括指令，这些指令被配置为使得计算系统执行：
...【技术特征摘要】
1.一种将基板图案化的方法，所述方法包括：
2.如权利要求1所述的方法，其中确定所述曝光位置包括：
3.如权利要求1所述的方法，进一步包括：
4.如权利要求1所述的方法，其中在所述多个像素的每个像素的所述多个图像中的所述噪声百分比与所述基板的所述金属材料反射的所述多个激光束相关联。
5.如权利要求3所述的方法，其中所述噪声百分比在从1％至30％的范围内。
6.如权利要求1所述的方法，其中将所述基板从所述初始位置调整到所述曝光位置包括：相对于所述成像设备移动所述工作台。
7.如权利要求1所述的方法，其中将所述基板从所述初始位置调整到所述曝光位置包括：相对于所述工作台移动所述成像设备。
8.一种系统，包括：
9.如权利要求8所述的系统，其...
【专利技术属性】
技术研发人员：戴安娜·瓦尔维德帕尼瓜，张忠传，林仁东，顾铮，米纳拉德查根·卫斯奴，格伦·艾伦·戈麦斯，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：
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