【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及微电子加工，具体为一种用于pan型刻蚀液湿法刻蚀的抑菌水洗干燥装置。
技术介绍
1、薄膜晶体管液晶显示器(tft-lcd)由背光源(backlinght)和显示屏(panel)构成，显示屏又由上下偏振片(upper or lower polarizer)、阵列基板(array)、彩膜(colorfilter，简称cf)、液晶(liquid crystal)组成。tft-lcd的结构和显示原理如图1(a)所示，背光源发光，光通过下偏振片达到array基板。array基板上的tft(thin film transistor)器件开启并产生电场，电场驱动液晶偏转，光随着液晶偏转并照射到彩膜上。彩膜阵列由红(r)、绿(g)、蓝(b)亚像素组成，光照射到亚像素后发出r、g、b单色光，单色管透过上偏振片到达人眼，单色管叠加最终实现彩色显示。tft-lcd中，array基板是技术难度最大、工艺最复杂的组件。array基板结构布局如图1(b)所示，active area(aa区)是显示区域，左右两边是驱动器件区域(gate drive on array，简称goa)，下部是布线密集的外围引线fanout区域。aa区的布线如图1(c)所示，gate走线水平排列，sd走线竖直排列。gate和sd线交叉位置为tft器件，该器件结构如图1(d)所示：在玻璃基板上依次制备栅极(gate)、栅极绝缘层(gate insulator，简称gi)、有源层(a-si)、像素电极(1ito)、源漏极(sd)、钝化层(pvx，sinx材料)、公共电极(
2、现有的湿法刻蚀设备如图2所示，玻璃基板ⅰ从干区间ⅱ进入刻蚀设备，在传输轴1的输运下，依次经过刻蚀区间ⅲ、第一水洗区间ⅳ、第二水洗区间ⅴ、风干区间ⅵ，完成整个刻蚀制程。
3、所述第一水洗区间ⅳ和第二水洗区间ⅴ用于容纳并冲洗基板，所述第一水洗区间ⅳ内设有用于向基板表面喷水的第一喷淋管2，所述第二水洗区间ⅴ内设有用于向基板表面喷水的第二喷淋管3，所述第二喷淋管3连接供水管4，所述第二水洗区间ⅴ底部连接水箱5，所述水箱5通过喷淋循环泵6与第一喷淋管2连接，所述第一水洗区间ⅳ底部连接排水管7。从刻蚀区间ⅲ流出的玻璃基板依次经过第一水洗区间ⅳ和第二水洗区间ⅴ，基板在第一水洗区间ⅳ进行冲洗，大部分残留刻蚀液被稀释并被去除；基板在第二水洗区间ⅴ，残留的刻蚀液被彻底清除残。纯净水从供水管4供入第二水洗区间ⅴ并通过第二喷淋管3喷出，第二喷淋管3喷淋的纯净水对玻璃基板进行清洗，纯净水和残留的刻蚀液形成混合水，该混合水流至水箱5；水箱5中的混合水在喷淋循环泵6的作用下，供应至第一水洗区间ⅳ，并从第一喷淋管2喷出，第一喷淋管2喷淋的混合水直接冲洗玻璃基板上的残留刻蚀液，形成含酸量高的废水，该废水通过排水管7直接排走。
4、然而，水箱5中的混合液中含有少量残留刻蚀液，即是混合液中含有磷，这会造成混合液富营养化并生成细菌。生成的细菌以混合液为载体，附着在管道内壁，被供入第一水洗区间ⅳ并被喷淋至玻璃基板，最终使得基板上附着管道细菌。细菌作为异物附着在基板上，造成良率损失；此外，细菌的分泌物具有腐蚀性，造成电极断线，进一步造成良率损失。对于此类管道细菌，tft行业目前并未找到有效解决方案。
5、经过水洗之后，残留刻蚀液被完全去除，玻璃基板传输至风干区间ⅵ进行风干。所述风干区间ⅵ用于容纳并风干基板，所述风干区间ⅵ内设有向基板表面吹气的干燥风刀8。但是，第二水洗区间ⅴ的水汽会进入风干区间ⅵ，并且聚集并挥发，水汽最终挥发至腔室内壁，冷凝成小液滴，小液滴附着在腔室内壁并滋生细菌。水汽挥发冷凝积累，小液滴发展成富含细菌的大液滴，最终滴落至基板上，造成良率损失。对于风干区间的细菌问题，目前tft-lcd行业未有有效解决方案。
技术实现思路
1、有鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种用于pan型刻蚀液湿法刻蚀的抑菌水洗干燥装置，解决水洗干燥装置中的细菌问题。
2、为达到上述目的，本专利技术提供如下技术方案：
3、一种用于湿法刻蚀的抑菌水洗干燥装置，所述抑菌水洗干燥装置包括依次连接的第一水洗区间、第二水洗区间和风干区间；
4、所述第一水洗区间和第二水洗区间用于容纳并冲洗基板，所述第一水洗区间内设有用于向基板表面喷水的第一喷淋管，所述第二水洗区间内设有用于向基板表面喷水的第二喷淋管，所述第二喷淋管连接供水管，所述第二水洗区间底部连接水箱，所述水箱通过喷淋循环泵与第一喷淋管连接，所述第一水洗区间底部连接排水管；
5、所述风干区间用于容纳并风干基板，所述风干区间内设有向基板表面吹气的干燥风刀；
6、所述抑菌水洗干燥装置还包括抑菌循环系统，所述抑菌循环系统包括抑菌循环管和抑菌循环泵，所述抑菌循环管通过抑菌循环泵将水箱内的水引出后又送回水箱，所述抑菌循环管上缠绕有超导螺线圈，所述超导螺线圈中通入交流电并产生交变磁场；
7、所述水箱上还设有振荡腔，所述振荡腔内设有压电换能器，所述振荡腔的一面连接抑菌循环管，所述振荡腔相对的另一面形成倒v字型凹陷并且连接文杜里管，所述文杜里管的出口连接矢量喷管，所述矢量喷管设置在水箱内；
8、所述风干区间的入口处设有气帘风刀，所述气帘风刀用于沿着竖直方向吹气形成气帘，防止第二水洗区间的水汽进入风干区间。
9、作为优选的技术方案，所述风干区间内壁顶部是呈对称的斜坡，斜坡上排布有pvc板，pvc板表面涂敷有tio2涂层，所述风干区间内还设有向tio2涂层发射紫外光的紫外照射系统。
10、作为优选的技术方案，所述超导螺线圈由nbti合金芯以及从内向外的液氦层、第一真空层、液氮层、第二真空层组成。
11、作为优选的技术方案，所述抑菌循环泵包括电机、泵轴和叶轮，所述电机通过泵轴带动叶轮转动本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种用于PAN型刻蚀液湿法刻蚀的抑菌水洗干燥装置，所述抑菌水洗干燥装置包括依次连接的第一水洗区间、第二水洗区间和风干区间；
2.根据权利要求1所述的用于PAN型刻蚀液湿法刻蚀的抑菌水洗干燥装置，其特征在于：所述风干区间内壁顶部是呈对称的斜坡，斜坡上排布有PVC板，PVC板表面涂敷有TiO2涂层，所述风干区间内还设有向TiO2涂层发射紫外光的紫外照射系统。
3.根据权利要求1所述的用于PAN型刻蚀液湿法刻蚀的抑菌水洗干燥装置，其特征在于：所述超导螺线圈由NbTi合金芯以及从内向外的液氦层、第一真空层、液氮层、第二真空层组成。
4.根据权利要求1所述的用于PAN型刻蚀液湿法刻蚀的抑菌水洗干燥装置，其特征在于：所述抑菌循环泵包括电机、泵轴和叶轮，所述电机通过泵轴带动叶轮转动；所述抑菌循环泵还包括发电组件，所述发电组件包括一块实心圆盘和设置在实心圆盘左右两侧的两块中空圆盘，所述实心圆盘上安装有多个呈圆环状排列的柱状磁铁，相邻柱状磁铁的南极和北极方向相反，所述中空圆盘上安装有多个呈圆环状排列的线圈，线圈与相邻柱状磁铁一一对应；所述发电组件设置在泵轴上
5.根据权利要求1所述的用于PAN型刻蚀液湿法刻蚀的抑菌水洗干燥装置，其特征在于：所述矢量喷管由橡胶和铁粉复合材料制成，所述水箱上正对矢量喷管的位置安装有磁控圆盘，所述磁控圆盘上沿周向均匀设置有若干个电磁铁。
...【技术特征摘要】
1.一种用于pan型刻蚀液湿法刻蚀的抑菌水洗干燥装置，所述抑菌水洗干燥装置包括依次连接的第一水洗区间、第二水洗区间和风干区间；
2.根据权利要求1所述的用于pan型刻蚀液湿法刻蚀的抑菌水洗干燥装置，其特征在于：所述风干区间内壁顶部是呈对称的斜坡，斜坡上排布有pvc板，pvc板表面涂敷有tio2涂层，所述风干区间内还设有向tio2涂层发射紫外光的紫外照射系统。
3.根据权利要求1所述的用于pan型刻蚀液湿法刻蚀的抑菌水洗干燥装置，其特征在于：所述超导螺线圈由nbti合金芯以及从内向外的液氦层、第一真空层、液氮层、第二真空层组成。
4.根据权利要求1所述的用于pan型刻蚀液湿法刻蚀的抑菌水洗干燥装置，其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘丹，方亮，黄中浩，陈国良，吴芳，张淑芳，刘高斌，管飞，吴波，熊永，吴旭，林鸿涛，
申请(专利权)人：重庆大学，
类型：发明
国别省市：
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