本技术涉及清洗设备技术领域，具体为一种化学清洗槽的酸性药水补充机构，包括储液槽，储液槽的顶部连接有输送管，储液槽的一侧安装有高度调节组件，高度调节组件的一侧安装有升降板，升降板的底部安装有喷液组件，喷液组件位于清洗槽的上部，喷液组件包括T形架，T形架的下部内侧安装有喷洒板，T形架的上部内侧竖向安装有竖管，竖管的底端与喷洒板连接。该化学清洗槽的酸性药水补充机构中，喷液组件能够将药水均匀喷出至清洗槽的上部，保证药水均匀分布在清洗槽内，且通过高度调节组件能够调节喷液组件的高度，能够保证其随着液面的升高而升高，使得喷出药水的高度于液位始终保持一致，从而避免药水产生溅射造成安全问题。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及清洗设备，具体地说，涉及一种化学清洗槽的酸性药水补充机构。
技术介绍
1、在半导体制程中，必须定期或不定期地对半导体制程设备的零件进行清洗及再生，以维持半导体制程设备的效能，并可延长设备的使用寿命，清洗的方式有化学清洗、物理清洗等。
2、在进行化学清洗时，一般需要向化学清洗槽内进行酸性药水的补充，现有的补充方式为人工补充，人工通过水管向化学清洗槽内倒入药水，靠近药水倒入处的药水浓度较高，远离药水倒入处的药水浓度较低，导致清洗槽内药水分布不均匀，且倒入药水时容易产生溅射，从而造成一定的安全问题。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种化学清洗槽的酸性药水补充机构，以解决上述
技术介绍
中提出的靠近药水倒入处的药水浓度较高，远离药水倒入处的药水浓度较低，导致清洗槽内药水分布不均匀，且倒入药水时容易产生溅射，从而造成一定的安全问题的问题。
2、为实现上述目的，本技术提供了一种化学清洗槽的酸性药水补充机构，包括储液槽，所述储液槽的顶部连接有输送管，所述储液槽的一侧安装有高度调节组件，所述高度调节组件的一侧安装有升降板，所述升降板的底部安装有喷液组件，所述喷液组件位于清洗槽的上部，所述喷液组件包括t形架，所述t形架的下部内侧安装有喷洒板，所述t形架的上部内侧竖向安装有竖管，所述竖管的底端与喷洒板连接，所述竖管的顶端贯穿升降板且与输送管的一端连接。
3、作为优选，所述升降板的顶部安装有支架，所述支架的顶部开设有圆孔，所述输送管穿过圆孔。
>4、作为优选，所述喷洒板的底部表面均匀开设有若干喷口。5、作为优选，所述高度调节组件包括外筒，所述外筒的内部竖向安装有丝杆，所述丝杆上安装有丝杆滑块，所述外筒的一侧设置有升降口，所述丝杆能够转动带动丝杆滑块升降，所述丝杆滑块的一侧与升降板连接，所述升降板的一端能够沿着升降口进行升降。
6、作为优选，所述丝杆的一端通过电机驱动进行转动，所述丝杆滑块上开设有螺纹孔，所述丝杆与丝杆滑块螺纹连接。
7、作为优选，所述t形架的底部水平结构宽度与清洗槽的内部宽度相适配，所述t形架的外表面涂覆有耐腐蚀涂层。
8、作为优选，所述外筒的底端一侧与储液槽的一侧外壁焊接固定。
9、与现有技术相比，本技术的有益效果：
10、该化学清洗槽的酸性药水补充机构中，通过其中设置的喷液组件能够将药水均匀喷出至清洗槽的上部，保证药水均匀分布在清洗槽内，且通过高度调节组件能够调节喷液组件的高度，能够保证其随着液面的升高而升高，使得喷出药水的高度于液位始终保持一致，从而避免药水产生溅射造成安全问题。
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【技术保护点】
1.化学清洗槽的酸性药水补充机构，包括储液槽(2)，其特征在于：所述储液槽(2)的顶部连接有输送管(6)，所述储液槽(2)的一侧安装有高度调节组件(3)，所述高度调节组件(3)的一侧安装有升降板(4)，所述升降板(4)的底部安装有喷液组件(5)，所述喷液组件(5)位于清洗槽(1)的上部，所述喷液组件(5)包括T形架(51)，所述T形架(51)的下部内侧安装有喷洒板(52)，所述T形架(51)的上部内侧竖向安装有竖管(53)，所述竖管(53)的底端与喷洒板(52)连接，所述竖管(53)的顶端贯穿升降板(4)且与输送管(6)的一端连接。
2.根据权利要求1所述的化学清洗槽的酸性药水补充机构，其特征在于：所述升降板(4)的顶部安装有支架(41)，所述支架(41)的顶部开设有圆孔，所述输送管(6)穿过圆孔。
3.根据权利要求1所述的化学清洗槽的酸性药水补充机构，其特征在于：所述喷洒板(52)的底部表面均匀开设有若干喷口(521)。
4.根据权利要求1所述的化学清洗槽的酸性药水补充机构，其特征在于：所述高度调节组件(3)包括外筒(31)，所述外筒(31)的内部竖向安装有丝杆(32)，所述丝杆(32)上安装有丝杆滑块(33)，所述外筒(31)的一侧设置有升降口(311)，所述丝杆(32)能够转动带动丝杆滑块(33)升降，所述丝杆滑块(33)的一侧与升降板(4)连接，所述升降板(4)的一端能够沿着升降口(311)进行升降。
5.根据权利要求4所述的化学清洗槽的酸性药水补充机构，其特征在于：所述丝杆(32)的一端通过电机(34)驱动进行转动，所述丝杆滑块(33)上开设有螺纹孔，所述丝杆(32)与丝杆滑块(33)螺纹连接。
6.根据权利要求1所述的化学清洗槽的酸性药水补充机构，其特征在于：所述T形架(51)的底部水平结构宽度与清洗槽(1)的内部宽度相适配，所述T形架(51)的外表面涂覆有耐腐蚀涂层。
7.根据权利要求4所述的化学清洗槽的酸性药水补充机构，其特征在于：所述外筒(31)的底端一侧与储液槽(2)的一侧外壁焊接固定。
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【技术特征摘要】
1.化学清洗槽的酸性药水补充机构，包括储液槽(2)，其特征在于：所述储液槽(2)的顶部连接有输送管(6)，所述储液槽(2)的一侧安装有高度调节组件(3)，所述高度调节组件(3)的一侧安装有升降板(4)，所述升降板(4)的底部安装有喷液组件(5)，所述喷液组件(5)位于清洗槽(1)的上部，所述喷液组件(5)包括t形架(51)，所述t形架(51)的下部内侧安装有喷洒板(52)，所述t形架(51)的上部内侧竖向安装有竖管(53)，所述竖管(53)的底端与喷洒板(52)连接，所述竖管(53)的顶端贯穿升降板(4)且与输送管(6)的一端连接。
2.根据权利要求1所述的化学清洗槽的酸性药水补充机构，其特征在于：所述升降板(4)的顶部安装有支架(41)，所述支架(41)的顶部开设有圆孔，所述输送管(6)穿过圆孔。
3.根据权利要求1所述的化学清洗槽的酸性药水补充机构，其特征在于：所述喷洒板(52)的底部表面均匀开设有若干喷口(521)。
4.根据权利要求1所述的化学清洗...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈冠麟，
申请(专利权)人：东莞市世平光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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