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包括监测标记的光掩模制造技术

技术编号:41703650 阅读:3 留言:0更新日期:2024-06-19 12:35
提供了一种包括监测标记的光掩模,所述光掩模包括:基体;图案层,设置在基体上;以及监测标记,包括包含多个测试图案的第一子监测标记,多个测试图案被限定为穿透基体和图案层的开口。第一子监测标记包括第一测试图案至第n测试图案,第一测试图案至第n测试图案中的每个包括第一边缘和第二边缘,第一边缘和第二边缘沿着第一方向延伸并且沿着与第一方向不同的第二方向彼此面对,第一测试图案至第n测试图案之中的第j测试图案的第二边缘与第j测试图案的第一边缘沿着第二方向间隔开单位宽度的kn+j倍,单位宽度沿着第二方向是恒定的,n是大于1的自然数,j是1至n的自然数,并且k是自然数。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及一种包括监测标记的光掩模


技术介绍

1、随着多媒体的发展,显示装置变得越来越重要。显示装置包括液晶显示器(“lcd”)和有机发光显示器(“oled”)。

2、制造这种显示装置的工艺包括曝光工艺。在曝光工艺中,使用曝光装置以形成各种图案。曝光装置根据形成在光掩模上的图案使对象曝光。曝光装置不仅用于制造显示装置,而且用于用于制造光掩模的曝光工艺。

3、为了在曝光期间实现期望的分辨率水平,使用具有相对短波长的激光作为光源。诸如准分子激光、气体激光或半导体激光的原始激光束被分为多个单位激光束,并且单位激光束以扫描方式顺序地发射。此时,重要的是使每个单位激光束的强度和间隔相同。具体地,在单位激光束的相对侧的单位激光束的强度和位置确定光掩模图案的临界尺寸。

4、通常,当制造光掩模时,通过制造测试标记,以特定周期监测曝光装置的光束功率。然而,难以通过经由制造测试标记以特定周期监测曝光装置来检查实际正在制造的光掩模的光束状态。另外,当检测到光束状态的问题时,难以确认问题在什么时间点发生。因此,需要一种用于实时检查正在制造的光掩模的临界尺寸状态以及光束强度和间隔的监测标记。


技术实现思路

1、本公开的方面提供了一种包括监测标记的光掩模,所述监测标记使得能够监测多个单位激光束中的每个的强度和位置。

2、然而,本公开的方面不限于在此阐述的方面。通过参照下面给出的本公开的详细描述,本公开的以上和其它方面对于本公开所属领域的普通技术人员将变得更加明显。

3、根据本公开的方面,光掩模包括:基体;图案层,设置在基体上;以及监测标记,包括包含多个测试图案的第一子监测标记,多个测试图案被限定为穿透基体和图案层的开口,其中,第一子监测标记包括第一测试图案至第n测试图案,其中,第一测试图案至第n测试图案中的每个包括第一边缘和第二边缘,第一边缘和第二边缘沿着第一方向延伸并且沿着与第一方向不同的第二方向彼此面对,其中,第一测试图案至第n测试图案之中的第j测试图案的第二边缘与第j测试图案的第一边缘沿着第二方向间隔开单位宽度的kn+j倍,单位宽度沿着第二方向是恒定的,其中,n是大于1的自然数中的一个,j是1至n的任意自然数,并且k是自然数中的一个。

4、在实施例中,第一测试图案至第n测试图案可以沿着第一方向布置。

5、在实施例中,第一测试图案至第n测试图案的第一边缘可以沿着第一方向彼此对准。

6、在实施例中,第一测试图案至第n测试图案之中的第j测试图案可以在第二方向上具有单位宽度的kn+j倍的宽度。

7、在实施例中,第一测试图案至第n测试图案之中的第i测试图案的第二边缘可以沿着第一方向与第i+1测试图案叠置,并且i是1至n-1的自然数。

8、在实施例中,监测标记还可以包括包含多个测试图案的第二子监测标记,第二子监测标记包括第一测试图案至第m测试图案,第一测试图案至第m测试图案中的每个包括第三边缘和第四边缘,第三边缘和第四边缘沿着第一方向延伸并且沿着第二方向彼此面对,第二子监测标记的第一测试图案至第m测试图案之中的第p测试图案的第四边缘与第三边缘沿着与第二方向相反的方向间隔开单位宽度的qm+p倍,沿着第二方向从第三边缘到第四边缘的方向与沿着第二方向从第一边缘到第二边缘的方向相反,并且m是大于1的自然数中的一个,p是1至m的任意自然数,并且q是自然数中的一个。

9、在实施例中,第一测试图案至第m测试图案可以沿着第一方向布置。

10、在实施例中,第一测试图案至第m测试图案的第三边缘可以沿着第一方向彼此对准。

11、在实施例中,第一测试图案至第m测试图案之中的第p测试图案可以在第二方向上具有单位宽度的qm+p倍的宽度。

12、在实施例中,第一子监测标记的第一测试图案至第n测试图案可以沿着第一方向顺序地设置,并且第二子监测标记的第一测试图案至第m测试图案可以沿着与第一方向相反的方向顺序地设置。

13、在实施例中,第一子监测标记的第一测试图案至第n测试图案可以分别与第二子监测标记的第m测试图案至第一测试图案在第二方向上叠置。

14、在实施例中,第二子监测标记可以与第一子监测标记点对称。

15、在实施例中,第一子监测标记可以包括多个位置图案,多个位置图案被构造为监测第一子监测标记的多个测试图案的位置信息,并且第一子监测标记的多个位置图案中的每个可以设置在多个测试图案中的对应测试图案的一侧。

16、在实施例中,多个测试图案可以由从曝光装置发射的多个单位激光束形成,并且单位宽度可以等于每个单位激光束的宽度。

17、在实施例中,光掩模可以包括:主区域,与形成在显示面板上的电路图案相同的主图案设置在主区域中;以及外围区域,与主区域相邻地设置,监测标记可以设置在外围区域中。

18、根据本公开的方面,光掩模包括:基体;图案层,设置在基体上;以及子监测标记,包括多个测试图案,多个测试图案被限定为穿透基体和图案层的开口,其中,子监测标记包括第一测试图案至第n测试图案,其中,第一测试图案至第n测试图案中的每个包括第一边缘和第二边缘,第一边缘和第二边缘沿着第一方向延伸并且沿着与第一方向不同的第二方向彼此面对,其中,第一测试图案至第n测试图案之中的第i测试图案的第一边缘与第i-1测试图案的第一边缘沿着第二方向间隔开单位宽度,单位宽度沿着第二方向是恒定的,其中,第一测试图案至第n测试图案中的每个的第二边缘与同一测试图案的第一边缘沿着第二方向间隔开单位宽度的kn+1倍,其中,n是大于1的自然数中的一个,i是2至n的任意自然数,并且k是自然数中的一个。

19、在实施例中,第一测试图案至第n测试图案中的每个可以在第二方向上具有单位宽度的kn+1倍的宽度。

20、在实施例中,第一测试图案至第n测试图案可以沿着第一方向布置,并且第i测试图案的第一边缘可以沿着第一方向与第i-1测试图案叠置。

21、根据本公开的方面,光掩模包括:基体;图案层,设置在基体上;以及子监测标记,包括多个测试图案,多个测试图案均包括穿透基体和图案层的多个开口,其中,子监测标记包括第一测试图案至第n测试图案,其中,第一测试图案至第n测试图案中的每个包括多个开口和多个掩模区域,多个开口和多个掩模区域沿着第一方向延伸并且沿着与第一方向不同的第二方向交替地布置,并且第一测试图案至第n测试图案中的每个包括第一最外边界和第二最外边界,在形成在多个开口与多个掩模区域之间的多个边界之中,第一最外边界和第二最外边界位于第二方向上的相对最外位置处并且彼此面对,其中,第一测试图案至第n测试图案的第一最外边界沿着第一方向彼此对准,其中,第一测试图案至第n测试图案之中的第j测试图案的第二最外边界与第j测试图案的第一最外边界沿着第二方向间隔开单位宽度的kn+j倍,单位宽度沿着第二方向是恒定的,其中,n是大于1的自然数中的一个,j是1至n的任意自然数,并且k是自然数中的一个。本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光掩模,所述光掩模包括:

2.根据权利要求1所述的光掩模,

3.根据权利要求2所述的光掩模,

4.根据权利要求1所述的光掩模,

5.根据权利要求1所述的光掩模,

6.根据权利要求1所述的光掩模,

7.根据权利要求6所述的光掩模,

8.根据权利要求7所述的光掩模,

9.根据权利要求6所述的光掩模,

10.根据权利要求6所述的光掩模,

11.根据权利要求10所述的光掩模,

12.根据权利要求10所述的光掩模,

13.根据权利要求1所述的光掩模,

14.根据权利要求1所述的光掩模,

15.根据权利要求1所述的光掩模,所述光掩模包括:

16.一种光掩模,所述光掩模包括:

17.根据权利要求16所述的光掩模,

18.根据权利要求16所述的光掩模,

19.一种光掩模,所述光掩模包括:

20.根据权利要求19所述的光掩模,

【技术特征摘要】

1.一种光掩模,所述光掩模包括:

2.根据权利要求1所述的光掩模,

3.根据权利要求2所述的光掩模,

4.根据权利要求1所述的光掩模,

5.根据权利要求1所述的光掩模,

6.根据权利要求1所述的光掩模,

7.根据权利要求6所述的光掩模,

8.根据权利要求7所述的光掩模,

9.根据权利要求6所述的光掩模,

10.根据权利要求6所述的光掩模,

11.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员:李润烈
申请(专利权)人:三星显示有限公司
类型:发明
国别省市:

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