【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及合金的抛光，具体涉及一种低腐蚀量的铝合金化学抛光液及其制备和使用方法。
技术介绍
1、铝合金化学抛光是指利用其在酸性或碱性电解质溶液中的选择性自溶解作用，以降低其表面粗糙度、ph值的化学加工方法，这种抛光方法具有设备简单、不受制件外型尺寸限制，抛光速度快和加工成本低等优点。现有的电子行业，铝合金阳极化学抛光的方法主要是采用酸性抛光，以磷酸和硫酸体系为主，由于大量使用磷酸，成本高；因此，不少研究均使用铝合金的碱性化学抛光，但碱性化学抛光的难点在于其对铝合金产品的腐蚀量比酸性化抛更大，这一点制约了碱性化学抛光在轻薄型电子产品行业的广泛应用，因此，解决碱性化学抛光对铝合金材料的腐蚀量问题，是碱性化学抛光工艺发展趋势的主要课题。
2、公开号为cn116377438a的中国专利公开了一种铝合金表面处理用抛光液，该抛光液由以下的组分配制而成：氢氧化钠，硝酸钠，缓蚀剂，表面活性剂，硫酸镁，余量为水。其中，缓蚀剂由丙三醇和钨酸钠组成，表面活性剂由葡萄糖酸钠和十二烷基硫酸钠组成。虽然使用本专利技术抛光液抛光后的6060铝合金的反射率为96-99.8％，抛光后的铝合金板表面单位面积的重量损失为7.8-11.6g/m2，抛光效果优良且抛光过程环保，通过采用碱性抛光液取代酸性抛光液，避免了抛光液中产生有毒的黄色气体等污染，也减少了磷酸根离子产生的水污染等问题。但是以十二烷基硫酸钠为主的表面活性剂很难抑制泡沫的产生，且比例难以调控，不利于生产的连续性，甚至会影响产品表面的粗糙度，降低产品品质，且硫酸镁虽有整平、增亮作用，但对氢氧
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于克服现有技术的缺点，提供一种低腐蚀量的铝合金化学抛光液及其制备和使用方法。
2、本专利技术的目的通过以下技术方案来实现：一种低腐蚀量的铝合金化学抛光液，它包括以下重量份的原料：
3、
4、
5、作为优选技术方案，它包括以下重量份的原料：
6、
7、进一步地，所述无机碱为氢氧化钠和/或氢氧化钾。
8、进一步地，所述增塑剂为聚乙二醇、丙三醇、三乙醇胺、吐温80、山梨糖醇中的一种或多种。
9、进一步地，所述促进剂为硫酸锌、氧化锌、硫酸氧钛、硫酸钠中的一种或多种。
10、进一步地，所述缓蚀剂为钨酸钠、硫脲、偏磷酸钠中的一种或多种。
11、进一步地，所述表面活性剂为木质素磺酸钠、油酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚op-10中的一种或多种。
12、上述低腐蚀量的铝合金化学抛光液的制备方法，它包括以下步骤：
13、s1.备料：按配方比例称取各原料，备用；
14、s2.一次溶解：将缓蚀剂和促进剂依次加入去离子水中，搅拌使其完全溶解；取表面活性剂加入溶液中，搅拌使其溶解并混合均匀；
15、s3.二次溶解：取无机碱，分2～3批次缓慢加入到步骤2中的混合溶液中，持续维持600～1000r/min搅拌5～10min，外加冷却控制温度在60～90℃至无机碱溶解完全，保持温度在60～90℃，取增塑剂再加入到混合溶液中，600～1000r/min搅拌1～3min，冷却至室温，即制得低腐蚀量的铝合金化学抛光液。
16、上述低腐蚀量的铝合金化学抛光液的使用方法，它包括以下步骤：
17、s1.建浴：以低腐蚀量的铝合金化学抛光液原液按100％比例建浴；
18、s2.溶铝：设定抛光液温度65～75℃，加入纯铝丝进行溶铝，使铝离子浓度为15～35g/l；
19、s3.补液：溶铝后抛光液降温至60～65℃，补加液体调整抛光液的比重至1.28～1.35，其中，所述补加液体为抛光液或/和去离子水；当补加液为抛光液和去离子水的混合液时，优选为抛光液与去离子水的体积比为1:3～6；
20、s4.化抛：将待抛光的工件进行预处理，然后放入补液后的抛光液中进行化学抛光，所述化学抛光的温度58～78℃，抛光时间为2～6min；
21、s5.中和：将化抛后的工件进行浸入中和液中进行中和，所述中和液为硫酸溶液，中和的温度为25～40℃，中和时间为2～5min。
22、进一步地，步骤s4所述的预处理为除油和除灰，所述除油的步骤为将预处理的工件放入脱脂剂中浸泡3～5min，脱脂剂的温度为40～60℃，所述脱脂剂为磺酸钠和焦磷酸钠的混合溶液；所述除灰的步骤为将除油后的工件放入硫酸溶液中进行除灰，所述硫酸溶液的温度为25～40℃，除灰的时间为2～5min。
23、本专利技术中：
24、所述无机碱提供了氢氧根，氢氧根可以整平工件表面，增加铝片光亮度；
25、所述增塑剂可以填充分子间间隙，减少分子间亲和力，改善溶液流动性和润滑性；
26、所述促进剂具有提高反应速率作用，可以降低抛光温度和反应时间，达到快速光亮、均匀整平的效果。如氧化锌、硫酸钛钾优先在腐蚀凹坑处吸附，使凹坑处腐蚀速率低，高峰处腐蚀速率高，从而起到较好的整平作用，提高抛光的平整性和光亮度；硫酸锌和硫酸钠能够增加抛光的均匀性，降低抛光的温度，防止过腐蚀；
27、所述缓蚀剂具有降低溶铝速度的作用，使反应稳定、均一；如钨酸钠在铝材表面与铝离子作用，生成氧化物或氢氧化物氧化膜覆盖在阳极上形成保护膜，抑制了铝的溶解；硫脲、偏磷酸钠与铝在表面的阴极区反应，沉积成膜，随着膜的增厚，阴极释放电子的反应被阻挡，反应速率减慢；
28、所述表面活性剂具有较低的渗透性，可以在铝材表面形成稳固气体屏障，进一步增强缓蚀效果，降低腐蚀量。同时所述缓蚀剂表面张力较低、不会产生大量泡沫，使得操作和生产更加顺畅和有效。
29、本专利技术具有以下优点：本专利技术公开了一种低腐蚀量的铝合金化学抛光液，由无机碱、增塑剂、促进剂、缓蚀剂、表面活性剂和去离子水组成，本专利技术通过合理的配伍制得的抛光液对铝合金进行抛光时产生的泡沫少，使得操作和生产更加顺畅和有效；抛光效果可达到酸性化学抛光的腐蚀量水平，并且不会形成过腐蚀，对比现有市售碱性化学抛光液对工件的腐蚀量更低，具有明显优势。
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1.一种低腐蚀量的铝合金化学抛光液，其特征在于，它包括以下重量份的原料：
2.根据权利要求1所述的一种低腐蚀量的铝合金化学抛光液，其特征在于，它包括以下重量份的原料：
3.根据权利要求1或2所述的一种低腐蚀量的铝合金化学抛光液，其特征在于，所述无机碱为氢氧化钠和/或氢氧化钾。
4.根据权利要求1或2所述的一种低腐蚀量的铝合金化学抛光液，其特征在于，所述增塑剂为聚乙二醇、丙三醇、三乙醇胺、吐温80、山梨糖醇中的一种或多种。
5.根据权利要求1或2所述的一种低腐蚀量的铝合金化学抛光液，其特征在于，所述促进剂为硫酸锌、氧化锌、硫酸氧钛、硫酸钠中的一种或多种。
6.根据权利要求1或2所述的一种低腐蚀量的铝合金化学抛光液，其特征在于，所述缓蚀剂为钨酸钠、硫脲、偏磷酸钠中的一种或多种。
7.根据权利要求1或2所述的一种低腐蚀量的铝合金化学抛光液，其特征在于，所述表面活性剂为木质素磺酸钠、油酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚OP-10中的一种或多种。
8.根据权利要求1或2所述的一种低腐蚀量的铝合金化学抛光液的制备方法，其
9.根据权利要求1或2所述的一种低腐蚀量的铝合金化学抛光液的使用方法，其特征在于，它包括以下步骤：
10.根据权利要求9所述的一种低腐蚀量的铝合金化学抛光液的使用方法，其特征在于，步骤S4所述的预处理为除油和除灰，所述除油的步骤为将预处理的工件放入脱脂剂中浸泡3～5min，脱脂剂的温度为40～60℃，所述脱脂剂为磺酸钠和焦磷酸钠的混合溶液；所述除灰的步骤为将除油后的工件放入硫酸溶液中进行除灰，所述硫酸溶液的温度为25～40℃，除灰的时间为2～5min。
...【技术特征摘要】
1.一种低腐蚀量的铝合金化学抛光液，其特征在于，它包括以下重量份的原料：
2.根据权利要求1所述的一种低腐蚀量的铝合金化学抛光液，其特征在于，它包括以下重量份的原料：
3.根据权利要求1或2所述的一种低腐蚀量的铝合金化学抛光液，其特征在于，所述无机碱为氢氧化钠和/或氢氧化钾。
4.根据权利要求1或2所述的一种低腐蚀量的铝合金化学抛光液，其特征在于，所述增塑剂为聚乙二醇、丙三醇、三乙醇胺、吐温80、山梨糖醇中的一种或多种。
5.根据权利要求1或2所述的一种低腐蚀量的铝合金化学抛光液，其特征在于，所述促进剂为硫酸锌、氧化锌、硫酸氧钛、硫酸钠中的一种或多种。
6.根据权利要求1或2所述的一种低腐蚀量的铝合金化学抛光液，其特征在于，所述缓蚀剂为钨酸钠、硫脲、偏磷酸钠中的一种或多种。
<...【专利技术属性】
技术研发人员：杨静，罗建华，谢大成，殷石见，
申请(专利权)人：立铠精密科技盐城有限公司，
类型：发明
国别省市：
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