【技术实现步骤摘要】
本申请属于电子设备，具体涉及装饰膜及其制备方法、壳体组件和电子设备。
技术介绍
1、随着电子设备的不断发展，用户对壳体外观效果的要求也越来越高，单一色调的外观已经无法满足用户需求，因此需要对电子设备壳体的外观效果进行改进，以避免同质化现象。
技术实现思路
1、鉴于此，本申请提供了一种装饰膜及其制备方法、壳体组件和电子设备。
2、第一方面，本申请提供了一种装饰膜，包括依次层叠设置的基材、固化层和镀膜层，所述固化层的原料包括消影胶，所述固化层的折射率大于或等于1.7。
3、第二方面，本申请提供了一种装饰膜的制备方法，包括：在基材表面涂布消影胶，所述消影胶经固化后形成固化层，所述固化层的折射率大于或等于1.7；在所述固化层背离所述基材的表面进行镀膜形成镀膜层，得到装饰膜。
4、第三方面，本申请提供了一种壳体组件，包括壳体以及设置在壳体表面的装饰膜，所述装饰膜包括第一方面所述的装饰膜或第二方面所述的制备方法制得的装饰膜。
5、第四方面，本申请提供了一种电子设备，包括第三方面所述的壳体组件。
6、本申请采用消影胶形成的固化层既提高了镀膜层在装饰膜中的结合力，同时镀膜层的设置使得装饰膜具有光影流动的视觉效果，同时消影胶形成的固化层的折射率高，可以与镀膜层进一步搭配改变装饰膜的外观效果；因此，本申请提供的装饰膜的外观呈现光影流动的视觉效果，同时内部结合力和可靠性高，有利于装饰膜的使用。本申请提供的装饰膜的制备方法简单，操作方便，可以实现
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1.一种装饰膜，其特征在于，包括依次层叠设置的基材、固化层和镀膜层，所述固化层的原料包括消影胶，所述固化层的折射率大于或等于1.7。
2.如权利要求1所述的装饰膜，其特征在于，所述镀膜层包括打底层，所述打底层贴合所述固化层设置，所述打底层的材质包括硅、二氧化硅和五氧化二铌中的至少一种；
3.如权利要求2所述的装饰膜，其特征在于，所述固化层朝向所述镀膜层的表面的平整度小于或等于15nm。
4.如权利要求1所述的装饰膜，其特征在于，按重量份数计，所述消影胶包括10份-20份的丙烯酸树脂、45份-65份的有机溶剂、1份-3份的光引发剂以及5份-15份的无机填料，所述无机填料的折射率大于或等于2。
5.如权利要求4所述的装饰膜，其特征在于，按重量份数计，所述消影胶还包括1份-15份的二氧化硅。
6.如权利要求1所述的装饰膜，其特征在于，所述装饰膜还包括油墨层，所述油墨层设置在所述镀膜层背离所述固化层的一侧表面。
7.一种装饰膜的制备方法，其特征在于，包括：
8.如权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述
9.一种壳体组件，其特征在于，包括壳体以及设置在壳体表面的装饰膜，所述装饰膜包括权利要求1-6任一项所述的装饰膜或权利要求7-8任一项所述的制备方法制得的装饰膜。
10.一种电子设备，其特征在于，包括权利要求9所述的壳体组件。
...【技术特征摘要】
1.一种装饰膜，其特征在于，包括依次层叠设置的基材、固化层和镀膜层，所述固化层的原料包括消影胶，所述固化层的折射率大于或等于1.7。
2.如权利要求1所述的装饰膜，其特征在于，所述镀膜层包括打底层，所述打底层贴合所述固化层设置，所述打底层的材质包括硅、二氧化硅和五氧化二铌中的至少一种；
3.如权利要求2所述的装饰膜，其特征在于，所述固化层朝向所述镀膜层的表面的平整度小于或等于15nm。
4.如权利要求1所述的装饰膜，其特征在于，按重量份数计，所述消影胶包括10份-20份的丙烯酸树脂、45份-65份的有机溶剂、1份-3份的光引发剂以及5份-15份的无机填料，所述无机填料的折射率大于或等于2。
5.如...
【专利技术属性】
技术研发人员：田彪，
申请(专利权)人：深圳市万普拉斯科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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