【技术实现步骤摘要】
本申请属于压印，尤其涉及一种纳米压印设备。
技术介绍
1、随着在半导体制造技术的发展，集成电路的尺寸要求越来越小，对光刻技术的要求越来越高，导致光刻制造的成本越来越高昂。为解决这一技术问题，该领域提出纳米压印技术。
2、纳米压印技术是指借助于印模，把微/纳米结构图形通过压力压印到相应的基材上。目前，由于纳米压印技术具有分辨率高、产量高、低成本的特点，被广泛应用于微、纳米结构制造。
3、纳米压印技术通常分为热压印和紫外(uv)压印两种方式，由于紫外压印有结构保真度高、微结构转印深宽比高等特点，而被广泛应用。紫外压印主要包括辊对辊uv纳米压印、辊对平uv纳米压印和平对平纳米压印三种方式。
4、目前，对于软模具与硬质基材配合的应用场景，主要采用平对平纳米压印的方式。但是，采用平对平纳米压印方式，将软模具上的图案转印到硬质基材时，存在容易在胶层内形成气泡、并且压印平整度较差的问题。
技术实现思路
1、本申请提供一种纳米压印设备，可以解决现有技术中采用平对平纳米压印方式，将软模具上的图案转印到硬质基材时，存在容易在胶层内形成气泡、并且压印平整度较差的问题。
2、本申请提供的一种纳米压印设备，包括：辊压工位、压印工位、第一工件移动平台和模具装夹载体；所述第一工件移动平台，用于承载点胶工位点胶后的基材；所述模具装夹载体的第一端与所述第一工件移动平台的第一端铰接；所述辊压工位包括辊压机构，所述辊压机构横跨在所述第一工件移动平台上方；所述压印工位包括压
3、在一种可实现方式中，还包括压印操作平台和第一传输导轨；所述第一传输导轨位于所述压印操作平台上，用于供所述第一工件移动平台在辊压工位与压印工位之间传输；其中，所述辊压工位和所述压印工位沿所述第一传输导轨的长度方向依次设置；所述辊压机构横跨在所述第一传输导轨上方。
4、在一种可实现方式中，当所述第一工件移动平台朝向所述模具装夹载体的第一端方向运动时，所述模具装夹载体与所述第一工件移动平台之间的夹角逐渐减小，所述模具装夹载体上安装有软模具，所述辊压机构由模具装夹载体的第一端逐渐对所述模具装夹载体上软模具施压，使所述软模具与所述基材表面的胶层贴合；
5、当所述第一工件移动平台背向所述模具装夹载体的第一端方向运动时，所述模具装夹载体与所述第一工件移动平台之间的夹角逐渐增大，使所述软模具与所述基材表面的胶层逐渐分离。
6、在一种可实现方式中，所述模具装夹载体包括主体框架、旋转机构、固定装置和收紧装置；所述固定装置和所述收紧装置分设在主体框架相对的两端；所述旋转机构设置于所述固定装置的外侧，所述旋转机构用于带动所述主体框架绕所述旋转机构的旋转轴转动。
7、在一种可实现方式中，所述辊压机构包括压辊以及分设于所述压辊两端的高度调节机构；所述高度调节机构包括第一楔形滑块、第一光栅位移传感器和第一驱动装置；所述压辊的两端分别架设于所述第一楔形滑块的楔形面上，其中，所述压辊与所述楔形面局部区域抵接；所述第一楔形滑块分别与所述第一光栅位移传感器和所述第一驱动装置连接。
8、在一种可实现方式中，所述压印工位还包括调平装置和升降装置；当所述第一工件移动平台位于所述压印工位时，所述压印平台位于所述第一工件移动平台与所述调平装置之间；所述调平装置用于调整所述压印平台相对于所述第一工件移动平台上基材的平行度；所述升降装置与所述压印平台连接，用于带动所述压印平台在垂直于所述压印操作平台方向产生位移。
9、在一种可实现方式中，所述调平装置包括分布在所述压印平台顶端的多个伺服电机和多个位置传感器。
10、在一种可实现方式中，所述第一工件移动平台包括透光区域，所述uv光源布置在所述压印操作平台底部，所述uv光源用于通过所述透光区域，固化位于所述透光区域上方的基材上的胶层，所述基材为透明基板。
11、在一种可实现方式中，所述压印平台为透光平台，所述uv光源布置在所述压印平台上方，所述uv光源用于通过所述压印平台，固化位于所述压印平台下方的基材上的胶层。
12、在一种可实现方式中，所述点胶工位包括：点胶操作平台、第二工件移动平台、第二传输导轨、点胶机构和刮涂机构；所述第二传输导轨位于所述点胶操作平台上，用于供所述第二工件移动平台在点胶区域与刮涂区域之间传输，其中，所述点胶区域和刮涂区域沿所述第二传输导轨的长度方向依次设置；
13、所述点胶区域包括点胶头和第三传输导轨，所述第三传输导轨位于所述第二传输导轨上方，并与所述第二传输导轨垂直设置；所述点胶头一端悬空于所述第二传输导轨上方，另一端与所述第三传输导轨连接；所述第三传输导轨用于供所述点胶头在所述第三传输导轨的长度方向移动；
14、所述刮涂区域包括刮涂机构，所述刮涂机构包括刮涂辊、第二楔形滑块、第二光栅位移传感器和第二驱动装置；
15、所述刮涂辊的两端分别架设于所述第二楔形滑块的楔形面上，其中，所述刮涂辊与所述第二楔形滑块的楔形面局部区域抵接；
16、所述第二楔形滑块分别与所述第二光栅位移传感器和所述第二驱动装置连接。
17、在一种可实现方式中，所述第二工件移动平台上设有转印基材承载平台，所述转印承载平台用于承载待转印基材；所述转印承载平台的底部连接有顶升装置和旋转装置。
18、综上，本申请提供的纳米压印设备具有如下有益效果：通过模具装夹载体与辊压机构的配合，将模具装夹载体上的软模具与基材上的胶层由一端相另一端逐渐贴合并预压一定深度，然后，再利用压印平台对软模具施压。这样，既可以保证软模具与胶层之间没有气泡，又能够保证压印的平整度，还能解决脱模困难的问题。
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1.一种纳米压印设备，其特征在于，包括：辊压工位、压印工位、第一工件移动平台和模具装夹载体；
2.根据权利要求1所述的纳米压印设备，其特征在于，当所述第一工件移动平台朝向所述模具装夹载体的第一端方向运动时，所述模具装夹载体与所述第一工件移动平台之间的夹角逐渐减小，所述模具装夹载体上安装有软模具，所述辊压机构由模具装夹载体的第一端逐渐对所述模具装夹载体上软模具施压，使所述软模具与所述基材表面的胶层贴合；
3.根据权利要求1所述的纳米压印设备，其特征在于，所述模具装夹载体包括主体框架、旋转机构、固定装置和收紧装置；
4.根据权利要求1所述的纳米压印设备，其特征在于，所述辊压机构包括压辊以及分设于所述压辊两端的高度调节机构；
5.根据权利要求1所述的纳米压印设备，其特征在于，所述压印工位还包括调平装置和升降装置；
6.根据权利要求5所述的纳米压印设备，其特征在于，所述调平装置包括分布在所述压印平台顶端的多个伺服电机和多个位置传感器。
7.根据权利要求1所述的纳米压印设备，其特征在于，所述第一工件移动平台包括透光区域
8.根据权利要求1或7所述的纳米压印设备，其特征在于，所述压印平台为透光平台，所述UV光源布置在所述压印平台上方，所述UV光源用于通过所述压印平台，固化位于所述压印平台下方的基材上的胶层。
9.根据权利要求1所述的纳米压印设备，其特征在于，所述点胶工位包括：点胶操作平台、第二工件移动平台、第二传输导轨、点胶机构和刮涂机构；
10.根据权利要求9所述的纳米压印设备，其特征在于，所述第二工件移动平台上设有转印基材承载平台，所述转印承载平台用于承载待转印基材；
...【技术特征摘要】
1.一种纳米压印设备，其特征在于，包括：辊压工位、压印工位、第一工件移动平台和模具装夹载体；
2.根据权利要求1所述的纳米压印设备，其特征在于，当所述第一工件移动平台朝向所述模具装夹载体的第一端方向运动时，所述模具装夹载体与所述第一工件移动平台之间的夹角逐渐减小，所述模具装夹载体上安装有软模具，所述辊压机构由模具装夹载体的第一端逐渐对所述模具装夹载体上软模具施压，使所述软模具与所述基材表面的胶层贴合；
3.根据权利要求1所述的纳米压印设备，其特征在于，所述模具装夹载体包括主体框架、旋转机构、固定装置和收紧装置；
4.根据权利要求1所述的纳米压印设备，其特征在于，所述辊压机构包括压辊以及分设于所述压辊两端的高度调节机构；
5.根据权利要求1所述的纳米压印设备，其特征在于，所述压印工位还包括调平装置和升降装置；
6.根据权利要求5所述的纳米压印设备...
【专利技术属性】
技术研发人员：魏国军，卢国，周杨，范广飞，魏中文，毛立华，陈林森，
申请(专利权)人：苏州苏大维格科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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