System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 光控膜制造技术_技高网

光控膜制造技术

技术编号:41671051 阅读:4 留言:0更新日期:2024-06-14 15:28
一种光控膜包括跨越光控膜布置的突起部的二维阵列。突起部的傅里叶变换频谱的量值的平方包括由一个或多个谷分开的多个相异峰。该峰和该一个或多个谷具有相应的平均值Pavg和Vavg,Pavg/Vavg≥5,使得当来自基本上朗伯光源的光入射在光控膜上时,该光控膜透射入射光,所透射的光沿着透射轴线传播并且具有强度分布,该强度分布在强度分布的包括透射轴线的每个截面中具有小于约120度的半峰全宽。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】


技术介绍

1、光控膜通常可以理解为这样的膜,该膜被配置为控制透射穿过该膜的光的角分布。光控膜可以包括多个百叶窗(louver),并且可以控制光在垂直于百叶窗的方向上的分布。光控膜可用作防窥片。


技术实现思路

1、在一些方面,本专利技术提供了一种光控膜,该光控膜包括跨越该光控膜布置的突起部的二维阵列。突起部的傅里叶变换频谱的量值的平方包括由一个或多个谷分开的多个相异峰。峰和一个或多个谷可以具有相应的平均值pavg和vavg,pavg/vavg≥5,使得当来自基本上朗伯光源的光入射在光控膜上时,光控膜透射入射光,所透射的光沿着透射轴线传播并且具有强度分布,该强度分布在强度分布的包括透射轴线的每个截面中具有小于约120度的半峰全宽(fwhm)。

2、在一些方面,本专利技术提供了一种光控膜,该光控膜包括跨越该光控膜布置的突起部的二维阵列。突起部的傅里叶变换频谱的量值的平方可以包括由一个或多个谷分开的多个规则地布置的相异峰,使得当来自基本上朗伯光源的光入射在光控膜上时,光控膜透射入射光,所透射的光沿着透射轴线传播并且具有强度分布,该强度分布在强度分布的包括透射轴线的每个截面中具有小于约120度的半峰全宽。

3、这些和其他方面将从以下详细描述中变得显而易见。但是,在任何情况下,本简要概述都不应解释为限制可要求保护的主题。

【技术保护点】

1.一种光控膜,所述光控膜包括跨越所述光控膜布置的突起部的二维阵列,所述突起部的傅里叶变换频谱的量值的平方包括由一个或多个谷分开的多个相异峰,所述峰和所述一个或多个谷具有相应的平均值Pavg和Vavg,Pavg/Vavg≥5,使得当来自基本上朗伯光源的光入射在所述光控膜上时,所述光控膜透射入射光,所透射的光沿着透射轴线传播并且具有强度分布,所述强度分布在所述强度分布的包括所述透射轴线的每个截面中具有小于约120度的半峰全宽(FWHM)。

2.根据权利要求1所述的光控膜,其中所述强度分布在所述强度分布的包括所述透射轴线的不同截面中具有不同的FWHM。

3.根据权利要求1所述的光控膜,其中沿着至少一个角方向,所述突起部的所述傅里叶变换频谱的所述量值的所述平方包括所述多个相异峰中的分开至少0.1弧度/微米的两个相异峰。

4.根据权利要求1所述的光控膜,其中所述突起部布置在(x,y)空间中,并且所述突起部的所述傅里叶变换频谱的所述量值的所述平方在对应的(kx,ky)空间中,其中kx和ky是相应的x方向和y方向的对应空间频率,并且其中所述多个相异峰中的峰规则地布置在所述(kx,ky)空间中。

5.根据权利要求4所述的光控膜,其中对于所述(kx,ky)空间中的kx和ky每者均为0的原点,所述原点与所述多个相异峰中的所述相异峰之间的最小距离大于约0.025弧度/微米。

6.根据权利要求1至5中的任一项所述的光控膜,其中所述突起部中的每个突起部是基本上透光的,并且包括基部、顶部和将所述顶部连接至所述基部的一个或多个侧面。

7.根据权利要求6所述的光控膜,其中对于至少50%的所述突起部中的每个突起部,所述突起部的所述一个或多个侧面的总面积的至少80%被基本上吸收光的材料涂覆。

8.根据权利要求7所述的光控膜,其中当从所述突起部的顶侧观察所述光控膜时,所述突起部中的每个突起部的所述顶部被不同的对应闭合环围绕,并且其中所述闭合环中的每个闭合环完全被同一公共区域围绕。

9.根据权利要求8所述的光控膜,其中对于基本上法向地入射的光和约420nm至约680nm的可见波长范围,所述光控膜具有如下的平均光学透射率:

10.一种光控膜,所述光控膜包括跨越所述光控膜布置的突起部的二维阵列,所述突起部的傅里叶变换频谱的量值的平方包括由一个或多个谷分开的多个规则地布置的相异峰,使得当来自基本上朗伯光源的光入射在所述光控膜上时,所述光控膜透射入射光,所透射的光沿着透射轴线传播并且具有强度分布,所述强度分布在所述强度分布的包括所述透射轴线的每个截面中具有小于约120度的半峰全宽。

11.根据权利要求10所述的光控膜,其中所述突起部中的每个突起部是基本上透光的,并且包括基部、顶部和将所述顶部连接至所述基部的一个或多个侧面,其中对于至少50%的所述突起部中的每个突起部,所述突起部的所述一个或多个侧面被基本上吸收光的材料涂覆以限定光吸收环形壁,所述环形壁中的每个环形壁跨越至少350度的总方位角并且限定有在所述环形壁的相对的第一开口端与第二开口端之间延伸的中空内部,所述环形壁中的每个环形壁的壁具有小于约2微米的平均厚度,使得所述环形壁的在所述光控膜的主表面上的总投影面积小于所述主表面的总面积的约40%。

12.根据权利要求11所述的光控膜,其中所述环形壁中的每个环形壁与所述光控膜的法线成小于约10度的角度。

13.根据权利要求10所述的光控膜,其中所述突起部中的每个突起部是基本上透光的,并且包括基部、顶部和将所述顶部连接至所述基部的一个或多个侧面,并且其中对于至少50%的所述突起部中的每个突起部,所述突起部的所述一个或多个侧面的总面积的至少80%被基本上吸收光的材料涂覆。

14.根据权利要求13所述的光控膜,其中当从所述突起部的顶侧观察所述光控膜时,所述突起部中的每个突起部的所述顶部被不同的对应闭合环围绕,并且其中所述闭合环中的每个闭合环完全被同一公共区域围绕。

15.根据权利要求14所述的光控膜,其中对于基本上法向地入射的光和约420nm至约680nm的可见波长范围,所述光控膜具有如下的平均光学透射率:

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【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种光控膜,所述光控膜包括跨越所述光控膜布置的突起部的二维阵列,所述突起部的傅里叶变换频谱的量值的平方包括由一个或多个谷分开的多个相异峰,所述峰和所述一个或多个谷具有相应的平均值pavg和vavg,pavg/vavg≥5,使得当来自基本上朗伯光源的光入射在所述光控膜上时,所述光控膜透射入射光,所透射的光沿着透射轴线传播并且具有强度分布,所述强度分布在所述强度分布的包括所述透射轴线的每个截面中具有小于约120度的半峰全宽(fwhm)。

2.根据权利要求1所述的光控膜,其中所述强度分布在所述强度分布的包括所述透射轴线的不同截面中具有不同的fwhm。

3.根据权利要求1所述的光控膜,其中沿着至少一个角方向,所述突起部的所述傅里叶变换频谱的所述量值的所述平方包括所述多个相异峰中的分开至少0.1弧度/微米的两个相异峰。

4.根据权利要求1所述的光控膜,其中所述突起部布置在(x,y)空间中,并且所述突起部的所述傅里叶变换频谱的所述量值的所述平方在对应的(kx,ky)空间中,其中kx和ky是相应的x方向和y方向的对应空间频率,并且其中所述多个相异峰中的峰规则地布置在所述(kx,ky)空间中。

5.根据权利要求4所述的光控膜,其中对于所述(kx,ky)空间中的kx和ky每者均为0的原点,所述原点与所述多个相异峰中的所述相异峰之间的最小距离大于约0.025弧度/微米。

6.根据权利要求1至5中的任一项所述的光控膜,其中所述突起部中的每个突起部是基本上透光的,并且包括基部、顶部和将所述顶部连接至所述基部的一个或多个侧面。

7.根据权利要求6所述的光控膜,其中对于至少50%的所述突起部中的每个突起部,所述突起部的所述一个或多个侧面的总面积的至少80%被基本上吸收光的材料涂覆。

8.根据权利要求7所述的光控膜,其中当从所述突起部的顶侧观察所述光控膜时,所述突起部中的每个突起部的所述顶部被不同的对应闭合环围绕,并且其中所述闭合环中的每个闭合环完全被同一公共区域围绕。

9.根据权利要求8所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:雷蒙德·J·肯尼耶胡达·E·阿尔塔贝特约翰·M·德叙泰肯尼思·A·P·梅尔尼古拉斯·C·埃里克森马丁·B·沃克詹姆斯·M·纳尔逊丹尼尔·J·施密特凯莱布·T·纳尔逊
申请(专利权)人:三M创新有限公司
类型:发明
国别省市:

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