【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及新型的含氟代聚醚基的丙烯酸化合物和含有这样的化合物的表面处理剂。
技术介绍
1、已知某种含氟代聚醚基的硅烷化合物用于基材的表面处理时，能够提供优异的拨水性、拨油性、防污性等。由含有含氟代聚醚基的硅烷化合物的表面处理剂得到的层(以下，也称为“表面处理层”)作为所谓的功能性薄膜，已应用于例如玻璃、塑料、纤维、卫生用品、建筑材料等各种各样的基材(专利文献1)。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：日本特开2003-238577号公报
技术实现思路
1、专利技术所要解决的技术问题
2、专利文献1所记载的含氟代聚醚基的硅烷化合物能够提供具有优异的功能的表面处理层，但要求具有更高的耐久性的表面处理层。
3、本专利技术的目的在于提供一种能够供给予耐久性优异的表面处理层的含氟代聚醚基的化合物。
4、用于解决技术问题的技术方案
5、本专利技术包括以下的方式。
6、[1]一种下述式(1)所示的化合物：
7、rb2n-rd-co-(rf2-co-nrc-ra(racm)-nrc-co)x-rf2-co-rd-nrb2 (1)
8、[式中：
9、rf2分别独立地为-rf2p-rf-oq-，
10、rf2为可以被1个或1个以上的氟原子取代的c1－6亚烷基，
11、rf为二价的氟代聚醚基，
12、p为0或1，>
13、q为0或1，
14、ra分别独立地为(m+2)价的有机基团，
15、m为1～4的整数，
16、rb分别独立地为rsi、rac或rc，
17、rsi分别独立地为－xc－sir1n’r23－n’，
18、xc为碳原子数1～10的二价有机基团，
19、r1分别独立地为羟基或水解性基团，
20、r2分别独立地为氢原子或一价有机基团，
21、n’为1～3的整数，
22、rac分别独立地为－xd－xe(－xf－oco－cr5＝ch2)m’，
23、xd为二价有机基团，
24、xe为单键或(m’+1)价的基团，
25、xf分别独立地为碳原子数1～10的二价有机基团，
26、r5为氢原子或碳原子数1～8的一价有机基团，
27、m’为1～10的整数，
28、rc分别独立地为氢原子或c1－6烷基，
29、rd分别独立地为单键或二价有机基团，
30、x为1以上的整数。]。
31、[2]如上述[1]所述的化合物，其中，rf分别独立地为下式所示的基团：
32、－(oc6f12)a－(oc5f10)b－(oc4f8)c－(oc3rfa6)d－(oc2f4)e－(ocf2)f－
33、[式中，rfa分别独立地为氢原子、氟原子或氯原子，
34、a、b、c、d、e和f分别独立地为0～200的整数，并且a、b、c、d、e和f之和为1以上，标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的，其中，在全部rfa为氢原子或氯原子的情况下，a、b、c、e和f中的至少1个为1以上。]。
35、[3]如上述[1]或[2]所述的化合物，其中，rfa为氟原子。
36、[4]如上述[1]～[3]中任一项所述的化合物，其中，rf分别独立地为下述式(f1)、(f2)、(f3)、(f4)、(f5)或(f6)所示的基团。
37、－(oc3f6)d－(oc2f4)e－ (f1)
38、[式(f1)中，d为1～200的整数，e为0～2的整数，
39、标注下标c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。]
40、－(oc4f8)c－(oc3f6)d－(oc2f4)e－(ocf2)f－ (f2)
41、[式(f2)中，c和d分别独立地为0～30的整数；
42、e和f分别独立地为1～200的整数；
43、c、d、e和f之和为10～200的整数；
44、标注下标c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。]
45、－(r6－r7)g－r9－ (f3)
46、[式(f3)中，r6为ocf2或oc2f4；
47、r7为选自oc2f4、oc3f6、oc4f8、oc5f10和oc6f12中的基团，或者为选自这些基团中的2个或3个基团的组合；
48、r9为单键或选自ocf2、oc2f4、oc3f6、oc4f8、oc5f10和oc6f12中的基团；
49、g为2～100的整数。]
50、－(r6－r7)g－rr－(r7’－r6’)g’－ (f4)
51、[式(f4)中，r6为ocf2或oc2f4；
52、r7为选自oc2f4、oc3f6、oc4f8、oc5f10和oc6f12中的基团，或者为独立地选自这些基团中的2个或3个基团的组合；
53、r6’为ocf2或oc2f4；
54、r7’为选自oc2f4、oc3f6、oc4f8、oc5f10和oc6f12中的基团，或者为独立地选自这些基团中的2个或3个基团的组合；
55、g为2～100的整数；
56、g’为2～100的整数；
57、rr为
58、
59、(式中，＊表示键合位置。)。]
60、－(oc6f12)a－(oc5f10)b－(oc4f8)c－(oc3f6)d－(oc2f4)e－(ocf2)f－ (f5)
61、[式(f5)中，e为1以上200以下的整数，a、b、c、d和f分别独立地为0以上200以下的整数，并且a、b、c、d、e和f之和至少为1，并且标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。]
62、－(oc6f12)a－(oc5f10)b－(oc4f8)c－(oc3f6)d－(oc2f4)e－(ocf2)f－ (f6)
63、[式(f6)中，f为1以上200以下的整数，a、b、c、d和e分别独立地为0以上200以下的整数，并且a、b、c、d、e和f之和至少为1，并且标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。]
64、[5]如上述[1]～[4]中任一项所述的化合物，其中，rf2分别独立地为c1－6全氟亚烷基。
65、[6]如上述[1]～[5]中任一项所述的化合物，其中，ra分别独立地为下述式所示的基团：
66、－r9－(ra’－r9)k－...
【技术保护点】
1.一种下述式(1)所示的化合物，其特征在于：
2.如权利要求1所述的化合物，其特征在于：
3.如权利要求1或2所述的化合物，其特征在于：
4.如权利要求1～3中任一项所述的化合物，其特征在于：
5.如权利要求1～4中任一项所述的化合物，其特征在于：
6.如权利要求1～5中任一项所述的化合物，其特征在于：
7.如权利要求6所述的化合物，其特征在于：
8.如权利要求6所述的化合物，其特征在于：
9.如权利要求6～8中任一项所述的化合物，其特征在于：
10.如权利要求6～9中任一项所述的化合物，其特征在于：
11.如权利要求6～10中任一项所述的化合物，其特征在于：
12.如权利要求6～10中任一项所述的化合物，其特征在于：
13.如权利要求1～12中任一项所述的化合物，其特征在于：
14.如权利要求1～13中任一项所述的化合物，其特征在于：
15.如权利要求1～13中任一项所述的化合物，其特征在于：
16
17.如权利要求1～16中任一项所述的化合物，其特征在于：
18.如权利要求1～17中任一项所述的化合物，其特征在于：
19.如权利要求1～18中任一项所述的化合物，其特征在于：
20.如权利要求1～19中任一项所述的化合物，其特征在于：
21.如权利要求1～20中任一项所述的化合物，其特征在于：
22.如权利要求1～21中任一项所述的化合物，其特征在于：
23.如权利要求1～22中任一项所述的化合物，其特征在于：
24.如权利要求1～23中任一项所述的化合物，其特征在于：
25.如权利要求1～24中任一项所述的化合物，其特征在于：
26.如权利要求1～25中任一项所述的化合物，其特征在于：
27.如权利要求1～26中任一项所述的化合物，其特征在于：
28.如权利要求1～27中任一项所述的化合物，其特征在于：
29.一种表面处理剂，其特征在于：
30.如权利要求29所述的表面处理剂，其特征在于：
31.如权利要求29或30所述的表面处理剂，其特征在于：
32.一种物品，其特征在于：
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种下述式(1)所示的化合物，其特征在于：
2.如权利要求1所述的化合物，其特征在于：
3.如权利要求1或2所述的化合物，其特征在于：
4.如权利要求1～3中任一项所述的化合物，其特征在于：
5.如权利要求1～4中任一项所述的化合物，其特征在于：
6.如权利要求1～5中任一项所述的化合物，其特征在于：
7.如权利要求6所述的化合物，其特征在于：
8.如权利要求6所述的化合物，其特征在于：
9.如权利要求6～8中任一项所述的化合物，其特征在于：
10.如权利要求6～9中任一项所述的化合物，其特征在于：
11.如权利要求6～10中任一项所述的化合物，其特征在于：
12.如权利要求6～10中任一项所述的化合物，其特征在于：
13.如权利要求1～12中任一项所述的化合物，其特征在于：
14.如权利要求1～13中任一项所述的化合物，其特征在于：
15.如权利要求1～13中任一项所述的化合物，其特征在于：
16.如权利要求1～15中任一项所述的化合物，其特征在于：
17....
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