【技术实现步骤摘要】
本技术涉及样品靶安装定位,尤其是涉及一种样品靶定位装置。
技术介绍
1、质谱仪又称质谱计,其以离子源、质量分析器和离子检测器为核心,目的是进行物质分离和组成检测。其中,离子源用于将试样分子在高真空条件下离子化,质量分析器用于将不同质量的离子进行分离,离子检测器则是用来采集放大离子信号,给计算机绘制质谱图提供数据。工作时,样本向靶板打样形成靶点(直径2-3mm),靶板位于靶槽内,由高精度的运动平台移动到中心位置进行分析检测。靶点位置的精确度直接影响检测结果的准确性,而现有质谱仪一般采用靶板和靶槽的间隙配合直接拿放,间隙和定位精度偏差较大,不能保证靶板每次取放的位置一致;其次,质谱仪工作时真空腔室的真空度高达10-7mbar,为了避免真空频泄,不能像正常大气压下一样随时进行靶板的手动调节;再次,靶板需要借助xy运动平台的移动补偿使靶点达到中心位置,xy运动平台移动则需要借助双轴电机的联动控制实现,联动机构需要大量的安装调试,对设计开发、操作人员专业程度要求较高,且安装维护成本大大增加。
技术实现思路
1、为了解决上述问题,本技术提供一种样品靶定位装置,具体可采取如下技术方案:
2、本技术所述的样品靶定位装置,包括
3、基板,所述基板与x向运动平台滑动相连;
4、靶槽,为开设在基板上的上开口槽,所述靶槽内缘与靶板外缘相适配,且至少一个靶槽拐角设置有防呆结构;
5、z向定位件,为多个设置在靶槽内壁上的承托板,所述承托板的顶面水平,且高度一致;
6、y向定位件,为设置在靶槽底壁上的定位柱,所述定位柱至少两个,沿靶板运动方向间隔设置;
7、吸附组件,包括设置在靶槽底部的磁铁和位于其上的导磁盖板;
8、其中,定位柱的顶面高于承托板顶面设置,所述导磁盖板的顶面位于承托板顶面以下。
9、所述靶槽两侧还延伸设置有取放容置槽。
10、所述靶槽为长方形结构,所述防呆结构为两个,设置在靶槽的相邻拐角处。
11、所述承托板为三个,设置在靶槽的一条直边中心处、以及所述直边对侧的两个相邻拐角处。
12、所述定位柱为两个锥形凸台, 所述靶板上开设有用于插装定位柱的凹槽或通孔,所述凹槽或通孔均与定位柱相适配,或者其中一个凹槽或通孔与定位柱相适配,另一个凹槽或通孔为长轴沿靶板运动方向延伸的腰孔。
13、所述磁铁为与靶槽粘结相连的钕铁硼磁铁,所述导磁盖板为顶面与靶槽底壁齐平的磁性硅钢薄片。
14、所述导磁盖板的厚度为0.8mm、1mm、1.5mm或2mm。
15、本技术提供的样品靶定位装置,结构简单,成本低廉,使用方便,具备结构免调试安装功能,能够解决靶板在x向移动轴线上打样时的精确定位问题。其通过设置yz向定位机构,使靶板在放置过程中无需通过人工调试,即能够实现靶板的一次性放置定位,且每次放置所在的中轴线相同且唯一,降低了安装成本,减少了人为因素干扰,避免了频泄真空进行靶板y向调试;由于靶板y向位置一定,因此运行平台无需使用联动双轴电机驱动即可实现打样轴线的一致性,减少了设备投入,降低了安装和维护成本。
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1.一种样品靶定位装置,其特征在于:包括
2.根据权利要求1所述的样品靶定位装置,其特征在于:所述靶槽两侧还延伸设置有取放容置槽。
3.根据权利要求1所述的样品靶定位装置,其特征在于:所述靶槽为长方形结构,所述防呆结构为两个,设置在靶槽的相邻拐角处。
4.根据权利要求3所述的样品靶定位装置,其特征在于:所述承托板为三个,设置在靶槽的一条直边中心处、以及所述直边对侧的两个相邻拐角处。
5.根据权利要求1所述的样品靶定位装置,其特征在于:所述定位柱为两个锥形凸台,所述靶板上开设有用于插装定位柱的凹槽或通孔,所述凹槽或通孔均与定位柱相适配,或者其中一个凹槽或通孔与定位柱相适配,另一个凹槽或通孔为长轴沿靶板运动方向延伸的腰孔。
6.根据权利要求1所述的样品靶定位装置,其特征在于:所述磁铁为与靶槽粘结相连的钕铁硼磁铁,所述导磁盖板为顶面与靶槽底壁齐平的磁性硅钢薄片。
7.根据权利要求6所述的样品靶定位装置,其特征在于:所述导磁盖板的厚度为0.8mm、1mm、1.5mm或2mm。
【技术特征摘要】
1.一种样品靶定位装置,其特征在于:包括
2.根据权利要求1所述的样品靶定位装置,其特征在于:所述靶槽两侧还延伸设置有取放容置槽。
3.根据权利要求1所述的样品靶定位装置,其特征在于:所述靶槽为长方形结构,所述防呆结构为两个,设置在靶槽的相邻拐角处。
4.根据权利要求3所述的样品靶定位装置,其特征在于:所述承托板为三个,设置在靶槽的一条直边中心处、以及所述直边对侧的两个相邻拐角处。
5.根据权利要求1所述的样品靶定位装置,其...
【专利技术属性】
技术研发人员:郑德雨,李向广,孙金金,尚元贺,
申请(专利权)人:安图实验仪器郑州有限公司,
类型:新型
国别省市:
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