【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开涉及引导辐射射束，例如，用于与检查和光刻工具结合使用以在维持射束的偏振状态的同时调整射束的光轴的设备。
技术介绍
1、光刻装置是将期望图案施加到衬底上(经常施加到衬底的目标部分上)的机器。光刻装置可以用于例如制造集成电路(ic)。在该实例中，图案形成装置(可替代地，被称为掩模或掩模版)可以被用来生成要形成在ic的个别层上的电路图案。该图案可以转印到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一个或几个管芯的一部分)上。图案通常经由成像而被转印到提供在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。一般而言，单个衬底将包含经连续曝光的相邻目标部分的网络。已知光刻装置包括所谓的步进器，其中通过将整个图案一次性曝光到目标部分上来辐照每个目标部分；以及所谓的扫描仪，其中通过在给定方向(“扫描”方向)上通过辐射射束扫描图案并且同时平行或反平行于该方向而同步扫描衬底来辐照每个目标部分。此外，通过将图案压印到衬底上，图案可以从图案形成装置转印到衬底。
2、在光刻操作期间，不同的处理步骤可能需要在衬底上依序形成不同的层。因而，必须相对于在其上形成的现有图案以高精度程度定位衬底。通常，对准标记被放置在要对准的衬底上，并且参考第二对象定位。光刻装置可以使用对准装置来检测对准标记的位置并且使用对准标记来对准衬底以确保来自掩模的准确曝光。两个不同层处的对准标记之间的未对准被测量为套刻误差。
3、为了监测光刻过程，测量经图案化衬底的参数。参数可以包括：例如形成在经图案化衬底中或上的连续层之间的套刻误差；和经显影光敏抗蚀剂的临界线宽。可以
4、这种光散射仪可以被用来测量参数，诸如经显影光敏抗蚀剂的临界尺寸或形成在经图案化衬底中或上的两个层之间的套刻误差(ov)。通过比较照射射束在被衬底反射或散射之前和之后的特性，可以确定衬底的特性。
技术实现思路
1、因而，期望改进设计改进式光学系统，其允许对多个检查目标进行并行测量。
2、在一些实施例中，一种检查装置包括辐射源、光学系统和检测器。辐射源被配置为生成辐射射束。该光学系统被配置为沿着光轴并且朝向目标引导射束，以便从目标产生散射辐射。该光学系统包括射束移位器，该射束移位器包括具有空间布置的四个反射表面。射束移位器被配置为：沿着光轴接收射束；对射束执行反射以便使射束的光轴移位；旋转以使经移位光轴偏移；并且保留射束的偏振使得沿着经偏转光轴的射束的偏振状态基于四个反射表面的空间布置而具有旋转不变性。检测器被配置为接收散射辐射，并且基于所接收的散射辐射来生成测量信号。
3、在一些实施例中，一种光学元件包括具有空间布置的四个反射表面。光学元件被配置为：沿着光轴接收辐射射束；对射束执行反射以使光轴移位；旋转以使经移位光轴偏移；以及保留射束的偏振使得沿着经偏转光轴的射束的偏振状态基于四个反射表面的空间布置而具有旋转不变性。
4、在一些实施例中，执行一种方法，包括以下操作中的一个或多个操作。朝向目标沿着光轴引导辐射射束，以便从目标产生散射辐射。在射束移位器处沿着光轴接收射束。对射束执行反射，以便使用射束移位器的四个反射表面使射束的光轴移位。旋转射束移位器，以便使经移位光轴偏移。保留射束的偏振，使得沿着经偏转光轴的射束的偏振状态基于四个反射表面的空间布置而具有旋转不变性。
5、下文参考附图对本公开的其他特征以及各种实施例的结构和操作进行详细描述。应当注意，本专利技术不限于本文中所描述的特定实施例。本文中所提出的这些实施例仅用于说明的目的。基于本文中所包含的教导，对于一个或多个相关领域的技术人员而言，其他实施例将是显而易见的。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种检查装置，包括：
2.根据权利要求1所述的检查装置，其中:
3.根据权利要求1所述的检查装置，其中:
4.根据权利要求1所述的检查装置，其中所述光学系统还包括分束器，所述分束器被配置为拆分所述射束以生成第二辐射射束。
5.根据权利要求4所述的检查装置，还包括第二检测器，其中
6.根据权利要求5所述的检查装置，其中所述检查装置被配置为分别使用所述检测器和所述第二检测器对所述目标和所述第二目标执行并行测量。
7.根据权利要求5所述的检查装置，其中所述射束移位器被配置为调整所述射束和所述第二射束之间的间隔，以便与所述目标和所述第二目标之间的间隔相对应。
8.根据权利要求1所述的检查装置，其中:
9.一种光学元件，包括：
10.根据权利要求9所述的光学元件，还包括棱镜，其中：
11.根据权利要求9所述的光学元件，其中：
12.一种方法，包括：
13.根据权利要求12所述的方法，还包括：
14.根据权利要求12所述的方法，还包括
15.根据权利要求14所述的方法，还包括：使用分束器拆分所述射束以生成第二辐射射束。
16.根据权利要求15所述的方法，还包括：
17.根据权利要求16所述的方法，还包括：分别使用所述检测器和所述第二检测器对所述目标和所述第二目标执行并行测量。
18.根据权利要求16所述的方法，还包括：使用所述射束移位器调整所述射束和所述第二射束之间的间隔，以便与所述目标和所述第二目标之间的间隔相对应。
19.根据权利要求12所述的方法，还包括：
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种检查装置，包括：
2.根据权利要求1所述的检查装置，其中:
3.根据权利要求1所述的检查装置，其中:
4.根据权利要求1所述的检查装置，其中所述光学系统还包括分束器，所述分束器被配置为拆分所述射束以生成第二辐射射束。
5.根据权利要求4所述的检查装置，还包括第二检测器，其中
6.根据权利要求5所述的检查装置，其中所述检查装置被配置为分别使用所述检测器和所述第二检测器对所述目标和所述第二目标执行并行测量。
7.根据权利要求5所述的检查装置，其中所述射束移位器被配置为调整所述射束和所述第二射束之间的间隔，以便与所述目标和所述第二目标之间的间隔相对应。
8.根据权利要求1所述的检查装置，其中:
9.一种光学元件，包括：
10.根...
【专利技术属性】
技术研发人员：D·C·卡佩里，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：
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