【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及离子注入机金属污染改善，尤其涉及一种用于改善离子注入机金属污染的装置。
技术介绍
1、离子注入机是集成电路制造前工序中的关键设备，离子注入是对半导体表面附近区域进行掺杂的技术，其目的是改变半导体的载流子浓度和导电类型，离子注入机一般由离子源、磁分析器、加速管、聚焦系统等部分组成，而离子注入过程中会产生一定的金属污染，金属污染会导致晶片产生缺陷，金属污染一般由离子束溅射产生的金属微粒导致的，这些金属微粒会一直滞留于离子源腔内，如果不对其进行清洗则会持续的对晶片造成金属污染，且随着时间推移，其积累越多则导致污染越严重，因此，有必要提出一种用于改善离子注入机金属污染的装置。
技术实现思路
1、为解决上述技术问题，本专利技术提供一种用于改善离子注入机金属污染的装置。
2、本专利技术采用以下技术方案实现：机箱，机箱内设有围框，机箱内升降安装有盖板，盖板的底部安装有可翻转的源腔固定机构，盖板的底部安装有移动升降机构，移动升降机构上安装有水枪冲洗机构，水枪冲洗机构包括框架，框架上转动安装有高压喷头，框架上固定安装有第三电机，第三电机与高压喷头传动连接，高压喷头的一端转动连接有软管。
3、作为上述方案的进一步改进，机箱的底部内壁固定安装有两个第一电动推杆，两个第一电动推杆的输出杆均与盖板的底部固定连接。
4、作为上述方案的进一步改进，机箱的底部内壁固定安装有四个呈矩形分布的套筒，四个套筒内均滑动安装有伸缩杆，四个伸缩杆的顶端均与盖板固定连接。>
5、作为上述方案的进一步改进，源腔固定机构包括固定连接在盖板底部的两个竖板，两个竖板上转动安装有同一个放置架，放置架上固定安装有横条，横条上螺纹安装有抵紧螺丝，放置架上设有限定框。
6、作为上述方案的进一步改进，盖板的顶部固定安装有第一电机，第一电机的输出轴上固定安装有第一锥形齿轮，对应的竖板上转动安装有驱动杆，驱动杆的顶端和底端均固定安装有第二锥形齿轮，第一锥形齿轮与对应的第二锥形齿轮啮合，放置架的轴杆上固定安装有第三锥形齿轮，第三锥形齿轮与对应的第二锥形齿轮啮合。
7、作为上述方案的进一步改进，移动升降机构包括固定安装在盖板顶部的第二电机，盖板的底部转动安装有螺杆，第二电机的输出轴上固定安装有第四锥形齿轮，螺杆的一端固定安装有第五锥形齿轮，第四锥形齿轮与第五锥形齿轮啮合，螺杆上螺纹套设有矩形筒，矩形筒内固定安装有第二电动推杆，第二电动推杆的输出杆与框架固定连接。
8、作为上述方案的进一步改进，盖板的底部固定安装有两个支撑块，螺杆贯穿两个支撑块并与两个支撑块转动连接，两个支撑块上固定安装有两个滑杆，两个滑杆均贯穿矩形筒并与矩形筒滑动连接。
9、作为上述方案的进一步改进，盖板的顶部固定安装有热风机，热风机的出风口上固定安装有吹风管，吹风管的另一端贯穿盖板并与盖板固定连接。
10、作为上述方案的进一步改进，机箱内固定安装有增压泵，软管的另一端与增压泵的出水口固定连接，增压泵的进水口延伸至机箱外。
11、相比现有技术，本专利技术的有益效果在于：
12、本专利技术通过第二电机、螺杆、第二电动推杆等结构相配合组成移动升降机构，可以带动水枪冲洗机构进行位移和高度调整，其通过带动水枪冲洗机构平移，可以让水枪冲洗机构进入源腔内部对源腔进行冲洗，同时其可移动的特性，也使得水枪冲洗机构在非使用状态时不会对源腔的旋转以及固定造成限制和干扰，同时，其通过带动水枪冲洗机构进行高度调节，使得源腔在调整角度后，水枪冲洗机构还可以通过其他通孔进入源腔内部对源腔进行冲洗，从而保证对源腔内部的冲洗更为全面；
13、通过高压喷头、软管、第三电机、圆齿轮等结构相配合，组成了水枪冲洗机构，其可以进入源腔内部并喷出高压水流对附着在源腔内部上的金属微粒进行冲洗，且其可以旋转的特性，可以无死角的对源腔内部进行冲洗；
14、通过竖板、放置架、横条以及抵紧螺丝等结构组成的源腔固定机构，配合上第一电机、驱动杆等结构，不但可以实现对待清理源腔的固定，同时还使得源腔可以根据清理需要调整角度，以此保证负压的源腔结构可以得到更好的清理效果，且源腔在清理完成后，还可以进行翻转，以此可以加速去除源腔上残留的水渍，再配合上热风机，可以加速源腔的干化，让源腔可以更快的进行回装。
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1.一种用于改善离子注入机金属污染的装置，其特征在于，包括：机箱，所述机箱内设有围框，所述机箱内升降安装有盖板，所述盖板的底部安装有可翻转的源腔固定机构，所述盖板的底部安装有移动升降机构，所述移动升降机构上安装有水枪冲洗机构，所述水枪冲洗机构包括框架，所述框架上转动安装有高压喷头，所述框架上固定安装有第三电机，所述第三电机与高压喷头传动连接，所述高压喷头的一端转动连接有软管。
2.如权利要求1所述的用于改善离子注入机金属污染的装置，其特征在于，所述机箱的底部内壁固定安装有两个第一电动推杆，两个第一电动推杆的输出杆均与盖板的底部固定连接。
3.如权利要求1所述的用于改善离子注入机金属污染的装置，其特征在于，所述机箱的底部内壁固定安装有四个呈矩形分布的套筒，四个套筒内均滑动安装有伸缩杆，四个伸缩杆的顶端均与盖板固定连接。
4.如权利要求1所述的用于改善离子注入机金属污染的装置，其特征在于，所述源腔固定机构包括固定连接在盖板底部的两个竖板，两个竖板上转动安装有同一个放置架，所述放置架上固定安装有横条，所述横条上螺纹安装有抵紧螺丝，所述放置架上设有限定
5.如权利要求4所述的用于改善离子注入机金属污染的装置，其特征在于，所述盖板的顶部固定安装有第一电机，所述第一电机的输出轴上固定安装有第一锥形齿轮，对应的竖板上转动安装有驱动杆，所述驱动杆的顶端和底端均固定安装有第二锥形齿轮，所述第一锥形齿轮与对应的第二锥形齿轮啮合，所述放置架的轴杆上固定安装有第三锥形齿轮，所述第三锥形齿轮与对应的第二锥形齿轮啮合。
6.如权利要求1所述的用于改善离子注入机金属污染的装置，其特征在于，所述移动升降机构包括固定安装在盖板顶部的第二电机，所述盖板的底部转动安装有螺杆，所述第二电机的输出轴上固定安装有第四锥形齿轮，所述螺杆的一端固定安装有第五锥形齿轮，所述第四锥形齿轮与第五锥形齿轮啮合，所述螺杆上螺纹套设有矩形筒，所述矩形筒内固定安装有第二电动推杆，所述第二电动推杆的输出杆与框架固定连接。
7.如权利要求6所述的用于改善离子注入机金属污染的装置，其特征在于，所述盖板的底部固定安装有两个支撑块，所述螺杆贯穿两个支撑块并与两个支撑块转动连接，两个支撑块上固定安装有两个滑杆，两个滑杆均贯穿矩形筒并与矩形筒滑动连接。
8.如权利要求1所述的用于改善离子注入机金属污染的装置，其特征在于，所述盖板的顶部固定安装有热风机，所述热风机的出风口上固定安装有吹风管，所述吹风管的另一端贯穿盖板并与盖板固定连接。
9.如权利要求1所述的用于改善离子注入机金属污染的装置，其特征在于，所述机箱内固定安装有增压泵，所述软管的另一端与增压泵的出水口固定连接，所述增压泵的进水口延伸至机箱外。
...【技术特征摘要】
1.一种用于改善离子注入机金属污染的装置，其特征在于，包括：机箱，所述机箱内设有围框，所述机箱内升降安装有盖板，所述盖板的底部安装有可翻转的源腔固定机构，所述盖板的底部安装有移动升降机构，所述移动升降机构上安装有水枪冲洗机构，所述水枪冲洗机构包括框架，所述框架上转动安装有高压喷头，所述框架上固定安装有第三电机，所述第三电机与高压喷头传动连接，所述高压喷头的一端转动连接有软管。
2.如权利要求1所述的用于改善离子注入机金属污染的装置，其特征在于，所述机箱的底部内壁固定安装有两个第一电动推杆，两个第一电动推杆的输出杆均与盖板的底部固定连接。
3.如权利要求1所述的用于改善离子注入机金属污染的装置，其特征在于，所述机箱的底部内壁固定安装有四个呈矩形分布的套筒，四个套筒内均滑动安装有伸缩杆，四个伸缩杆的顶端均与盖板固定连接。
4.如权利要求1所述的用于改善离子注入机金属污染的装置，其特征在于，所述源腔固定机构包括固定连接在盖板底部的两个竖板，两个竖板上转动安装有同一个放置架，所述放置架上固定安装有横条，所述横条上螺纹安装有抵紧螺丝，所述放置架上设有限定框。
5.如权利要求4所述的用于改善离子注入机金属污染的装置，其特征在于，所述盖板的顶部固定安装有第一电机，所述第一电机的输出轴上固定安装有第一锥形齿轮，对应的竖板上转动安装有驱...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵建江，魏宏雨，周涛，刘强，黄友林，
申请(专利权)人：杭州帕兹电子有限公司，
类型：发明
国别省市：
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