System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种预涂布装置以及预涂布检测方法制造方法及图纸_技高网

一种预涂布装置以及预涂布检测方法制造方法及图纸

技术编号:41588432 阅读:16 留言:0更新日期:2024-06-07 00:01
本发明专利技术公开了一种预涂布装置以及预涂布检测方法,其中预涂布装置包括预涂辊、第一图像检测单元、清洁组件以及第二图像检测单元;所述预涂辊的至少部分表面形成涂布面,所述涂布面用于接收涂布浆料;第一图像检测单元用于获取涂布浆料后的涂布面的图像信息,以判断预涂布质量;清洁组件用于清洁所述涂布面;第二图像检测单元用于获取清洁后的涂布面的图像信息,以判断所述清洁组件的清洁质量。本发明专利技术的预涂布装置以及预涂布检测方法用于降低预涂布时浆料的用量,并减小预涂布装置的清洁负担。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及预涂布,尤其涉及一种预涂布装置以及预涂布检测方法


技术介绍

1、在例如钙钛矿电池加工等领域中,会需要在基板上涂布钙钛矿浆料,以形成钙钛矿薄膜。在进行涂布时,浆料在基板上的均匀性决定了形成的钙钛矿薄膜以及钙钛矿电池的性能。现有对基板进行涂布浆料的方式之一是采用涂布模头进行涂布,涂布模头具有狭缝出口,浆料自该狭缝出口流出并覆盖至基板表面。

2、浆料开始在涂布模头进行流动时,涂布模头内不同位置的浆料分布不均,会导致涂布模头开始涂布时的均匀性较差。为提高基板表面浆料涂布的均匀性,会在开始对基板进行正式涂布前进行预涂布,预涂布时会使涂布模头排出预定量的浆料,以使得浆料进行涂布模头内持续流动一段时间后均匀填充涂布模头,且使涂布模头排出的浆料较为均匀。

3、在进行预涂布时,若涂布模头排出的浆料量过少,会导致涂布模头内的浆料仍存在不均匀的部分,影响后续的涂布质量。因此,现有的预涂布方式,在预涂布时,会使涂布模头排出较多的涂布量,一般为在涂布模头内部浆料均匀分布后仍会进行预涂布一段时间,这种方式虽然可以确保涂布模头进行对基板进行正式涂布时的涂布质量,但会造成浆料的浪费,也会加重对预涂布装置的清洁负担。


技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种预涂布装置以及预涂布检测方法,用于降低预涂布时浆料的用量,并减小预涂布装置的清洁负担。

2、本专利技术的目的采用以下技术方案实现:

3、一种预涂布装置,包括:

4、预涂辊,所述预涂辊的至少部分表面形成涂布面,所述涂布面用于接收涂布浆料;

5、第一图像检测单元,用于获取涂布浆料后的涂布面的图像信息,以判断预涂布质量;

6、清洁组件,用于清洁所述涂布面;

7、第二图像检测单元,用于获取清洁后的涂布面的图像信息,以判断所述清洁组件的清洁质量。

8、优选地,所述清洁组件包括清洗溶剂喷嘴和清洁件,所述清洗溶剂喷嘴用于向所述涂布面喷洒清洗溶剂,所述清洗溶剂能够被所述第二图像检测元件识别;所述清洁件用于清洁所述涂布面上的清洗溶剂和涂布浆料。

9、优选地,所述清洗溶剂包括荧光剂,所述第二图像检测单元包括滤光片和第二图像传感器,所述滤光片的通过波长与所述荧光剂的发光波长相适配,所述第二图像传感器用于获取经过滤光片的过滤的图像信息。

10、优选地,所述滤光片为带通滤光片,和/或,所述第二图像传感器为线阵相机,和/或,所述第一图像检测单元包括第一图像传感器,所述第一图像传感器为线阵相机。

11、优选地,所述清洁组件还包括壳体,所述壳体内形成有清洗槽,所述预涂辊的至少一部分设置于所述清洗槽内,所述清洗溶剂喷嘴和所述清洁件安装于所述壳体的清洗槽内;所述清洗溶剂喷嘴和所述清洁件分别设置为一个或多个,一个或多个所述清洗溶剂喷嘴和一个或多个所述清洁件沿所述预涂辊的转动方向间隔设置;

12、和/或,所述清洁件为刮板。

13、优选地,所述涂布面的宽度小于所述预涂辊的宽度,所述第一图像检测单元和所述第二图像检测单元识别的图像宽度分别小于所述预涂辊的宽度,并分别大于所述涂布面的宽度;

14、其中,所述涂布面的宽度方向、所述预涂辊的宽度方向、所述第一图像检测单元的宽度方向和所述第二图像检测单元的宽度方向分别与所述预涂辊的轴线方向平行。

15、一种预涂布检测方法,包括:

16、涂布模头向预涂辊的涂布面涂布浆料,且预涂辊绕所述预涂辊的轴线转动;

17、第一图像检测单元获取涂布浆料后的涂布面的图像信息,并判断预涂布质量,当预涂布质量满足预设要求后,预涂布结束;

18、清洁组件对涂布浆料后的涂布表面进行清洁;

19、第二图像检测单元获取清洁后的涂布面的图像信息,并判断所述清洁组件的清洁质量,当所述清洁组件的清洁质量不符合预定要求时,调整所述清洁组件。

20、优选地,所述判断预涂布质量具体包括:当所述涂布面上预定长度的浆料沿所述涂布面的宽度方向均匀连续分布时,判断预涂布质量满足预设要求。

21、优选地,所述清洁组件对涂布面进行清洁包括:采用包含荧光剂的清洗溶剂喷洒至涂布面,并采用清洁件去除清洗溶剂和浆料;其中,所述荧光剂能够被所述第二图像检测单元识别并在图像信息中形成光亮部分;

22、所述判断所述清洁组件的清洁质量包括:判断所述第二图像检测单元获得的图像信息中是否具有光亮区域,若光亮区域不满足预定要求,则判断所述清洁组件的清洁质量不符合预定要求。

23、优选地,判断光亮区域是否满足预定要求具体包括:当所述第二图像检测单元获得的图像信息中包含光强度大于预定阈值,且光强度大于预定阈值的区域面积大于预定面积阈值时,判断光亮区域不满足预定要求。

24、优选地,所述第二图像检测单元获取清洁后的涂布面的图像信息具体包括:采用激光器对所述第二图像检测单元的识别区域发射光源,以使所述荧光剂发出能够被所述第二图像检测单元识别的光信号;所述第二图像检测单元采用滤光片过滤与所述荧光剂的发光波长不同的光源。

25、优选地,所述第一图像检测单元获取涂布浆料后的涂布面的图像信息,并判断预涂布质量,当预涂布质量满足预设要求后,预涂布结束还包括:

26、当涂布模头预涂布10-50s时,预涂布质量仍不满足预设要求时,判断涂布失败,停止预涂布并清洁所述涂布模头,所述涂布模头清洁后重新开始预涂布;当涂布失败次数大于m次时,停止涂布并发出错误信息;其中,所述m为2-6。

27、与现有技术相比,本专利技术的有益效果至少包括:

28、通过采用第一图像检测单元对预涂布质量进行检测,可以在预涂布质量满足要求后停止预涂布,以减少浆料的浪费,减小预涂布装置对浆料进行清洁时的负担;同时,通过设置第二图像检测单元对清洁组件的清洁质量进行检测,可以避免因清洁组件清洁不到位,而导致未被清洁的浆料影响后续第一图像检测单元的检测精度。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种预涂布装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的预涂布装置,其特征在于,所述清洁组件包括清洗溶剂喷嘴和清洁件,所述清洗溶剂喷嘴用于向所述涂布面喷洒清洗溶剂,所述清洗溶剂能够被所述第二图像检测元件识别;所述清洁件用于清洁所述涂布面上的清洗溶剂和涂布浆料。

3.根据权利要求2所述的预涂布装置,其特征在于,所述清洗溶剂包括荧光剂,所述第二图像检测单元包括滤光片和第二图像传感器,所述滤光片的通过波长与所述荧光剂的发光波长相适配,所述第二图像传感器用于获取经过滤光片的过滤的图像信息。

4.根据权利要求3所述的预涂布装置,其特征在于,所述滤光片为带通滤光片,和/或,所述第二图像传感器为线阵相机,和/或,所述第一图像检测单元包括第一图像传感器,所述第一图像传感器为线阵相机。

5.根据权利要求2所述的预涂布装置,其特征在于,所述清洁组件还包括壳体,所述壳体内形成有清洗槽,所述预涂辊的至少一部分设置于所述清洗槽内,所述清洗溶剂喷嘴和所述清洁件安装于所述壳体的清洗槽内;所述清洗溶剂喷嘴和所述清洁件分别设置为一个或多个,一个或多个所述清洗溶剂喷嘴和一个或多个所述清洁件沿所述预涂辊的转动方向间隔设置;

6.根据权利要求1所述的预涂布装置,其特征在于,所述涂布面的宽度小于所述预涂辊的宽度,所述第一图像检测单元和所述第二图像检测单元识别的图像宽度分别小于所述预涂辊的宽度,并分别大于所述涂布面的宽度;

7.一种预涂布检测方法,其特征在于,包括:

8.根据权利要求7所述的预涂布检测方法,其特征在于,所述判断预涂布质量具体包括:当所述涂布面上预定长度的浆料沿所述涂布面的宽度方向均匀连续分布时,判断预涂布质量满足预设要求。

9.根据权利要求7所述的预涂布检测方法,其特征在于,所述清洁组件对涂布面进行清洁包括:采用包含荧光剂的清洗溶剂喷洒至涂布面,并采用清洁件去除清洗溶剂和浆料;其中,所述荧光剂能够被所述第二图像检测单元识别并在图像信息中形成光亮部分;

10.根据权利要求9所述的预涂布检测方法,其特征在于,判断光亮区域是否满足预定要求具体包括:当所述第二图像检测单元获得的图像信息中包含光强度大于预定阈值,且光强度大于预定阈值的区域面积大于预定面积阈值时,判断光亮区域不满足预定要求。

11.根据权利要求9所述的预涂布检测方法,其特征在于,所述第二图像检测单元获取清洁后的涂布面的图像信息具体包括:采用激光器对所述第二图像检测单元的识别区域发射光源,以使所述荧光剂发出能够被所述第二图像检测单元识别的光信号;所述第二图像检测单元采用滤光片过滤与所述荧光剂的发光波长不同的光源。

12.根据权利要求7所述的预涂布检测方法,其特征在于,所述第一图像检测单元获取涂布浆料后的涂布面的图像信息,并判断预涂布质量,当预涂布质量满足预设要求后,预涂布结束还包括:

...

【技术特征摘要】

1.一种预涂布装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的预涂布装置,其特征在于,所述清洁组件包括清洗溶剂喷嘴和清洁件,所述清洗溶剂喷嘴用于向所述涂布面喷洒清洗溶剂,所述清洗溶剂能够被所述第二图像检测元件识别;所述清洁件用于清洁所述涂布面上的清洗溶剂和涂布浆料。

3.根据权利要求2所述的预涂布装置,其特征在于,所述清洗溶剂包括荧光剂,所述第二图像检测单元包括滤光片和第二图像传感器,所述滤光片的通过波长与所述荧光剂的发光波长相适配,所述第二图像传感器用于获取经过滤光片的过滤的图像信息。

4.根据权利要求3所述的预涂布装置,其特征在于,所述滤光片为带通滤光片,和/或,所述第二图像传感器为线阵相机,和/或,所述第一图像检测单元包括第一图像传感器,所述第一图像传感器为线阵相机。

5.根据权利要求2所述的预涂布装置,其特征在于,所述清洁组件还包括壳体,所述壳体内形成有清洗槽,所述预涂辊的至少一部分设置于所述清洗槽内,所述清洗溶剂喷嘴和所述清洁件安装于所述壳体的清洗槽内;所述清洗溶剂喷嘴和所述清洁件分别设置为一个或多个,一个或多个所述清洗溶剂喷嘴和一个或多个所述清洁件沿所述预涂辊的转动方向间隔设置;

6.根据权利要求1所述的预涂布装置,其特征在于,所述涂布面的宽度小于所述预涂辊的宽度,所述第一图像检测单元和所述第二图像检测单元识别的图像宽度分别小于所述预涂辊的宽度,并分别大...

【专利技术属性】
技术研发人员:请求不公布姓名请求不公布姓名请求不公布姓名请求不公布姓名请求不公布姓名
申请(专利权)人:德沪涂膜设备苏州有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1