【技术实现步骤摘要】
本技术涉及硅片加工设备，具体涉及光子晶体加工用硅片烘干架。
技术介绍
1、硅片加热主要由加热系统、传热系统和控制系统组成。加热系统通过加热元件提供热量，传热系统通过气流或辐射传导将热量传递给硅片，控制系统则负责控制加热和传热的过程。
2、现有的硅片加热设备主要是通过热传导的方式通过支撑或夹持的设备的贴合面来对硅片进行加热烘干，由于加热面较小进而导致硅片整体的加热效率较慢，进而导致烘干效率较低。为此，我们提出光子晶体加工用硅片烘干架。
技术实现思路
1、针对现有技术中的问题，本技术提供了光子晶体加工用硅片烘干架。
2、本技术解决其技术问题所采用的技术方案是光子晶体加工用硅片烘干架，包括烘干顶座，所述烘干顶座的内部安装有加热机，所述加热机的内部安装有顶部固定架，所述顶部固定架的底端开设有固定槽；
3、所述烘干顶座的一侧侧壁固定连接有电动伸缩机，所述电动伸缩机的延伸端贯通安装于连接件的内部，所述连接件固定连接于放置底座侧壁，所述放置底座顶端固定连接有多个放置架，所述放置架的顶端开设有与固定槽相契合的放置槽。
4、通过采用上述技术方案，在需要对硅片进行烘干操作时，通过将硅片批量的放入放置槽内，随后通过电动伸缩机来降下烘干顶座来将放置底座整体嵌合于烘干顶座内，随后通过加热机加热来对内部的放置架加热从而对硅片烘干，随后通过出气孔来排出内部的蒸汽，能够快速有效的对批量硅片进行加热，能够提高效率，且能对硅片在烘干时起到一定的保护作用。
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6、通过采用上述技术方案，通过契合凹槽来配合放置架进行使用来放置硅片。
7、具体的，所述放置底座的顶端于放置架的之间设置有间隔槽，所述间隔槽的表面固定连接有多个固定支架。
8、通过采用上述技术方案，通过架设在间隔槽内的固定支架来固定夹持机构。
9、具体的，所述固定支架的顶端固定连接有微伸缩杆，所述微伸缩杆的侧壁固定安装有用于夹持硅片的夹持板。
10、通过采用上述技术方案，通过微伸缩杆来带动夹持板对硅片固定或发送开。
11、具体的，所述放置槽和固定槽的内壁均为耐高温塑料材质。
12、通过采用上述技术方案，通过耐高温塑料材质来避免对硅片造成损伤。
13、与现有技术相比，本技术具有如下有益效果：
14、本申请技术方案通过电动伸缩机、放置底座、放置架、放置槽、加热机、顶部固定架、固定槽、间隔槽、固定支架、微伸缩杆和夹持板的结构设计来在硅片成批量的放置在放置架顶端的放置槽内时夹持固定，并进行加热烘干，能够有效的将加工时潮湿的硅片批量且快速的烘干，相对提高烘干效率。
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1.光子晶体加工用硅片烘干架，其特征在于，包括烘干顶座(1)，所述烘干顶座(1)的内部安装有加热机(8)，所述加热机(8)的内部安装有顶部固定架(9)，所述顶部固定架(9)的底端开设有固定槽(10)；
2.根据权利要求1所述的光子晶体加工用硅片烘干架，其特征在于，所述放置底座(4)的内侧朝向放置架(6)的一端开设有契合凹槽(5)。
3.根据权利要求1所述的光子晶体加工用硅片烘干架，其特征在于，所述放置底座(4)的顶端于放置架(6)的之间设置有间隔槽(11)，所述间隔槽(11)的表面固定连接有多个固定支架(12)。
4.根据权利要求3所述的光子晶体加工用硅片烘干架，其特征在于，所述固定支架(12)的顶端固定连接有微伸缩杆(13)，所述微伸缩杆(13)的侧壁固定安装有用于夹持硅片的夹持板(14)。
5.根据权利要求1所述的光子晶体加工用硅片烘干架，其特征在于，所述放置槽(7)和固定槽(10)的内壁均为耐高温塑料材质。
【技术特征摘要】
1.光子晶体加工用硅片烘干架，其特征在于，包括烘干顶座(1)，所述烘干顶座(1)的内部安装有加热机(8)，所述加热机(8)的内部安装有顶部固定架(9)，所述顶部固定架(9)的底端开设有固定槽(10)；
2.根据权利要求1所述的光子晶体加工用硅片烘干架，其特征在于，所述放置底座(4)的内侧朝向放置架(6)的一端开设有契合凹槽(5)。
3.根据权利要求1所述的光子晶体加工用硅片烘干架，其特征在于，所述放置底座(4...
【专利技术属性】
技术研发人员：姚瑞娟，张宇辰，
申请(专利权)人：宜兴明灿光晶科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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