一种机台用氦管路结构制造技术

本发明专利技术涉及一种机台用氦管路结构，包括一段水平管路与一段垂直管路，水平管路的一端与固定于机台框架的氦气供应端相连通，另一端与垂直管路的下端相连通，垂直管路的上端与固定于间隙汽缸上的背压系统相连通。采用本发明专利技术的结构，可以避免波纹管与机台之间的摩擦损耗，增加氦管路的延展性，较好的解决了氦管路泄漏的问题，从而降低了氦管路泄漏对制程影响的概率。

Helium pipeline structure for machine platform

The invention relates to the use of helium line structure of a machine, including a horizontal pipe and a vertical pipe, one end of the horizontal pipe is communicated with the helium supply end fixed on the machine frame, the lower end and the other end of the vertical pipe is communicated with the upper end of the vertical pipe, and fixed on the gap of the cylinder is communicated with the back pressure system. By using the structure of the invention can avoid the friction loss between the corrugated pipe and the machine, increasing the ductility of helium pipeline, solves the problem of helium pipeline leakage problem, thereby reducing the probability of impact on the process of helium leakage of pipeline.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体晶片制造技术，特别是涉及一种机台用氦管路结构。
技术介绍
参见图l和图2，现有的机台中的氦管为一根U形的波纹管，其一端 与固定于机台框架1上的氦气供应端21相连，另一端连接到背压系统 (BackHelium System) 22上，与间隙汽缸3固定在一起。从图中可以看 到，容纳氦气的波纹管的管路弯曲点41和42的水平距离比较近，使弯曲 点在氦管随间隙汽缸的上升或下降而移动时受力较大，易与机台框架1 相摩擦，从而造成波纹管接头处泄漏。氦管泄漏会造成氦气泄漏，使晶片 在蚀刻制程过程中因为背压不好导致晶片受热不均匀，从而影响产品的合 格率，或造成机台当机增加。由于现有机台中的氦管路设置的不合理，使得氦管容易泄漏从而引发 上述种种问题。为了克服以上问题，每年需对氦管更换数次，因此使成本 大大增加，同时也对晶片的制程造成不良影响。
技术实现思路
针对现有的氦管路结构的缺陷，本专利技术的目的是提出一种机台用氦管 路结构，通过将原有设计一根波纹管改成一段水平管路与一段垂直管路, 避免波纹管与机台框架的摩擦损耗，增加氦管路的延伸性，降低氦管泄漏 对制程影响的比例。为了达到本专利技术的上述和其他目的，本专利技术采用了如下技术方案一 种机台用氦管路结构，包括一段水平管路与一段垂直管路，水平管路的一端与固定于机台框架的氦气供应端相连通，另一端与垂直管路的下端相连 通，垂直管路的上端连接到背压系统，与间隙汽缸固定在一起。作为优选，该管路结构还包括管路支撑架，使水平管路固定于管路支 撑架之上。作为优选，水平管路为硬质管路，垂直管路为软质管路。作为优选，水平管路为硬质直管，垂直管路为螺旋软管。采用本专利技术的两段式结构，可以避免波纹管与机台之间的摩擦损耗， 增加氦管路的延展性；加装固定氦管的管路支撑架，可以防止管路随着间 隙汽缸的上升或下降发生抖动磨损及接头松脱。因此，与现有技术相比， 本专利技术较好的解决了氦管路泄漏的问题，从而降低了氦管路泄漏对制程影 响的概率。附图说明图1是现有的机台用氦管路结构在间隙汽缸处于下降位置时的示意图2是现有的机台用氦管路结构在间隙汽缸处于上升位置时的示意图3是本专利技术一种机台用氦管路结构的实施例在间隙汽缸处于下降 位置时的示意图4是本专利技术一种机台用氦管路结构的实施例在间隙汽缸处于上升 位置时的示意图。具体实施例方式下面结合附图对本专利技术的具体实施方式作更详细的描述。参见图3和图4 ，本专利技术提出一种机台用氦管路结构，包括一段水 平管路51和一段垂直管路52，该水平管路51的一端与固定于机台框架1 的氦气供应端21相连通，另一端与垂直管路52的下端相连接，该垂直管4路52的上端与固定在间隙汽缸上的背压系统相连通。如此设置可以避免氦管与机台框架相接触而产生摩擦损耗，同时增加了氦管路的延展性。作为优选，该水平管路51为硬质管路，最好是硬质的直管，该垂直 管路52为软质管路，最好是螺旋软管，该螺旋软管可以进一步增加氦管 路的延展性，使氦管泄漏的可能性进一步降低。为了防止氦管路随间隙汽缸的上升或下降而发生抖动磨损及接头松 脱，可以加装氦管路支撑架，将水平管路固定于管路支撑架之上，从而进 一步避免了氦管路泄漏的可能性。以上描述了本专利技术的较佳实施例及其效果，当然，本专利技术还可有其他 实施例，在不背离本专利技术之精神及实质的情况下，所属
的技术人 员当可根据本专利技术作出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形 都应属于本专利技术的权利要求的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种机台用氦管路结构，其特征在于，包括一段水平管路与一段垂直管路，其中，水平管路的一端与固定于机台框架的氦气供应端相连通，另一端与垂直管路的下端相连通，垂直管路的上端与固定在间隙汽缸上的背压系统相连通，上述垂直管路为可伸缩式的，随机台间隙汽缸的上下移动而伸缩。

【技术特征摘要】
1.一种机台用氦管路结构，其特征在于，包括一段水平管路与一段垂直管路，其中，水平管路的一端与固定于机台框架的氦气供应端相连通，另一端与垂直管路的下端相连通，垂直管路的上端与固定在间隙汽缸上的背压系统相连通，上述垂直管路为可伸缩式的，随机台间隙汽缸的上下移动而伸缩。2. 根据权利要求1所述的一种机...

【专利技术属性】
技术研发人员：李斌，
申请(专利权)人：和舰科技苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：32[中国|江苏]