【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及电池制备领域，具体而言，涉及一种电极涂覆调控方法、装置、存储介质以及电池。
技术介绍
1、随着涂布技术的发展，逐渐形成了可以同时进行双层的涂布技术。由于配方的迭代升级，上下层涂布方式不仅仅是配方上的差异，往往还有主材克容量的差异，在涂布的过程中，由于各种原因可能会造成的面密度波动，双层涂布尤其是含硅的双层涂布，由于克容量相差较大，涂布的过程中上下层面密度波动会造成较大的容量偏差，有析锂或者实际dod(即放电深度)较浅的风险。
2、常规的面密度监测的方法，只能给出上层叠加后的结果，往往需要经过停机和线下标定，进行面密度确认，之后再反复进行单层的调试，使得涂布后的电极可以达到工艺标准。相关技术中无法对于上下层的面密度进行在线的监控，面密度出现异常时无法在线调节，需要停机并确定单面面密度，在涂布过程中花费的调节周期较久，导致电极涂布的的效率大大降低。
3、针对上述的问题，目前尚未提出有效的解决方案。
技术实现思路
1、本专利技术实施例提供了一种电极涂覆调控方法、装置、存储介质以及电池，以至少解决相关技术中无法对电极涂覆的面密度进行在线检测和调控，导致电极涂覆效率不理想的技术问题。
2、根据本专利技术实施例的一个方面，提供了一种电极涂覆调控方法，包括：获取参考极片的参考面密度，以及获取目标极片的目标面密度，其中，所述目标极片的目标涂覆层数大于所述参考极片的参考涂覆层数；根据所述目标面密度和所述参考面密度，确定对所述目标极片的涂覆调控策略；采
3、可选地，所述根据所述目标面密度和所述参考面密度，确定对所述目标极片的涂覆调控策略，包括：获取所述目标极片对应的第一阈值，以及所述参考极片对应的第二阈值；确定所述目标面密度与所述第一阈值的第一偏差值，以及所述参考面密度与所述第二阈值的第二偏差值；基于所述第一偏差值和所述第二偏差值，确定所述目标极片中包括的所述目标涂覆层数的涂层分别对应的调控值；基于所述目标涂覆层数的涂层分别对应的调控值，确定所述涂覆调控策略。
4、可选地，所述基于所述目标涂覆层数的涂层分别对应的调控值，确定所述涂覆调控策略，包括：基于所述目标涂覆层数的涂层分别对应的调控值的正负，确定所述目标涂覆层数的涂层分别对应的调控方向；基于所述目标涂覆层数的涂层分别对应的调控值和调控方向，确定所述涂覆调控策略。
5、可选地，所述目标涂覆层数为至少两层，所述参考极片为至少一片，所述目标涂覆层数的涂层存在距离集流体由近到远的涂覆顺序，所述基于所述第一偏差值和所述第二偏差值，确定所述目标极片中包括的所述目标涂覆层数的涂层分别对应的调控值，包括：将所述至少一片的参考极片按照参考涂覆层数由少到多排序，得到所述至少一片的参考极片的参考排序结果，其中，所述参考排序结果依次与所述涂覆顺序中除最后一层之外的涂层相对应；将所述参考排序结果指示的第一个参考极片对应的第二阈值，作为第三阈值；确定所述第一个参考极片的参考面密度与所述第三阈值之间的第二偏差值，作为第三偏差值；基于所述第三偏差值，确定所述目标极片中第一层的涂层对应的调控值；将所述参考排序结果指示的第二个参考极片对应的第二阈值，作为第四阈值；确定所述第二个参考极片的参考面密度与所述第四阈值之间的第二偏差值，作为第四偏差值；基于所述第四偏差值，以及所述第一层的涂层对应的调控值，确定所述目标极片中的第二层的涂层对应的调控值；采用确定所述目标极片中第二层的涂层对应的调控值的方式，按照所述涂覆顺序依次确定所述目标极片中除最后一层之外的涂层分别对应的调控值；基于所述第一偏差值，以及所述最后一层的涂层之前的前一层的涂层对应的调控值，确定所述最后一层的涂层对应的调控值。
6、可选地，所述获取参考极片的参考面密度，以及获取目标极片的目标面密度，包括：确定获取所述参考面密度和所述目标面密度的参数获取策略；在所述参数获取策略为并发获取策略的情况下，获取所述参考面密度，并且获取所述目标面密度；在所述参数获取策略为第一触发获取策略的情况下，比较所述目标面密度是否处于第一波动范围，得到第一比较结果；若所述第一比较结果为所述目标面密度未处于所述第一波动范围，则触发获取所述参考面密度，其中，所述第一波动范围包括第一阈值；在所述参数获取策略第二触发获取策略的情况下，比较所述参考面密度是否处于第二波动范围，得到第二比较结果；若所述第二比较结果为所述参考面密度未处于所述第二波动范围，则触发获取所述目标面密度，其中，所述第二波动范围包括第二阈值。
7、可选地，所述参考极片设置于所述目标极片的第一方向上，所述第一方向为所述目标极片的涂覆行进方向；所述参考极片的集流体与所述目标极片的集流体相连。
8、可选地，所述参考极片设置于所述目标极片的第二方向上，所述第二方向与所述目标极片的涂覆行进方向相垂直；所述参考极片的集流体与所述目标极片的集流体相连；或，所述参考极片的集流体与所述目标极片的集流体之间存在预定间隔距离。
9、可选地，所述目标极片中包括的所述目标涂覆层数的涂层，与所述参考极片中包括的所述参考涂覆层数的涂层存在一一对应的匹配关系，其中，所述匹配关系包括以下至少任意之一：按照距离集流体由近到远的涂覆顺序，所述目标涂覆层数的涂层中每一层的目标面密度，与所述参考涂覆层数的涂层中每一层的参考面密度，存在一一对应的面密度匹配关系；按照距离集流体由近到远的涂覆顺序，所述目标涂覆层数的涂层中每一层的涂覆进度，与所述参考涂覆层数的涂层中每一层的涂覆进度，存在一一对应的涂覆进度匹配关系；按照距离集流体由近到远的涂覆顺序，所述目标涂覆层数的涂层中每一层的涂覆材料，与所述参考涂覆层数的涂层中每一层的涂覆材料，存在一一对应的涂覆材料匹配关系。
10、根据本专利技术实施例的另一方面，提供了一种电极涂覆调控装置，包括：采集模块，用于获取参考极片的参考面密度，以及获取目标极片的目标面密度，其中，所述目标极片的目标涂覆层数大于所述参考极片的参考涂覆层数；策略确定模块，用于根据所述目标面密度和所述参考面密度，确定对所述目标极片的涂覆调控策略；涂覆控制模块，用于采用所述涂覆调控策略，执行对所述目标极片的涂覆处理。
11、根据本专利技术实施例的另一方面，提供了一种非易失性存储介质，所述非易失性存储介质存储有多条指令，所述指令适于由处理器加载并执行任意一项所述的电极涂覆调控方法。
12、根据本专利技术实施例的另一方面，提供了一种电池，包括采用任意一项所述的电极涂覆调控方法制备得到的电极极片。
13、在本专利技术实施例中，采用在线调控方式，通过获取参考极片的参考面密度，以及获取目标极片的目标面密度，其中，所述目标极片的目标涂覆层数大于所述参考极片的参考涂覆层数；根据所述目标面密度和所述参考面密度，确定对所述目标极片的涂覆调控策略；采用所述涂覆调控策略，执行对所述目标极片的涂覆处理。达到了在线标定和调控涂布电极的面密度的目的，实现了减少检测标定耗时，提高电极涂覆效率本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种电极涂覆调控方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述目标面密度和所述参考面密度，确定对所述目标极片的涂覆调控策略，包括：
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述基于所述目标涂覆层数的涂层分别对应的调控值，确定所述涂覆调控策略，包括：
4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述目标涂覆层数为至少两层，所述参考极片为至少一片，所述目标涂覆层数的涂层存在距离集流体由近到远的涂覆顺序，所述基于所述第一偏差值和所述第二偏差值，确定所述目标极片中包括的所述目标涂覆层数的涂层分别对应的调控值，包括：
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述获取参考极片的参考面密度，以及获取目标极片的目标面密度，包括：
6.根据权利要求1至5中任意一项所述的方法，其特征在于，所述参考极片设置于所述目标极片的第一方向上，所述第一方向为所述目标极片的涂覆行进方向；
7.根据权利要求1至5中任意一项所述的方法，其特征在于，所述参考极片设置于所述目标极片的第二方向上，所述第二方向与所
8.根据权利要求1至5中任意一项所述的方法，其特征在于，所述目标极片中包括的所述目标涂覆层数的涂层，与所述参考极片中包括的所述参考涂覆层数的涂层存在一一对应的匹配关系，其中，所述匹配关系包括以下至少任意之一：
9.一种电极涂覆调控装置，其特征在于，包括：
10.一种非易失性存储介质，其特征在于，所述非易失性存储介质存储有多条指令，所述指令适于由处理器加载并执行权利要求1至8中任意一项所述的电极涂覆调控方法。
11.一种电池，其特征在于，包括采用权利要求1至8中任意一项所述的电极涂覆调控方法制备得到的电极极片。
...【技术特征摘要】
1.一种电极涂覆调控方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述目标面密度和所述参考面密度，确定对所述目标极片的涂覆调控策略，包括：
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述基于所述目标涂覆层数的涂层分别对应的调控值，确定所述涂覆调控策略，包括：
4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述目标涂覆层数为至少两层，所述参考极片为至少一片，所述目标涂覆层数的涂层存在距离集流体由近到远的涂覆顺序，所述基于所述第一偏差值和所述第二偏差值，确定所述目标极片中包括的所述目标涂覆层数的涂层分别对应的调控值，包括：
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述获取参考极片的参考面密度，以及获取目标极片的目标面密度，包括：
6.根据权利要求1至5中任意一项所述的方法，其特征在于，所述参考极片设置于...
【专利技术属性】
技术研发人员：任明秀，张烨，王健，赵勇，林宇，
申请(专利权)人：上海轩邑新能源发展有限公司，
类型：发明
国别省市：
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