【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及显示的，特别涉及一种彩膜基板、制作方法、显示基板及显示装置。
技术介绍
1、近年来，传统显示技术迅猛发展的同时，其对开口率、分辨率等要求也越来越高，如ar(augmented reality，增强现实技术)和vr(virtual reality，虚拟现实技术)等。对于lcd(liquid crystal display，液晶显示器)来说，通常会在彩膜基板上制备黑矩阵，以阻止背光模组的光线入射到旁边的子像素而产生的混色，遮挡因液晶取向紊乱而产生的漏光，从而提高对比度，同时遮挡外界光源入射。但是现有技术中的黑矩阵材料的原因，导致当制备较小尺寸的黑矩阵的图形时，在高温、高湿、高压的环境下，由于黑矩阵本身的粘接力不够，使得黑矩阵容易发生剥离(黑矩阵层中出现裂纹)，导致空气中的水蒸气分子会沿着剥离位置不断渗入，直至到达显示区，从而使显示区域形成气泡，影响显示效果。
技术实现思路
1、本专利技术公开了一种彩膜基板、制作方法、显示基板及显示装置，用于保证视场角的前提下提高显示装置的分辨率及开口率。
2、为达到上述目的，本专利技术提供以下技术方案：
3、第一方面，本专利技术提供的一种彩膜基板，包括：
4、衬底；
5、位于所述衬底一侧的色阻层，所述色阻层包括多个色阻单元；
6、遮挡结构，所述遮挡结构至少位于所述多个色阻单元中的相邻的两个色阻单元之间；
7、其中，所述遮挡结构包括依次层叠设置的第一无机层、第一金属层、
8、在衬底的一侧设置有色阻层，色阻层包括多个色阻单元，且多个色阻单元至少具有两个不同颜色，在相邻的两个色阻单元之间设置有遮挡结构，遮挡结构为依次层叠设置的多层结构，多层结构具体包括第一无机层、第一金属层、第二无机层和第二金属层，其中，第一无机层位于衬底的一侧，第一金属层位于第一无机层背离衬底的一侧，第二无机层所述第一金属层背离第一无机层的一侧，第二金属层位于第二无机层背离第一金属层的一侧，在多层结构的膜层排布方向上、第二金属层的厚度大于第一金属层的厚度，第二金属层主要起到挡光的作用，具体第二金属层阻挡的光可以是背光模组、或者外界光由衬底一侧进入并穿透第一无机层、第一金属层和第二无机层照射到第二金属层上的光，由于第二金属层的存在，将照射到第二金属层上的光反射回至衬底侧，从而提高了分辨率和开口率。另外，当外界光由衬底方向向内入射时，衬底背离遮挡结构表面形成有第一反射光，第一无机层朝向衬底的表面形成有第二反射光，第一金属层朝向第一无机层的表面形成有第三反射光，第一反射光、第二反射光和第三反射光干涉相消，利用光的干涉原理，以降低遮挡结构的反射率，达到黑化效果；遮挡结构的材料可以采用光刻工艺制得，通过光刻工艺能够得到较小尺寸的图案，在较小尺寸下仍能保持完整图形，并且该工艺制备的遮挡结构避免遮挡结构剥离问题，由此遮挡结构在保证视场角的前提下还能提高分辨率及开口率。另外，由于遮挡结构的材料为金属与无机材料的叠层结构，为显示行业常用膜层材料，因此本专利技术实施例提供的彩膜基材中的遮挡结构制作成本低且应用广泛。
9、可选地，所述遮挡结构包括顶面、底面和连接所述顶面和所述底面的至少一个侧面，所述底面在所述衬底上的正投影位于所述顶面在所述衬底上的正投影范围内；
10、所述侧面的坡度角范围为60侧-80侧。
11、可选地，所述顶面在所述衬底上的正投影的边缘与所述底面在所述衬底上的正投影的边缘距离范围为
12、可选地，所述第二金属层在所述衬底上的正投影位于所述第二无机层在所述衬底上的正投影的范围内；
13、所述第二无机层在所述衬底上的正投影位于所述第一金属层在所述衬底上的正投影的范围内；
14、所述第一金属层在所述衬底上的正投影位于所述第一无机层在所述衬底上的正投影的范围内。
15、可选地，由所述衬底指向所述盖板方向，还包括：保护层，所述保护层位于所述遮挡结构背离所述衬底的一侧，由所述衬底指向所述保护层方向，所述第一无机层的厚度为所述第二无机层的厚度为
16、可选地，所述第一无机层的材料包括氧化硅或氮化硅；所述第二无机层的材料包括氧化硅或氮化硅。
17、可选地，所述第一金属层的厚度为所述第二金属层的厚度大于
18、可选地，所述第一金属层的材料包括铬、钨或钼；所述第二金属层的材料包括铬、钨或钼。
19、可选地，所述第一金属层和所述第二金属层的材料相同。
20、第二方面，本专利技术提供的一种彩膜基板的制作方法，包括：
21、提供一衬底；
22、在衬底沉积形成有第一无机层；
23、在第一无机层背离盖板的一侧溅射形成有第一金属层；
24、在第一金属层背离第一无机层的一侧沉积形成有第二无机层；
25、在所述第二无机层背离所述第一金属层的一侧溅射形成有第二金属层。
26、第三方面，本专利技术提供的一种显示基板，包括：阵列基板以及与所述阵列基板相对设置的第一方面任一项所述的彩膜基板；
27、所述彩膜基板和所述阵列基板之间设置有液晶层；
28、其中，所述阵列基板包括公共电极层；
29、所述公共电极层采用第一方面任一项所述彩膜基板中的遮挡结构。
30、第四方面，本专利技术提供的一种显示装置，包括背光模组和位于所述背光模组出光侧的第三方面所述的显示基板。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述遮挡结构包括顶面、底面和连接所述顶面和所述底面的至少一个侧面，所述底面在所述衬底上的正投影位于所述顶面在所述衬底上的正投影范围内；
3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述顶面在所述衬底上的正投影的边缘与所述底面在所述衬底上的正投影的边缘距离范围为
4.根据权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，
5.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，还包括：保护层，所述保护层位于所述遮挡结构背离所述衬底的一侧，由所述衬底指向所述保护层方向，所述第一无机层的厚度为所述第二无机层的厚度为
6.根据权利要求5所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一无机层的材料包括氧化硅或氮化硅；所述第二无机层的材料包括氧化硅或氮化硅。
7.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一金属层的厚度为所述第二金属层的厚度大于
8.根据权利要求7所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一金属层的材料包括铬、钨或钼；所述第二金属层的材料包括铬
9.根据权利要求8所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一金属层和所述第二金属层的材料相同。
10.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：
11.一种显示基板，其特征在于，包括：阵列基板以及与所述阵列基板相对设置的权利要求1-9任一项所述的彩膜基板；
12.一种显示装置，其特征在于，包括背光模组和位于所述背光模组出光侧的权利要求11所述的显示基板。
...【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述遮挡结构包括顶面、底面和连接所述顶面和所述底面的至少一个侧面，所述底面在所述衬底上的正投影位于所述顶面在所述衬底上的正投影范围内；
3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述顶面在所述衬底上的正投影的边缘与所述底面在所述衬底上的正投影的边缘距离范围为
4.根据权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，
5.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，还包括：保护层，所述保护层位于所述遮挡结构背离所述衬底的一侧，由所述衬底指向所述保护层方向，所述第一无机层的厚度为所述第二无机层的厚度为
6.根据权利要求5所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一无机层的...
【专利技术属性】
技术研发人员：李菲菲，宁策，李正亮，胡合合，黄杰，姚念琦，赵坤，贺家煜，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。