【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及滚触足底刺激，尤其是涉及符合人体工程学的玉石滚触足底刺激的一种玉石滚触足底刺激装置。
技术介绍
1、针对被动滚轮转动足底刺激方法及装置，即需人体自主运动完成足底刺激，存在消耗体力及自主运动强度个体差异而导致足底刺激体验感受不同的情况；针对体验者在疲劳状态下无力自主运动踩踏滚轮的情况，本专利技术提出一种主动式滚轮转动足底刺激方法及装置可以在足底水平向及垂直方向产生两种往复刺激应力，提高滚轮介质对足底相关部位的刺激功效。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是：克服不同体力的人用力不等导致按摩效果优劣不等，及体力疲乏状态下无力做自主运动按摩问题。
2、为了达到上述目的，本专利技术的技术方案提供了一种玉石滚触足底刺激装置，包括支架、多个设于所述支架上的滑轨、多个沿第一方向对应滑移穿设所述滑轨的滑轴、多个对应固定设于所述滑轴上的滚轴固定座、多个沿第二方向固定设于相邻所述滚轴固定座之间的滚轴、以及套设于所述滚轴上的滚轮，其中第一方向与第二方向垂直，所述支架设有可驱动所述滑轴、所述滚轴固定座在所述支架上往复运动的电动往复驱动元件和传动机构。
3、优选的，所述滚轮采用玉制滚轮。
4、优选的，所述滚轴采用玉制滚轴。
5、优选的，所述滑轴和所述滚轴固定座对应设为3组，所述滚轮和所述滚轴对应设为2组。
6、优选的，所述滚轮和所述滚轴每组数量可设为2至4个。
7、优选的，所述电动往复驱动元件及所述传动机构驱动所述滑轴沿第
8、优选的，所述滚轮下方设有足底区域温度辐射元件。
9、优选的，所述支架设有用于控制所述足底区域温度辐射元件的触感控制器件。
10、综上所述，本专利技术包括以下有益技术效果：
11、本专利技术提供一种不需人体耗力自主运动的玉石滚触足底刺激装置，只需将双脚放在玉制滚轮组上，电动元件驱动玉制滚轮水平运动结合体验者双腿和双足的重力使玉制滚轮滚动触压足底，产生类按摩功效。
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1.一种玉石滚触足底刺激装置，其特征在于，包括支架(3)、多个设于所述支架(3)上的滑轨(5)、多个沿第一方向对应滑移穿设所述滑轨(5)的滑轴(10)、多个对应固定设于所述滑轴(10)上的滚轴固定座(7)、多个沿第二方向固定设于相邻所述滚轴固定座(7)之间的滚轴、以及套设于所述滚轴上的滚轮，其中第一方向与第二方向垂直，所述支架(3)设有可驱动所述滑轴(10)和所述滚轴固定座(7)在所述支架(3)上往复运动的电动往复驱动元件(4)和传动机构(8)。
2.根据权利要求1所述的一种玉石滚触足底刺激装置，其特征在于，所述滚轮采用玉制滚轮(1)。
3.根据权利要求2所述的一种玉石滚触足底刺激装置，其特征在于，所述滚轴采用玉制滚轴(2)。
4.根据权利要求1所述的一种玉石滚触足底刺激装置，其特征在于，所述滑轴(10)和所述滚轴固定座(7)对应设为3组，所述滚轮和所述滚轴对应设为2组。
5.根据权利要求4所述的一种玉石滚触足底刺激装置，其特征在于，所述滚轮和所述滚轴每组数量可设为2至4个。
6.根据权利要求1所述的一种玉石滚触足底刺激
7.根据权利要求1所述的一种玉石滚触足底刺激装置，其特征在于，所述滚轮下方设有足底区域温度辐射元件(9)。
8.根据权利要求7所述的一种玉石滚触足底刺激装置，其特征在于，所述支架(3)设有用于控制所述足底区域温度辐射元件(9)的触感控制器件(6)。
...【技术特征摘要】
1.一种玉石滚触足底刺激装置，其特征在于，包括支架(3)、多个设于所述支架(3)上的滑轨(5)、多个沿第一方向对应滑移穿设所述滑轨(5)的滑轴(10)、多个对应固定设于所述滑轴(10)上的滚轴固定座(7)、多个沿第二方向固定设于相邻所述滚轴固定座(7)之间的滚轴、以及套设于所述滚轴上的滚轮，其中第一方向与第二方向垂直，所述支架(3)设有可驱动所述滑轴(10)和所述滚轴固定座(7)在所述支架(3)上往复运动的电动往复驱动元件(4)和传动机构(8)。
2.根据权利要求1所述的一种玉石滚触足底刺激装置，其特征在于，所述滚轮采用玉制滚轮(1)。
3.根据权利要求2所述的一种玉石滚触足底刺激装置，其特征在于，所述滚轴采用玉制滚轴(2)。
4.根据权利要...
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