【技术实现步骤摘要】
本技术涉及蒸镀装置，具体而言，涉及一种坩埚组件及蒸镀装置。
技术介绍
1、真空蒸镀(简称蒸镀)是指在真空条件下，采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化，粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。蒸镀是使用较早、用途较广泛的气相沉积技术，具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点。真空蒸镀使用的加热方式主要有：电阻加热、电子束加热、射频感应加热、电弧加热和激光加热等几种。其中，电子束加热蒸镀依赖电磁场的配合，可以利用高能电子轰击并加热坩埚上的待沉积靶材并使其蒸发，进而沉积在基片上形成膜层。电子束蒸镀可以镀出高纯度、高精度的薄膜，且蒸镀的速率快，同时电子束定位准确，可以一定程度避免坩埚材料的蒸发和污染，故而在光学膜层、热防护涂层、防蚀涂层制备方面被广泛应用。
2、然而，在进行半导体金属镀膜过程中，同一炉次中需要镀多层不同厚度的金属，镀不同金属时需要通过旋转坩埚进行切换金属。这时，在通过电子束蒸发或者热蒸发进行镀膜时，金属会通过旋转时坩埚与防护板之间的缝隙扩散到隔壁的坩埚中，从而造成不同坩埚内的金属之间的互相污染，如此，将导致镀膜工艺不稳定，进而使得蒸镀得到的产品性能不稳定。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种坩埚组件及蒸镀装置，该坩埚组件及蒸镀装置能够改善在蒸镀过程中不同坩埚内的靶材发生相互污染，从而提高蒸镀得到的膜层的性能。
2、本技术的实施例是这样实现的：
3、本技术的一方面，提供一种坩埚组件，该坩埚组件包括
4、可选地，坩埚的内壁上设有避位部，避位部位于坩埚的开口处，阻挡板受驱朝向露出的坩埚的开口处运动，阻挡板能够与避位部配合。
5、可选地，避位部呈环形设置于坩埚的内壁上，阻挡板与避位部外形适配。
6、可选地，坩埚组件还包括与阻挡板传动连接的驱动机构，驱动机构用于驱动阻挡板运动，以使阻挡板阻挡露出的坩埚与防护板沿第一方向的间隙。
7、可选地，阻挡板上设有多个凹部或凸部。
8、可选地，阻挡板上设有进水口、出水口以及连通进水口和出水口的水冷通道。
9、可选地，多个坩埚均匀分布于承载台上，且多个坩埚沿承载台的中心轴线呈圆周分布。
10、本技术的另一方面，提供一种蒸镀装置，该蒸镀装置包括电子枪结构和上述的坩埚组件；坩埚组件的坩埚内设有靶材，电子枪结构用于发出电子束以轰击自坩埚组件的缺口露出的坩埚内的靶材。
11、可选地，电子枪结构设于坩埚组件的一侧。
12、可选地，蒸镀装置还包括设于坩埚组件一侧的磁场发生器，磁场发生器用于产生使电子枪结构发出的电子束朝向露出的坩埚内的靶材的方向偏转的磁场，以使电子束能够自露出的坩埚的开口处垂直轰击靶材。
13、本技术的有益效果包括：
14、本申请提供的坩埚组件包括具有多个凹槽的承载台、对应设于多个凹槽内的多个坩埚、与承载台传动连接的转动机构、设于坩埚上方且与坩埚间隔设置的防护板，以及阻挡板；转动机构用于驱动承载台转动，以带动设于承载台上的多个坩埚相对承载台的中心轴线转动；防护板上设有缺口，其中一个坩埚的开口自缺口处露出，剩余坩埚的开口被防护板盖合遮挡；阻挡板设于缺口处，且阻挡板受驱朝向露出的坩埚的开口处运动，能够阻挡露出的坩埚与防护板沿第一方向的间隙，第一方向与坩埚的中心轴线平行。通过设置防护板，以在通过电子枪结构对自缺口处露出的单个坩埚内的靶材进行熔融或蒸镀时，防护板能够遮挡其他坩埚，从而降低对其他坩埚内的靶材的污染。通过设置阻挡板，能够遮挡防护板和自缺口处露出的单个坩埚之间的间隙，从而隔绝自缺口处露出的单个坩埚和与其相邻的其他坩埚之间的通道，如此可以进一步降低对其他坩埚内的靶材的污染。且在此过程中，由于防护板和坩埚之间具有间隙，阻挡板可以受驱朝向靠近坩埚的方向运动或者远离坩埚的方向运动，因此，防护板和阻挡板的设置也不会对多个坩埚的正常转动切换造成影响。基于此，本申请提供的坩埚组件能够改善在蒸镀过程中不同坩埚内的靶材发生相互污染，从而提高蒸镀得到的膜层的性能。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种坩埚组件，其特征在于，包括具有多个凹槽的承载台、对应设于多个所述凹槽内的多个坩埚、与所述承载台传动连接的转动机构、设于所述坩埚上方且与所述坩埚间隔设置的防护板，以及阻挡板；所述转动机构用于驱动所述承载台转动，以带动设于所述承载台上的多个所述坩埚相对所述承载台的中心轴线转动；
2.根据权利要求1所述的坩埚组件，其特征在于，所述坩埚的内壁上设有避位部，所述避位部位于所述坩埚的开口处，所述阻挡板受驱朝向露出的所述坩埚的开口处运动，所述阻挡板能够与所述避位部配合。
3.根据权利要求2所述的坩埚组件，其特征在于，所述避位部呈环形设置于所述坩埚的内壁上，所述阻挡板与所述避位部外形适配。
4.根据权利要求1所述的坩埚组件，其特征在于，所述坩埚组件还包括与所述阻挡板传动连接的驱动机构，所述驱动机构用于驱动所述阻挡板运动，以使所述阻挡板阻挡露出的所述坩埚与所述防护板沿所述第一方向的所述间隙。
5.根据权利要求1所述的坩埚组件，其特征在于，所述阻挡板上设有多个凹部或凸部。
6.根据权利要求1或5所述的坩埚组件，其特征在于，所述阻挡板
7.根据权利要求1所述的坩埚组件，其特征在于，多个所述坩埚均匀分布于所述承载台上，且多个所述坩埚沿所述承载台的中心轴线呈圆周分布。
8.一种蒸镀装置，其特征在于，包括电子枪结构和权利要求1至7中任意一项所述的坩埚组件；所述坩埚组件的坩埚内设有靶材，所述电子枪结构用于发出电子束以轰击自坩埚组件的缺口露出的所述坩埚内的靶材。
9.根据权利要求8所述的蒸镀装置，其特征在于，所述电子枪结构设于所述坩埚组件的一侧。
10.根据权利要求8所述的蒸镀装置，其特征在于，所述蒸镀装置还包括设于所述坩埚组件一侧的磁场发生器，所述磁场发生器用于产生使所述电子枪结构发出的电子束朝向露出的所述坩埚内的靶材的方向偏转的磁场，以使所述电子束能够自露出的所述坩埚的开口处垂直轰击所述靶材。
...【技术特征摘要】
1.一种坩埚组件，其特征在于，包括具有多个凹槽的承载台、对应设于多个所述凹槽内的多个坩埚、与所述承载台传动连接的转动机构、设于所述坩埚上方且与所述坩埚间隔设置的防护板，以及阻挡板；所述转动机构用于驱动所述承载台转动，以带动设于所述承载台上的多个所述坩埚相对所述承载台的中心轴线转动；
2.根据权利要求1所述的坩埚组件，其特征在于，所述坩埚的内壁上设有避位部，所述避位部位于所述坩埚的开口处，所述阻挡板受驱朝向露出的所述坩埚的开口处运动，所述阻挡板能够与所述避位部配合。
3.根据权利要求2所述的坩埚组件，其特征在于，所述避位部呈环形设置于所述坩埚的内壁上，所述阻挡板与所述避位部外形适配。
4.根据权利要求1所述的坩埚组件，其特征在于，所述坩埚组件还包括与所述阻挡板传动连接的驱动机构，所述驱动机构用于驱动所述阻挡板运动，以使所述阻挡板阻挡露出的所述坩埚与所述防护板沿所述第一方向的所述间隙。
5.根据权利要求1所述的坩埚组件，其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员：樊成龙，张念站，
申请(专利权)人：苏州矩阵光电有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。