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基板支撑装置、清洗装置、基板的旋转速度的计算装置及方法、以及机器学习装置制造方法及图纸

技术编号:41457748 阅读:11 留言:0更新日期:2024-05-28 20:44
本发明专利技术的基板支撑装置具备:配置于框体内,并保持基板的周缘部的多个辊;通过驱动多个辊旋转而使基板旋转的旋转驱动部;设置成从辊或旋转驱动部延伸至框体,将因基板的周缘部的凹槽或定向平面接触辊而产生的振动传递至框体的振动传递机构;配置于框体的外侧,检测从框体产生的声音、振动及应变中的至少一个,并输出与其对应的信号的检测传感器;及基于从检测传感器输出的信号来计算基板的旋转速度的旋转速度计算部。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术关于一种基板支撑装置、清洗装置、基板的旋转速度的计算装置及方法、以及机器学习装置


技术介绍

1、半导体器件的制造工序中,在半导体晶片等基板的表面实施成膜、蚀刻、研磨等各种处理。在这些各种处理的前后,因为需要将基板表面保持洁净,而进行基板的清洗处理。基板清洗处理时,广泛使用通过多个辊保持基板的周缘部并通过驱动辊旋转而使基板旋转,将清洗构件抵压于旋转的基板进行清洗的清洗机。

2、如上所述,在由多个辊保持基板的周缘部而使其旋转的清洗机中,通过清洗构件在基板的表面施加规定压力,并摩擦基板的表面,来清除基板的表面的污垢(微粒子等),所以有时在基板与辊之间发生滑动,造成基板的旋转速度比设定旋转速度降低。

3、此外,在清洗基板的基板清洗处理之外,即使由辊保持基板而使其旋转时也需要更加改善的基板的旋转速度的计算方法。

4、目前,为了判定是否在基板与辊之间发生滑动,采用使惰轮接触基板的周缘部来测量基板的实际旋转速度的方法,不过,在该方法中,由于来自惰轮的污垢附着造成洁净性能降低,及因为在基板与惰轮之间发生的滑动造成测量错误,所以希望采用不使用惰轮来测量基板的实际旋转速度的方法。

5、日本特开2003-77881号公报(专利文献1)中公开了通过安装于辊的振动传感器来检测因被旋转驱动的基板的凹槽接触辊而在该辊上产生的振动,并基于该振动的检测来判定是否在基板与辊之间发生滑动的技术。

6、但是,专利文献1中用于检测振动的振动传感器直接安装于辊,维修性有问题。为了提高维修性,而考虑将传感器从外侧安装于框体的外板,不过,此时会有框体的外部的设备产生的声音或振动、以及框体内与基板的旋转速度无关地产生的声音或振动(例如因清洗液流动而产生的声音及振动等)作为噪音而混入的问题。


技术实现思路

1、在通过多个辊保持基板的周缘部而使其旋转的基板支撑装置中,希望提供一种可提高维修性,并可精确地求出基板的旋转速度的技术。此外,在支撑基板并使其旋转的基板支撑装置中,也希望提供一种用于推定是否产生旋转异常、旋转异常程度是何种程度的技术。

2、本专利技术一方式的基板支撑装置具备:

3、多个辊,该多个辊配置于框体内,并保持基板的周缘部;

4、旋转驱动部,该旋转驱动部通过驱动所述多个辊旋转而使所述基板旋转;

5、振动传递机构,该振动传递机构设置成从所述辊或旋转驱动部延伸至所述框体,将因所述基板的周缘部的凹槽或定向平面接触所述辊而产生的振动传递至所述框体;

6、检测传感器,该检测传感器配置于所述框体的外侧,检测从所述框体产生的声音、振动及应变中的至少一个,并输出与其对应的信号;以及

7、旋转速度计算部,该旋转速度计算部基于从所述检测传感器输出的信号来计算所述基板的旋转速度。

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【技术保护点】

1.一种基板支撑装置,其特征在于,具备:

2.根据权利要求1所述的基板支撑装置,其特征在于,

3.根据权利要求1或2所述的基板支撑装置,其特征在于,

4.根据权利要求3所述的基板支撑装置,其特征在于,

5.根据权利要求3或4所述的基板支撑装置,其特征在于,

6.根据权利要求5所述的基板支撑装置,其特征在于,

7.根据权利要求5所述的基板支撑装置,其特征在于,

8.根据权利要求5所述的基板支撑装置,其特征在于,

9.根据权利要求8所述的基板支撑装置,其特征在于,

10.根据权利要求1~9中任一项所述的基板支撑装置,其特征在于,

11.根据权利要求1~10中任一项所述的基板支撑装置,其特征在于,

12.根据权利要求1~11中任一项所述的基板支撑装置,其特征在于,

13.根据权利要求1~12中任一项所述的基板支撑装置,其特征在于,

14.根据权利要求1~13中任一项所述的基板支撑装置,其特征在于,

15.根据权利要求14所述的基板支撑装置,其特征在于,

16.根据权利要求1~15中任一项所述的基板支撑装置,其特征在于,

17.根据权利要求16所述的基板支撑装置,其特征在于,

18.根据权利要求16或17所述的基板支撑装置,其特征在于,

19.根据权利要求16~18中任一项所述的基板支撑装置,其特征在于,

20.根据权利要求16~19中任一项所述的基板支撑装置,其特征在于,

21.根据权利要求16~20中任一项所述的基板支撑装置,其特征在于,

22.根据权利要求16~21中任一项所述的基板支撑装置,其特征在于,

23.根据权利要求13所述的基板支撑装置,其特征在于,

24.一种研磨装置,其特征在于,具有:

25.一种基板的旋转速度的计算装置,使用在基板支撑装置中,该基板支撑装置具备:

26.一种基板的旋转速度的计算方法,使用在基板支撑装置中,该基板支撑装置具备:

27.根据权利要求26所述的计算方法,其特征在于,

28.一种机器学习装置,其特征在于,具备:

29.根据权利要求28所述的机器学习装置,其特征在于,

30.根据权利要求28所述的机器学习装置,其特征在于,

...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种基板支撑装置,其特征在于,具备:

2.根据权利要求1所述的基板支撑装置,其特征在于,

3.根据权利要求1或2所述的基板支撑装置,其特征在于,

4.根据权利要求3所述的基板支撑装置,其特征在于,

5.根据权利要求3或4所述的基板支撑装置,其特征在于,

6.根据权利要求5所述的基板支撑装置,其特征在于,

7.根据权利要求5所述的基板支撑装置,其特征在于,

8.根据权利要求5所述的基板支撑装置,其特征在于,

9.根据权利要求8所述的基板支撑装置,其特征在于,

10.根据权利要求1~9中任一项所述的基板支撑装置,其特征在于,

11.根据权利要求1~10中任一项所述的基板支撑装置,其特征在于,

12.根据权利要求1~11中任一项所述的基板支撑装置,其特征在于,

13.根据权利要求1~12中任一项所述的基板支撑装置,其特征在于,

14.根据权利要求1~13中任一项所述的基板支撑装置,其特征在于,

15.根据权利要求14所述的基板支撑装置,其特征在于,

16.根据权利要求1~15中...

【专利技术属性】
技术研发人员:松田道昭宫崎充中野央二郎渡边裕辅
申请(专利权)人:株式会社荏原制作所
类型:发明
国别省市:

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