耐电击的发光二极管座体结构制造技术

本实用新型专利技术是有关于一种耐电击的发光二极管座体结构，其包括散热基座、绝缘垫片、导线架以及绝缘座体。散热基座具有凸部，而凸部具有固晶区。绝缘垫片设在散热基座上且配置于凸部的周围，其中绝缘垫片具有大于或等于０．０１公厘的厚度。导线架则架置于绝缘垫片之上，并与凸部具有间距，俾使散热基座与导线架电性隔离。绝缘座体则包覆散热基座、导线架以及绝缘垫片，借以形成本实用新型专利技术的耐电击的发光二极管座体结构。本实用新型专利技术利用间距与绝缘垫片的设计而使散热基座与导线架得以有效电性隔离，借此可达到耐电击的功效。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种耐电击的发光二极管座体结构，特别是涉及一种应用于封装发光二极管晶粒的耐电击的发光二极管座体结构。
技术介绍
图1为现有习知的发光二极管座体结构10的立体图。图2A为现有习知绝缘座体 13与导线架12的剖视图。图2B为现有习知发光二极管座体结构10的剖视图。 如图1所示，现有习知发光二极管座体结构10包括一散热基座11 ;至少一导线架 12 ;以及一绝缘座体13。散热基座11中具有一凸部111，凸部111中具有一凹槽112，凹槽 112设有一固晶区113用以接置一发光二极管晶粒40，导线架12则分布设置于在凸部111 周围。绝缘座体13先包覆导线架12成型后散热基座11再填入或塞入绝缘座体13中。 如图2A及图2B所示，现有习知发光二极管座体结构10在制造时，由于散热基座 11与导线架12均为导体，为避免散热基座11和导线架12相互接触而产生短路现象。于是 在塑模成型绝缘座体13时，可借由一顶针14将散热基座11和导线架12予以隔开。但因 为顶针14仅是为隔开散热基座11和导线架12的临时工具，因此当绝缘座体13成型并脱 模后，顶针14将会从现有习知发光二极管座体结构IO拆除，而在现有习知发光二极管座体 结构IO则会留下顶针开口 15。 惟，顶针14仅分别在导线架12两端顶入以预留与散热基座11的间隙位置。然而， 倘若在塑模成型过程中，导线架12放置不平均、顶针14插入不平均或是模具放置偏斜，均 可能使散热基座11和导线架12上下的间距不平均，进而导致散热基座11与导线架12上 下的距离过近或甚至两者有碰触到之虞，甚至容易遭受电流击穿因而显难以通过现今的UL 安规标准。况且，即便散热基座11和导线架12上下的间距可足以符合UL安规标准，散热 基座11的凸部111与导线架12仍可能相互接触，因此还是无法通过UL安规的考验。 由此可见，上述现有的发光二极管座体结构在结构与使用上，显然仍存在有不便 与缺陷，而亟待加以进一步改进。为了解决上述存在的问题，相关厂商莫不费尽心思来谋求 解决之道，但长久以来一直未见适用的设计被发展完成，而一般产品又没有适切结构能够 解决上述问题，此显然是相关业者急欲解决的问题。因此如何能创设一种新型的耐电击的 发光二极管座体结构，实属当前重要研发课题之一，亦成为当前业界极需改进的目标。 有鉴于上述现有的发光二极管座体结构存在的缺陷，本专利技术人基于从事此类产品 设计制造多年丰富的实务经验及专业知识，并配合学理的运用，积极加以研究创新，以期创 设一种新型的耐电击的发光二极管座体结构，能够改进一般现有的发光二极管座体结构， 使其更具有实用性。经过不断的研究、设计，并经过反复试作样品及改进后，终于创设出确 具实用价值的本专利技术。
技术实现思路
本技术的主要目的在于，克服现有的发光二极管座体结构存在的缺陷，而提供一种新型的耐电击的发光二极管座体结构，所要解决的技术问题是使其架置于绝缘垫片 上的导线架与散热基座的凸部保持一定间距，俾使散热基座与导线架得以电性隔离，借此 可有效耐电击，非常适于实用。 本技术的目的及解决其技术问题是采用以下的技术方案来实现的。依据本实 用新型提出的一种耐电击的发光二极管座体结构，其特征在于其包括一散热基座，其具有 一凸部，该凸部具有一固晶区；一绝缘垫片，设于该散热基座上且配置于该凸部的周围，其 中该绝缘垫片具有大于或等于0. 01公厘的厚度；一导线架，架置于该绝缘垫片之上，并与 该凸部具有一间距，俾使该散热基座与该导线架电性隔离；以及一绝缘座体，其包覆该散热 基座、该导线架以及该绝缘垫片，借以形成该耐电击的发光二极管座体结构。 本技术的目的以及解决其技术问题还可以采用以下的技术措施来进一步实 现。 前述的耐电击的发光二极管座体结构，其中所述的凸部更具有一凹槽，该固晶区 设置其中。 前述的耐电击的发光二极管座体结构，其中所述间距为大于或等于0. 4公厘。 前述的耐电击的发光二极管座体结构，其中所述导线架的边缘为圆弧状。 前述的耐电击的发光二极管座体结构，其中所述散热基座的边缘为圆弧无毛边。 前述的耐电击的发光二极管座体结构，其中所述绝缘垫片与该凸部接触。 前述的耐电击的发光二极管座体结构，其中所述绝缘垫片更突伸至该散热基座之 上，以使该导线架与该凸部之间存有该绝缘垫片。 本技术与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。经由以上可知，为了达 到上述目的，本技术提供了一种耐电击的发光二极管座体结构，其借由将具一定厚度 的绝缘垫片设置在散热基座上且配置于散热基座的凸部周围，且使架置于绝缘垫片上的导 线架与散热基座的凸部保持一定间距，俾使散热基座与导线架得以电性隔离，借此可有效 耐电击。 为达上述功效，本技术提供一种耐电击的发光二极管座体结构，其包括一散 热基座，其具有一凸部，凸部具有一固晶区；一绝缘垫片，设于散热基座上且配置于凸部的 周围，其中绝缘垫片具有大于或等于0.01公厘的厚度；一导线架，架置于绝缘垫片之上，并 与凸部具有一间距，俾使散热基座与导线架电性隔离；以及一绝缘座体，其包覆散热基座、 导线架以及绝缘垫片，借以形成耐电击的发光二极管座体结构。 借由上述技术方案，本技术耐电击的发光二极管座体结构至少具有下列优点 及有益效果 —、借由将一定厚度的绝缘垫片以直接放置或是以刷墨、印刷、射出成型方式设置 在散热基座与导线架之间，致使散热基座与导线架上下之间保持一定间距，而使散热基座 与导线架可有效电性隔离。 二、利用绕设于散热基座的凸部周围的导线架用以与凸部维持一定的间距，以致 于散热基座与导线架的左右两侧仍可维持有效的电性隔离。 为了使任何熟习相关技艺者了解本技术的
技术实现思路
并据以实施，且根据本说 明书所揭露的内容、申请专利范围及图式，任何熟习相关技艺者可轻易地理解本技术 相关的目的及优点，因此将在实施方式中详细叙述本技术的详细特征以及优点。 综上所述，本技术是有关于一种耐电击的发光二极管座体结构，其包括散热 基座、绝缘垫片、导线架以及绝缘座体。散热基座具有凸部，而凸部具有固晶区。绝缘垫片设 在散热基座上且配置于凸部的周围，其中绝缘垫片具有大于或等于0.01公厘的厚度。导线 架则架置于绝缘垫片之上，并与凸部具有间距，俾使散热基座与导线架电性隔离。绝缘座体 则包覆散热基座、导线架以及绝缘垫片，借以形成本技术的耐电击的发光二极管座体 结构。本技术利用间距与绝缘垫片的设计而使散热基座与导线架得以有效电性隔离， 借此可达到耐电击的功效。 本技术在技术上有显著的进步，并具有明显的积极效果，诚为一新颖、进步、 实用的新设计。 上述说明仅是本技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本技术的技 术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本技术的上述和其他目的、特征 和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明如下。附图说明图1为现有习知的发光二极管座体结构的立体图。 图2A为现有习知绝缘座体与导线架的剖视图。 图2B为现有习知发光二极管座体结构的剖视图。 图3为本技术的一种耐电击的发光二极管座体结构尚未形成绝缘座体的实 施例分解示意图。 图4为图3的形成绝缘座体后的耐电本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种耐电击的发光二极管座体结构，其特征在于其包括：一散热基座，其具有一凸部，该凸部具有一固晶区；一绝缘垫片，设于该散热基座上且配置于该凸部的周围，其中该绝缘垫片具有大于或等于０．０１公厘的厚度；一导线架，架置于该绝缘垫片之上，并与该凸部具有一间距，俾使该散热基座与该导线架电性隔离；以及一绝缘座体，其包覆该散热基座、该导线架以及该绝缘垫片，借以形成该耐电击的发光二极管座体结构。

【技术特征摘要】
一种耐电击的发光二极管座体结构，其特征在于其包括一散热基座，其具有一凸部，该凸部具有一固晶区；一绝缘垫片，设于该散热基座上且配置于该凸部的周围，其中该绝缘垫片具有大于或等于0.01公厘的厚度；一导线架，架置于该绝缘垫片之上，并与该凸部具有一间距，俾使该散热基座与该导线架电性隔离；以及一绝缘座体，其包覆该散热基座、该导线架以及该绝缘垫片，借以形成该耐电击的发光二极管座体结构。2. 根据权利要求l所述的耐电击的发光 更具有一凹槽，该固晶区设置其中。3. 根据权利要求l所述的耐电击的发光 为大于或等于0.4公厘。4. 根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：李永富，
申请(专利权)人：必奇股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：71[中国|台湾]