【技术实现步骤摘要】
本技术涉及阀门清洁,尤其涉及一种阀门堵塞清洁机构。
技术介绍
1、阀门是流体输送系统中的控制部件,具有截止、调节、导流、防止逆流、稳压、分流或溢流泄压等功能,用于流体控制系统的阀门,从最简单的截止阀到极为复杂的自控系统中所用的各种阀门,其品种和规格相当繁多。
2、经检索,如申请号为:“202121559885.0”的中国专利,其名称为:“一种用于阀门的阀门清理装置”,该技术将水注入清洗槽内部,再将需要清洗的阀门放入清洗槽内部,通过开关开启超声波发生器,超声波发生器将会产生超声波,通过超声波对清洗槽内部的阀门进行清洗。
3、然而将阀门置入清洗槽清洗方式,不仅清洗处的杂质难以排出,且杂质在超声振动的作用下与水槽摩擦,长此以往,水槽受损严重。
4、为此我们提出一种阀门堵塞清洁机构来解决现有的问题。
技术实现思路
1、本技术的目的是针对
技术介绍
中存在的问题,提出一种阀门堵塞清洁机构。
2、为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种阀门堵塞清洁机构,包括工作台、水槽、搁置框和箱体,所述工作台的下表面设有支撑座,所述工作台的上表面通过超声波发生器设有所述水槽,所述水槽的一侧下端安装有连接管,所述搁置框设在所述工作台上,所述搁置框上放置有阀体,所述阀体处于连接管的下方,所述箱体放置在工作台上,所述箱体的一侧底端设有排放管。
3、优选的,所述水槽的另一侧上端安装有进水管,所述进水管上设有开关阀控结构,所述连接管上设有流量阀。
5、优选的,所述搁置框上设有排污口,所述排污口处于所述箱体的正上方。
6、优选的,所述工作台的上表面设有超声波发生器,所述超声波发生器的输出端设在所述水槽的下表面。
7、优选的,所述支撑座共四个,且四个所述支撑座的位置在所述工作台的下表面呈矩形阵列分布。
8、与现有技术相比,本技术的有益效果如下:
9、1、本技术阀门堵塞清洁机构在使用时,可见待清洗的阀门搁置在搁置框内,然后通过软接头将连接管与阀门之间相互连通,然后超声波发生器工作,使得水槽内的清洗水中的微气泡能够在声波的作用下从而保持振动,此时打开流量阀,经过超声处理的水通过连接管进入阀门内对阀门内部进行清洗,清洗的杂质则通过阀门落到搁置框内,最后通过搁置框的排污口排放到下方的箱体内,最后通过排放管排放到外界,本技术,采用阀门外置的设计,方便清洗阀门的同时,可及时将杂质排出。
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1.一种阀门堵塞清洁机构,包括工作台(2)、水槽(5)、搁置框(10)和箱体(12),其特征在于:所述工作台(2)的下表面设有支撑座(1),所述工作台(2)的上表面通过超声波发生器(3)设有所述水槽(5),所述水槽(5)的一侧下端安装有连接管(7),所述搁置框(10)设在所述工作台(2)上,所述搁置框(10)上放置有阀体(9),所述阀体(9)处于连接管(7)的下方,所述箱体(12)放置在工作台(2)上,所述箱体(12)的一侧底端设有排放管(13)。
2.根据权利要求1所述的一种阀门堵塞清洁机构,其特征在于:所述水槽(5)的另一侧上端安装有进水管(4),所述进水管(4)上设有开关阀控结构,所述连接管(7)上设有流量阀(6)。
3.根据权利要求1所述的一种阀门堵塞清洁机构,其特征在于:所述连接管(7)的底端设有软接头(8),所述软接头(8)与所述阀体(9)的阀口位置相互连接。
4.根据权利要求1所述的一种阀门堵塞清洁机构,其特征在于:所述搁置框(10)上设有排污口(11),所述排污口(11)处于所述箱体(12)的正上方。
5.根据权利要
6.根据权利要求1所述的一种阀门堵塞清洁机构,其特征在于:所述支撑座(1)共四个,且四个所述支撑座(1)的位置在所述工作台(2)的下表面呈矩形阵列分布。
...【技术特征摘要】
1.一种阀门堵塞清洁机构,包括工作台(2)、水槽(5)、搁置框(10)和箱体(12),其特征在于:所述工作台(2)的下表面设有支撑座(1),所述工作台(2)的上表面通过超声波发生器(3)设有所述水槽(5),所述水槽(5)的一侧下端安装有连接管(7),所述搁置框(10)设在所述工作台(2)上,所述搁置框(10)上放置有阀体(9),所述阀体(9)处于连接管(7)的下方,所述箱体(12)放置在工作台(2)上,所述箱体(12)的一侧底端设有排放管(13)。
2.根据权利要求1所述的一种阀门堵塞清洁机构,其特征在于:所述水槽(5)的另一侧上端安装有进水管(4),所述进水管(4)上设有开关阀控结构,所述连接管(7)上设有流量阀(6)。
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【专利技术属性】
技术研发人员:李兴泉,滕钦华,
申请(专利权)人:山东亚华工业装备股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
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