【技术实现步骤摘要】
各种示例实施例涉及设计集成电路(ic)及其布图的方法，并且更具体地，涉及基于布图的评分来设计布图的方法。
技术介绍
1、随着半导体制造工艺技术发展，芯片的尺寸逐渐减小，并且包括在ic中的元件的数量不断增加。例如，已经广泛使用包括不同电子系统的组件的片上系统(soc)，并且已经需要包括更多组件的ic。
2、因此，随着如上所述的芯片尺寸减小，制造半导体设备的工艺的难度和/或重要性也增加。为了增加集成程度，需要或期望更有效地利用可用面积的方法。
技术实现思路
1、各种示例实施例提供了具有改善或优化的布图的集成电路(ic)和/或设计ic的布图的方法。
2、根据一些示例实施例，提供了一种设计半导体装置的布图的方法，所述方法包括：接收半导体装置的输入布图，对输入布图进行评分，基于所述评分确定是否对半导体装置中的至少一个装置进行重新布置，以及基于重新布置生成输出布图。评分的步骤包括：计算输入布图中由包括在半导体装置中的一个或多个装置占据的第一面积，基于用于所述一个或多个装置的设计规则和第一面积计算制造工艺的第二面积，基于第一面积和第二面积计算输入布图的空隙面积，以及基于空隙面积计算输入布图的分数。
3、可选地或附加地，根据一些示例实施例，提供了一种实现用于集成电路的布图设计的计算机的方法，所述方法包括：接收集成电路的输入布图，计算输入布图中由包括在集成电路中的一个或多个装置占据的第一面积，基于用于所述一个或多个装置的设计规则和第一面积计算制造工艺的第二面积，基
4、可选地或附加地，根据一些示例实施例，提供了一种集成电路的布图设计的方法，所述方法包括：接收集成电路的输入布图，计算输入布图的分数，将输入布图的分数与参考分数进行比较，以及基于比较结果确定是否对集成电路进行重新布置。计算所述分数的步骤包括：计算输入布图中由包括在集成电路中的一个或多个装置占据的第一面积，基于用于所述一个或多个装置的设计规则和第一面积计算工艺的第二面积，基于第一面积和第二面积计算空隙面积，以及基于空隙面积计算输入布图的分数。
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1.一种设计半导体装置的布图的方法，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其中，计算空隙面积的步骤包括：计算输入布图的总面积减去第一面积和第二面积之和的差。
3.根据权利要求2所述的方法，其中，计算输入布图的分数的步骤包括：根据通过将输入布图的总面积与空隙面积之间的差除以输入布图的总面积而获得的值，计算输入布图的分数。
4.根据权利要求1所述的方法，其中，确定是否对半导体装置中的所述至少一个装置进行重新布置的步骤包括：将输入布图的分数与参考分数进行比较。
5.根据权利要求4所述的方法，其中，确定是否对半导体装置中的所述至少一个装置进行重新布置的步骤包括：响应于输入布图的分数大于或等于参考分数而不执行重新布置。
6.根据权利要求4所述的方法，其中，确定是否对半导体装置中的所述至少一个装置进行重新布置的步骤包括：
7.根据权利要求4所述的方法，其中，参考分数在外部被设置。
8.根据权利要求1至权利要求7中的任一项所述的方法，其中，计算第一面积的步骤包括：响应于所述至少一个装置包括晶体管，基于其
9.根据权利要求8所述的方法，其中，计算第二面积的步骤包括：计算第三面积，第三面积通过从根据用于布局所述晶体管本身的设计规则的面积减去由所述晶体管占据的面积而被获得。
10.根据权利要求9所述的方法，其中，计算第二面积的步骤包括：计算第四面积，第四面积是与满足允许包括在半导体装置中的装置被布局在阱区中的设计规则相关联的面积。
11.根据权利要求10所述的方法，其中，计算空隙面积的步骤包括：通过从输入布图的总面积减去第一面积和第二面积之和来计算空隙面积。
12.根据权利要求1至权利要求7中的任一项所述的方法，其中，
13.一种计算机实现的用于集成电路的布图设计的方法，所述方法包括：
14.根据权利要求13所述的方法，其中，计算空隙面积的步骤包括：计算输入布图的总面积与第一面积和第二面积之和的差。
15.根据权利要求14所述的方法，其中，计算所述分数的步骤包括：根据通过将输入布图的总面积与空隙面积之间的差除以输入布图的总面积而获得的值，计算输入布图的分数。
16.根据权利要求13至权利要求15中的任一项所述的方法，还包括：响应于输入布图的分数小于所述阈值，重复对所述一个或多个装置中的至少一个进行重新布置并基于重新布置的布图计算第一面积、第二面积、空隙面积和所述分数，直到输入布图的分数大于或等于所述阈值为止。
17.根据权利要求13至权利要求15中的任一项所述的方法，其中，计算第一面积的步骤包括：响应于所述一个或多个装置包括晶体管，基于其中所述晶体管的栅极区域和有源区域彼此叠置的沟道区域来计算由所述晶体管占据的面积。
18.根据权利要求17所述的方法，其中，
19.一种集成电路的布图设计的方法，所述方法包括：
20.根据权利要求19所述的方法，其中，确定是否重新布置的步骤包括：响应于输入布图的分数小于参考分数，重复对所述一个或多个装置中的至少一个进行重新布置并且基于重新布置的布图计算所述分数，直到输入布图的分数大于或等于参考分数为止。
...【技术特征摘要】
1.一种设计半导体装置的布图的方法，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其中，计算空隙面积的步骤包括：计算输入布图的总面积减去第一面积和第二面积之和的差。
3.根据权利要求2所述的方法，其中，计算输入布图的分数的步骤包括：根据通过将输入布图的总面积与空隙面积之间的差除以输入布图的总面积而获得的值，计算输入布图的分数。
4.根据权利要求1所述的方法，其中，确定是否对半导体装置中的所述至少一个装置进行重新布置的步骤包括：将输入布图的分数与参考分数进行比较。
5.根据权利要求4所述的方法，其中，确定是否对半导体装置中的所述至少一个装置进行重新布置的步骤包括：响应于输入布图的分数大于或等于参考分数而不执行重新布置。
6.根据权利要求4所述的方法，其中，确定是否对半导体装置中的所述至少一个装置进行重新布置的步骤包括：
7.根据权利要求4所述的方法，其中，参考分数在外部被设置。
8.根据权利要求1至权利要求7中的任一项所述的方法，其中，计算第一面积的步骤包括：响应于所述至少一个装置包括晶体管，基于其中所述晶体管的栅极区域和有源区域彼此叠置的沟道区域来计算由所述晶体管占据的面积。
9.根据权利要求8所述的方法，其中，计算第二面积的步骤包括：计算第三面积，第三面积通过从根据用于布局所述晶体管本身的设计规则的面积减去由所述晶体管占据的面积而被获得。
10.根据权利要求9所述的方法，其中，计算第二面积的步骤包括：计算第四面积，第四面积是与满足允许包括在半导体装置中的装置被布局在阱区中的设计规则相关联的面积。
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