【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于半导体设备，具体涉及一种多片式防饶度自动取放腔机构。
技术介绍
1、防饶度，本专业术语，即为防止原子在基体材料底面沉积镀膜；在半导体设备领域，尤其涉及同时对多片式基体材料镀膜的场合，为实现自动取放基体材料，常见结构是在载具底部开设一个比较大的孔，再由设计的提升柱上下移动实现取放基体材料，但此种设计载具底部开设的孔径太大，基体材料底面会有大量前驱源原子沉积，无法确保防饶度。为确保防饶度，防止基体材料底面原子沉积，常见设计为对盛放基体材料的载具表面采用全密封的结构设计，基体材料底面和载具表面完全贴合，确保化学反应原子只在基体材料表面沉积。但在这种场合，将多个基体材料逐个放置于载具上常见的是采用手动的方式，不仅耗时长，效率低，而且将基体材料放置于贴合包裹盛放基体材料的载具上时很可能发生基体材料的偏移和损坏，对基体材料表面镀膜产生影响，出现基体材料表面原子沉积不均匀，底面原子沉积的现象，不便于使用。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种多片式防饶度自动取放腔机构，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
2、为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：
3、一种多片式防饶度自动取放腔机构，包括：
4、反应腔组，所述反应腔组包括反应腔外箱体，所述反应腔外箱体的内部设有加热器，为现有技术中的加热装置，能够提供前驱源化学反应所需的热量，所述反应腔外箱体的一侧开设有进口，所述反应腔外箱体的另一侧通过导向驱动组连接有反应腔外箱门，所述反应腔外箱门靠
5、还包括提升驱动组，所述提升驱动组位于所述载具组的下方，所述提升驱动组包括驱动器和提升杆，所述驱动器的输出端连接有所述提升杆，驱动器为现有技术中能够带动提升杆进行上下移动的装置，驱动器为气缸等，所述载具盘上开设有与所述提升杆相配合的提升通孔，有利于提升杆穿过并将基体材料顶起，设置的驱动器能够带动提升杆进行上下移动，有利于提升杆将基体材料放置于载具盘的放置槽的内部或将基体材料从载具盘的放置槽内部顶出，有利于基体材料放置到位。
6、优选的，所述反应腔外箱体的内部设有内腔体，能够用于进行基体材料的镀膜反应，隔绝外部环境，所述内腔体的内部设置有隔热屏，所述隔热屏采用隔热陶瓷制成，有隔热保温效果，能够控制热量散失的速率，同时将从基体材料上向外反射的热量重新反射回去，维持内腔体内部热量，降低传输到反应腔外部的热量。
7、优选的，相邻两组所述载具盘之间的间距相等，确保反应内腔体内部镀膜时前驱源气流匀速，内腔体内流场稳定，保证基体材料表面镀膜均匀，所述提升通孔设置为四组，每两组分别位于所述载具盘的前后两侧，所述提升通孔的一部分贯穿所述放置槽，有利于提升杆穿过提升通孔时，其一部分能够穿过放置槽并将基体材料顶起，且当提升杆下降时能够将基体材料放置于放置槽的内部。
8、优选的，所述提升杆的上端靠近所述放置槽的一侧开设有凹槽，所述凹槽的一面设置为直面，有利于对基体材料的侧边进行卡合，即对基体材料的前后两侧进行限位，所述凹槽的直面与所述放置槽的边沿处于同一竖直面，有利于基体材料的侧边放置于提升杆的凹槽内部后，当提升杆下移时也带动基体材料下移，直至基体材料正好放置于放置槽的内部。
9、优选的，所述导向驱动组包括驱动元件和导向轴，所述反应腔外箱体靠近所述反应腔外箱门一侧的边角位置均安装有所述驱动元件，所述驱动元件的输出端连接有所述导向轴，所述导向轴的一端与所述反应腔外箱门的边角位置连接，工作时，通过设置的驱动元件带动导向轴移动，进而使得反应腔外箱门向着靠近反应腔外箱体的方向移动，进而能够使得反应腔外箱门带动载具盘移动至反应腔外箱体的内部并将反应腔外箱体关闭。
10、优选的，所述提升通孔的内部设置有遮挡组件，能够对提升通孔进行遮挡，防止原子沉积反应时基体材料底面靠近提升通孔的位置有原子沉积,所述遮挡组件包括连接座和莲花挡片，所述提升通孔的内部通过螺栓安装有所述连接座，所述连接座的内部开设有通孔，有利于提升杆通过，所述连接座的上端设置有若干组所述莲花挡片，若干组所述莲花挡片以所述提升通孔的中轴线为圆心成阵列设置，进而使得干组所述莲花挡片能够对提升通孔进行遮挡，避免原子沉积反应时基体材料底面靠近提升通孔的位置有原子沉积，若干组所述莲花挡片均具有形变能力，即具有向上形变的能力，使得当提升杆穿过提升通孔时，能够将莲花挡片向上顶起，使其发生形变，当提升杆驶离提升通孔时，莲花挡片能够恢复原状并重新对提升通孔进行遮挡。
11、优选的，所述连接座的下端具有向下凸起的弧面，使得连接座的下端突出于载具盘的底面的水平面，使得原子沉积反应时，气流从反应腔外箱体内部的左侧吹向右侧，即气流沿着载具盘流动时，气流沿着连接座下端的弧面流动时，比沿着连接座上端流动时的路径大，使得连接座下端的气流速度大于其上端的速度，进而使得连接座下端的压强小于其上端的压强，进而能够避免气流从连接座下端进入提升通孔并将莲花挡片顶开，能够进一步避免原子沉积反应时基体材料底面有原子沉积。
12、优选的，所述载具盘的左右两侧均设置有辅助限位挡杆，所述辅助限位挡杆具有光滑外端，便于基体材料沿着其外端滑动，能够对基体材料的左右两侧进行限位，并配合提升杆对基体材料的前后两侧进行限位，进一步能够对基体材料的四组侧边进行限位，有利于基体材料能够处于放置槽的正上方，进而便于基体材料准确移动至放置槽的内部，所述辅助限位挡杆包括竖直段和倾斜段，所述竖直段的侧边与放置槽的侧边对齐，所述倾斜段向着远离放置槽的方向倾斜，有利于当机械爪组抓取基体材料并将其放置于四组提升杆的凹槽内部时，当基体材料相对于放置槽向左侧或右侧偏移一点位置，由于受到辅助限位挡杆的限位作用，使其下移时其侧边能够沿着倾斜段滑动并经其引导至沿着竖直段滑动，进而使得基体材料能够处于与放置槽正对齐的方向，便于基体材料准确移动至放置槽的内部。
13、优选的，所述载具盘的内部还设置有驱动件，能够带动辅助限位挡杆进行移动，所述驱动件包括斜面滑动块一、滑动连接杆一、活塞块一、活塞通道、复位弹簧、活塞块二、滑动连接杆二、斜面滑动块二和斜面滑动块三，所述载具盘的拐角位置的内部均开设有所述活塞通道，所述活塞通道设置为l形，所述活塞通道靠近所述提升通孔一端的内部设置有所述活塞块一，所述活塞块一的一端连接有所述滑动连接杆一，所述提升通孔的内部设置有所述斜面滑动块一，所述滑动连接杆一的一端与所述斜面滑动块一连接，位于所述提升通孔一侧所述载具盘的内部开设有与所述斜面滑动本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种多片式防饶度自动取放腔机构，其特征在于，包括：反应腔组（10），所述反应腔组（10）包括反应腔外箱体（11），所述反应腔外箱体（11）的内部设有加热器，所述反应腔外箱体（11）的一侧开设有进口，所述反应腔外箱体（11）的另一侧通过导向驱动组（30）连接有反应腔外箱门（12），所述反应腔外箱门（12）靠近所述反应腔外箱体（11）的一侧设置有载具组（20），所述载具组（20）包括若干组载具盘（21），若干组所述载具盘（21）连接在所述反应腔外箱门（12）的一侧，若干组所述载具盘（21）的上端均开设有用于放置基体材料的放置槽，所述载具组（20）的一侧设置有机械爪组，能够抓取基体材料并将其放置于提升杆（41）上端；
2.根据权利要求1所述的一种多片式防饶度自动取放腔机构，其特征在于：所述反应腔外箱体（11）的内部设有内腔体，所述内腔体的内部设置有隔热屏，所述隔热屏采用隔热陶瓷制成。
3.根据权利要求2所述的一种多片式防饶度自动取放腔机构，其特征在于：相邻两组所述载具盘（21）之间的间距相等，所述提升通孔（22）设置为四组，每两组分别位于所述载具盘（21）的
4.根据权利要求3所述的一种多片式防饶度自动取放腔机构，其特征在于：所述提升杆（41）的上端靠近所述放置槽的一侧开设有凹槽，所述凹槽的一面设置为直面，所述凹槽的直面与所述放置槽的边沿处于同一竖直面。
5.根据权利要求4所述的一种多片式防饶度自动取放腔机构，其特征在于：所述导向驱动组（30）包括驱动元件（31）和导向轴（32），所述反应腔外箱体（11）靠近所述反应腔外箱门（12）一侧的边角位置均安装有所述驱动元件（31），所述驱动元件（31）的输出端连接有所述导向轴（32），所述导向轴（32）的一端与所述反应腔外箱门（12）的边角位置连接。
6.根据权利要求5所述的一种多片式防饶度自动取放腔机构，其特征在于：所述提升通孔（22）的内部设置有遮挡组件（23）,所述遮挡组件（23）包括连接座（24）和莲花挡片（25），所述提升通孔（22）的内部通过螺栓安装有所述连接座（24），所述连接座（24）的内部开设有通孔，所述连接座（24）的上端设置有若干组所述莲花挡片（25），若干组所述莲花挡片（25）以所述提升通孔（22）的中轴线为圆心成阵列设置，若干组所述莲花挡片（25）均具有形变能力，若干组所述莲花挡片（25）的顶端均与所述提升通孔（22）的顶端齐平。
7.根据权利要求6所述的一种多片式防饶度自动取放腔机构，其特征在于：所述连接座（24）的下端具有向下凸起的弧面，使得连接座（24）的下端突出于载具盘（21）的底面的水平面。
8.根据权利要求5所述的一种多片式防饶度自动取放腔机构，其特征在于：所述载具盘（21）的左右两侧均设置有辅助限位挡杆（50），所述辅助限位挡杆（50）具有光滑外端，所述辅助限位挡杆（50）包括竖直段和倾斜段，所述竖直段的侧边与放置槽的侧边对齐，所述倾斜段向着远离放置槽的方向倾斜。
9.根据权利要求8所述的一种多片式防饶度自动取放腔机构，其特征在于：所述载具盘（21）的内部还设置有驱动件，所述驱动件包括斜面滑动块一（51）、滑动连接杆一（52）、活塞块一（53）、活塞通道（54）、复位弹簧（55）、活塞块二（56）、滑动连接杆二（57）、斜面滑动块二（58）和斜面滑动块三（59），所述载具盘（21）的拐角位置的内部均开设有所述活塞通道（54），所述活塞通道（54）设置为L形，所述活塞通道（54）靠近所述提升通孔（22）一端的内部设置有所述活塞块一（53），所述活塞块一（53）的一端连接有所述滑动连接杆一（52），所述提升通孔（22）的内部设置有所述斜面滑动块一（51），所述滑动连接杆一（52）的一端与所述斜面滑动块一（51）连接，位于所述提升通孔（22）一侧所述载具盘（21）的内部开设有与所述斜面滑动块一（51）相配合的安装槽一，位于所述安装槽一一侧所述载具盘（21）的内部开设有安装槽二，所述安装槽二的内部设置有所述复位弹簧（55），所述复位弹簧（55）的一端与所述斜面滑动块一（51）连接，所述载具盘（21）的上端开设有与所述辅助限位挡杆（50）相配合的竖向安装槽，所述辅助限位挡杆（50）位于所述竖向安装槽的内部，所述活塞通道（54）靠近所述竖向安装槽一端的内部设置有所述活塞块二（56），所述活塞块二（56）的一端连接有所述滑动连接杆二（57），所述滑动连接杆二（57）的一端连接有所述斜面滑动块二（58），所述载具盘（21）的内部还开设有与所述斜面滑动块二（58）相配合的横向槽，所述横向槽与所述竖向安装槽相通连...
【技术特征摘要】
1.一种多片式防饶度自动取放腔机构，其特征在于，包括：反应腔组（10），所述反应腔组（10）包括反应腔外箱体（11），所述反应腔外箱体（11）的内部设有加热器，所述反应腔外箱体（11）的一侧开设有进口，所述反应腔外箱体（11）的另一侧通过导向驱动组（30）连接有反应腔外箱门（12），所述反应腔外箱门（12）靠近所述反应腔外箱体（11）的一侧设置有载具组（20），所述载具组（20）包括若干组载具盘（21），若干组所述载具盘（21）连接在所述反应腔外箱门（12）的一侧，若干组所述载具盘（21）的上端均开设有用于放置基体材料的放置槽，所述载具组（20）的一侧设置有机械爪组，能够抓取基体材料并将其放置于提升杆（41）上端；
2.根据权利要求1所述的一种多片式防饶度自动取放腔机构，其特征在于：所述反应腔外箱体（11）的内部设有内腔体，所述内腔体的内部设置有隔热屏，所述隔热屏采用隔热陶瓷制成。
3.根据权利要求2所述的一种多片式防饶度自动取放腔机构，其特征在于：相邻两组所述载具盘（21）之间的间距相等，所述提升通孔（22）设置为四组，每两组分别位于所述载具盘（21）的前后两侧，所述提升通孔（22）的一部分贯穿所述放置槽。
4.根据权利要求3所述的一种多片式防饶度自动取放腔机构，其特征在于：所述提升杆（41）的上端靠近所述放置槽的一侧开设有凹槽，所述凹槽的一面设置为直面，所述凹槽的直面与所述放置槽的边沿处于同一竖直面。
5.根据权利要求4所述的一种多片式防饶度自动取放腔机构，其特征在于：所述导向驱动组（30）包括驱动元件（31）和导向轴（32），所述反应腔外箱体（11）靠近所述反应腔外箱门（12）一侧的边角位置均安装有所述驱动元件（31），所述驱动元件（31）的输出端连接有所述导向轴（32），所述导向轴（32）的一端与所述反应腔外箱门（12）的边角位置连接。
6.根据权利要求5所述的一种多片式防饶度自动取放腔机构，其特征在于：所述提升通孔（22）的内部设置有遮挡组件（23）,所述遮挡组件（23）包括连接座（24）和莲花挡片（25），所述提升通孔（22）的内部通过螺栓安装有所述连接座（24），所述连接座（24）的内部开设有通孔，所述连接座（24）的上端设置有若干组所述莲花挡片（25），若干组所述莲花挡片（25）以所述提升通孔（22）的中轴线为圆心成阵列设置，若干组所述莲花挡片（25）均具有形变能力，若干组所述莲花挡片（25）的顶端均与所述提升通孔（22）的顶端齐平。
7.根...
【专利技术属性】
技术研发人员：李立松，汪永松，金托弟，
申请(专利权)人：南京原磊纳米材料有限公司，
类型：发明
国别省市：
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