【技术实现步骤摘要】
本技术涉及真空镀膜，特别是涉及一种真空镀膜装置。
技术介绍
1、bopp、pet等柔性基材磁控溅射镀制复合铜箔的产品结构一般包括设置在基材层一侧或两侧的合金层和设置在合金层的外侧的铜层。目前在得到该产品的过程中，镀膜设备均围绕在主镀膜辊外周。而对于一些材料(例如合金层)，在合金镀膜靶对基材进行溅射镀制合金材料层时，由于合金靶具有一定脆性，延展性差，当其溅射到真空壳体内时，镀层容易从壳体内部掉落至基材上，从而使得基材产生孔洞而导致最终形成的复合铜箔不合格。
技术实现思路
1、本技术的第一方面的一个目的是要提供一种真空镀膜装置，解决现有技术中真空镀膜装置在为基材溅射镀制脆性材料时脆性材料溅射至壳体内部后掉渣至基材上导致材料产生孔洞的问题。
2、本技术的第一方面的另一个目的是要解决为基材溅射镀制多层脆性材料层时因壳体内部掉渣至基材上导致良品率低的问题。
3、特别地，本技术还提供一种真空镀膜装置，所述真空镀膜装置用于制备复合薄膜，所述复合薄膜包括基材层和位于所述基材层一侧的第一脆性材料层；
4、所述真空镀膜装置包括：
5、第一镀膜辊；
6、第一壳体，设置在所述第一镀膜辊外侧；和
7、用于溅射镀制所述第一脆性材料层的第一脆性材料靶，所述第一脆性材料靶位于所述第一壳体内，所述第一脆性材料靶具有第一预设溅射镀区域，并且所述第一预设溅射镀区域与所述第一壳体的位于所述第一镀膜辊的中间水平线以上部分的重合区域在竖直平面上的投影与所
8、可选地，所述第一脆性材料靶设置在所述第一镀膜辊的下方。
9、可选地，所述真空镀膜装置还包括放卷辊和收卷辊，其中，所述放卷辊设置在所述第一镀膜辊的下方。
10、可选地，所述复合薄膜还包括第一功能层，所述第一功能层位于所述第一脆性材料层的与所述基材层的相反的一侧；
11、所述真空镀膜装置还包括设置在所述第一壳体内的至少一个第一功能层靶，所述至少一个第一功能层靶设置在所述第一镀膜辊的外侧，并且设置在所述第一脆性材料靶的沿着走膜路线的后方。
12、可选地，所述第一功能层靶的数量包括多个，并且均匀分布在所述镀膜辊的外周以为所述复合薄膜溅射镀所述第一功能层。
13、可选地，所述复合薄膜还包括设置在所述基材层与所述第一脆性材料层相反的一侧的第二脆性材料层；
14、所述真空镀膜装置还包括：
15、第二镀膜辊，其设置在所述第一镀膜辊的沿着走膜方向的后方，且设置在所述收卷辊的前方；
16、第二壳体，设置在所述第二镀膜辊外侧；和
17、用于溅射镀所述第二脆性材料层的第二脆性材料靶，所述第二脆性材料靶位于所述第二壳体内，所述第二脆性材料靶具有第二预设溅射镀区域，并且所述第二预设溅射镀区域与所述第二壳体的位于所述第二镀膜辊中间水平线以上位置的重合区域在竖直平面上的投影与所述第二镀膜辊在竖直平面的投影相互分离。
18、可选地，所述第二脆性材料靶位于所述第二镀膜辊的下方。
19、可选地，
20、所述复合薄膜还包括第二功能层，所述第二功能层位于所述第二脆性材料层的与所述基材层相反的一侧；
21、所述真空镀膜装置还包括设置在所述第二壳体内的至少一个第二功能层靶，所述至少第二功能层靶设置在所述第二镀膜辊的外侧，并且设置在所述第二脆性材料靶的沿着走膜路线的后方。
22、可选地，所述复合薄膜还包括位于所述第一功能层或所述第二功能层外侧的第三脆性材料层；
23、所述真空镀膜装置还包括：
24、第三镀膜辊，其设置在所述第二镀膜辊的沿着走膜方向的后方，且设置在所述收卷辊的前方；
25、第三壳体，设置在所述第三镀膜辊的外侧；
26、用于溅射镀所述第三脆性材料层的第三脆性材料靶，所述第三脆性材料靶位于所述第三壳体内，所述第三脆性材料靶具有第三预设溅射镀区域，并且所述第三预设溅射镀区域与所述第三壳体的位于所述第三镀膜辊的中间水平线以上部分的重合区域在竖直平面上的投影与所述第三镀膜辊在竖直平面的投影相互分离。
27、可选地，所述第三脆性材料靶位于所述第三镀膜辊的下方。
28、本方案中，真空镀膜装置用于制备复合薄膜。该真空镀膜装置包括可以包括第一镀膜辊、第一壳体和第一脆性材料靶。其中，第一壳体设置在所述第一镀膜辊外侧第一脆性材料靶位于所述壳体内，第一脆性材料靶具有第一预设溅射镀区域，第一预设溅射镀区域与所述第一壳体的位于所述第一镀膜辊的中间水平线以上部分的重合区域在竖直平面上的投影与所述第一镀膜辊在竖直平面的投影相互分离，满足了在第一壳体内的脆性材料掉落时不会掉落至基材层上，避免了基材层产生孔洞，提高了产品的良品率。
29、本方案通过第一镀膜辊、第一脆性材料靶、第一功能层靶、第二镀膜辊、第二脆性材料靶、第二功能层靶、第三镀膜辊和第三脆性材料靶制备出了复合薄膜，并且第一脆性材料靶设置在第一镀膜辊下方，第二脆性材料靶设置在第二镀膜辊下方，第三脆性材料靶设置在第三镀膜辊的下方，则使得在制备多层复合薄膜的多层脆性材料层时，脆性材料均不会掉渣至产品上，从而保证复合薄膜的良品率。
30、根据下文结合附图对本技术具体实施例的详细描述，本领域技术人员将会更加明了本技术的上述以及其他目的、优点和特征。
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1.一种真空镀膜装置，所述真空镀膜装置用于制备复合薄膜，所述复合薄膜包括基材层和位于所述基材层一侧的第一脆性材料层；其特征在于，
2.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，
3.根据权利要求1或2所述的真空镀膜装置，其特征在于，
4.根据权利要求3所述的真空镀膜装置，其特征在于，
5.根据权利要求4所述的真空镀膜装置，其特征在于，
6.根据权利要求4所述的真空镀膜装置，其特征在于，
7.根据权利要求6所述的真空镀膜装置，其特征在于，
8.根据权利要求7所述的真空镀膜装置，其特征在于，
9.根据权利要求8所述的真空镀膜装置，其特征在于，
10.根据权利要求9所述的真空镀膜装置，其特征在于，
【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜装置，所述真空镀膜装置用于制备复合薄膜，所述复合薄膜包括基材层和位于所述基材层一侧的第一脆性材料层；其特征在于，
2.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，
3.根据权利要求1或2所述的真空镀膜装置，其特征在于，
4.根据权利要求3所述的真空镀膜装置，其特征在于，
5.根据权利要求4...
【专利技术属性】
技术研发人员：张永胜，梁得刚，张永祺，邓天泽，
申请(专利权)人：苏州迈为科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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