一种激光打孔系统技术方案

技术编号:4138459 阅读:222 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术公开了一种激光打孔系统,包括导轨,在所述导轨上设置有依次顺序连接的He-Ne激光器、全反介质膜、腔内望远镜、调制器、第一激光腔体、输出介质膜、光耦合器、第二激光腔体、扩聚焦装置、自动落料装置、振荡级激光电源、放大级激光电源、放大级冷却装置和振荡级冷却装置。与现有技术相比,其优点在于,它在加工深孔、壁薄的永磁材料时,解决了薄壁深孔钐钴磁钢的易碎、易裂、崩口等难题,使毛孔直径达到300μm,打孔速度达到30孔/秒,减少后期研磨时间,提高毛孔孔型质量,提高打孔速度,最终提高整体加工成品合格率到85%,同时毛孔具有高圆度和小锥度,减小了打孔锥度,提高了孔型圆度。(*该技术在2019年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及超硬及脆性材料加工领域,特别是一种激光打孔系统
技术介绍
高技术产品对永磁材料性能的要求是高剩磁、高的最大磁能积、高矫顽力,此外, 还要求高的居里温度、良好的耐蚀性和热稳定性以及低的温度系数。永磁材料的发展经历 了 AlNiCo永磁体、硬磁铁氧体、SmCo系列合金永磁、NdFeB永磁材料等阶段。目前烧结NdFeB 稀土永磁的磁能积已高达432kJ/m3,接近理论值512kJ/m3,。稀土永磁钐钴(SmCo)薄壁磁 钢是一种超硬及脆性材料,广泛应用于仪器仪表、光通讯、核磁共振、数码电子行业。但是稀 土永磁钐钴(SmCo)薄壁磁钢材料受制造工艺的限制,脆性大,对裂纹敏感。目前的激光打 孔机在保证不出现裂纹的前提下,只能打出150 ii m的毛孔,打孔速度仅为5孔/秒,同时孔 型圆度不高,有锥度,成品合格率只有30% ,极大浪费材料及人力。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是,针对上述现有技术现状,而提供一种打孔速 度快、圆度高孔径大的激光打孔系统。 本技术解决上述技术问题所采用的技术方案为一种激光打孔系统,包括导 轨,其特征在于在所述导轨上设置有依次顺序连接的He-Ne激光器、全反介质膜、第一激 光腔体、输出介质膜、扩聚焦装置、自动落料装置、激光电源及冷却装置; 所述激光腔体还包括腔内望远镜、调制器;所述腔内望远镜、调制器和第一激光腔 体依次顺序连接;所述扩聚焦装置还包括光耦合器、第二激光腔体;所述光耦合器、第二激 光腔体与所述扩聚焦装置依次顺序连接;所述激光电源由相互连接的振荡级激光电源和放 大级激光电源组成;所述冷却装置由相互连接的放大级冷却装置和振荡级冷却装置组成。 与现有技术相比,本技术的优点在于,它在加工深孔、壁薄的永磁材料时,解 决了薄壁深孔钐钴(SmCo)磁钢的易碎、易裂、崩口等难题,使毛孔直径达到300ym,打孔速 度达到30孔/秒,减少后期研磨时间,提高毛孔孔型质量,提高打孔速度,(综合加工速度 提高8倍)最终提高整体加工成品合格率到85%,同时毛孔具有高圆度和小锥度。减小了 打孔锥度,提高了孔型圆度。附图说明图1是本技术实施例的结构框图; 图2是本技术最佳实施例的结构框图。具体实施方式下面根据实施例和附图对本技术作进一步详细说明。 如图1、2所示,一种激光打孔系统,包括导轨1,在所述导轨1上设置有依次顺序连接的He-Ne激光器2、全反介质膜3、腔内望远镜41、调制器42、第一激光腔体4、输出介质膜5、 光耦合器61、第二激光腔体62、扩聚焦装置6、自动落料装置7、振荡级激光电源81、放大 级激光电源82、放大级冷却装置91和振荡级冷却装置92 ;第一激光腔体4为振荡级激光腔 体;第二激光腔体62为放大级激光腔体。本技术的工作过程如下 a)、在操作系统导轨1上,按顺序安装He-Ne激光器2、全反介质膜3、腔内望远镜 41、调制器42、第一激光腔体4、输出介质膜5、光耦合器61、第二激光腔体62、扩聚焦装置6、 自动落料装置7,经调试后并固定;b)、使用He-Ne激光器2点光源,对导轨1上的各部件 全反介质膜3、腔内望远镜41、调制器42、第一激光腔体4、输出介质膜5、光耦合器61、第二 激光腔体62、扩聚焦装置6、自动落料装置7进行调整校对,使各部件与He-Ne激光器2所 发出的点光源同轴在中心点上;c)、把需要加工的产品安放在自动落料装置7上,并调整好 角度及中心点、自动落料速度等,启动光感同步器;d)、启动振荡级激光电源81,这时振荡 级冷却装置92自动启动,再启动放大级激光电源82,放大级冷却装置91也自动启动,观测 各项指标是否正常工作;e)、启动振荡级激光电源81、放大级激光电源82预燃点火开关,根 据使用范围调整电压及脉冲频率,此时自动落料装置7的光感同步器启动并自动送料,实 现光电自动化一体的。 本技术的主要技术参数及原理<table>table see original document page 4</column></row><table>本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种激光打孔系统,包括导轨(1),其特征在于:在所述导轨(1)上设置有依次顺序连接的激光器(2)、全反介质膜(3)、第一激光腔体(4)、输出介质膜(5)、扩聚焦装置(6)、自动落料装置(7)、激光电源(8)及冷却装置(9)。

【技术特征摘要】
一种激光打孔系统,包括导轨(1),其特征在于在所述导轨(1)上设置有依次顺序连接的激光器(2)、全反介质膜(3)、第一激光腔体(4)、输出介质膜(5)、扩聚焦装置(6)、自动落料装置(7)、激光电源(8)及冷却装置(9)。2. 根据权利要求1所述的激光打孔系统,其特征在于所述的激光器(2)为He-Ne激 光器。3. 根据权利要求2所述的激光打孔系统,其特征在于所述第一激光腔体(4)还包括 腔内望远镜(41)、调制器(42);所述腔内望远镜(41)、调制器(42)和第一激光腔体(4)依...

【专利技术属性】
技术研发人员:冯海瑜
申请(专利权)人:北京寰宇纳磁科技发展有限公司
类型:实用新型
国别省市:11[中国|北京]

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