【技术实现步骤摘要】
本申请涉及芯片设计领域，尤其涉及一种控制冗余图形填充密度的方法、装置、存储介质及终端设备。
技术介绍
1、在芯片物理设计流程中，未经可制造性处理的版图图形密度处于不均匀的状态，影响晶圆平整度，影响化学机械研磨均匀性和光刻畸变等，影响产品良率。目前为了实现集成电路版图的均匀分布以提高生产制造过程中相关工艺的良率，通常需要添加冗余图形使版图图形分布相对均匀，降低后续工艺制造中的工艺偏差，提高芯片成品率。冗余图形的填充方法也有需要解决的问题，如何计算局部改善版图图形密度的分布，以及整体控制版图全局密度和密度梯度是目前亟待解决的问题。
技术实现思路
1、本申请实施例提供了控制冗余图形填充密度的方法、装置、存储介质及终端设备，可以解决版图图形密度优化的问题。所述技术方案如下：
2、第一方面，本申请实施例提供了一种控制冗余图形填充密度的方法，所述方法包括：
3、将版图区域划分为多个窗格；其中，所述版图区域预先填充有冗余图形；
4、确定窗格分割出的多个不重叠的瓷砖格；
5、根据窗格和瓷砖格的分布位置建立信息矩阵；
6、将所述信息矩阵转换为广义逆矩阵a；
7、计算每个窗格密度调整矩阵；其中，所述窗格密度调整矩阵中每个窗格的密度调整量dwindow(i)=(targetdensity-originalwindowdensity(i))*windowsize，targetdensity为预设的填充密度最大值，originalwin
8、根据所述广义逆矩阵和所述窗格密度调整矩阵计算瓷砖格密度调整矩阵dtile=a*dwindow；
9、将所述瓷砖格密度调整矩阵dtile中小于0的密度调整量对应的瓷砖格进行冗余图形的挖取操作；
10、执行挖取操作后，重新计算各个窗格的密度，根据计算结果将密度大于预设的填充密度最大值的窗格作为不合规窗格，对不合规窗格进行密度调整。
11、第二方面，本申请实施例提供了一种控制冗余图形填充密度的装置，所述装置包括：
12、划分单元，用于将版图区域划分为多个窗格；其中，所述版图区域预先填充有冗余图形；
13、确定单元，用于确定窗格分割出的多个不重叠的瓷砖格；
14、建立单元，用于根据窗格和瓷砖格的分布位置建立信息矩阵；
15、转换单元，用于将所述信息矩阵转换为广义逆矩阵a；
16、计算单元，用于计算每个窗格密度调整矩阵；其中，所述窗格密度调整矩阵中每个窗格的密度调整量dwindow(i)=(targetdensity-originalwindowdensity(i))*windowsize，targetdensity为预设的填充密度最大值，originalwindowdensity表示窗格的当前密度，windowsize表示窗格的面积；
17、所述计算单元，还用于根据所述广义逆矩阵和所述窗格密度调整矩阵计算瓷砖格密度调整矩阵dtile=a*dwindow；
18、挖取单元，用于将所述瓷砖格密度调整矩阵dtile中小于0的密度调整量对应的瓷砖格进行冗余图形的挖取操作；
19、优化单元，用于执行挖取操作后，重新计算各个窗格的密度，根据计算结果将密度大于预设的填充密度最大值的窗格作为不合规窗格，对不合规窗格进行密度调整。
20、第三方面，本申请实施例提供一种计算机存储介质，所述计算机存储介质存储有多条指令，所述指令适于由处理器加载并执行上述的方法步骤。
21、第四方面，本申请实施例提供一种终端设备，可包括：处理器和存储器；其中，所述存储器存储有计算机程序，所述计算机程序适于由所述处理器加载并执行上述的方法步骤。
22、本申请一些实施例提供的技术方案带来的有益效果至少包括：
23、通过对版图区域划分窗格，有效控制窗格内部密度梯度，从而控制整体图形密度梯度。通过设置填充密度最大值，控制窗格内部的填充最大密度，避免多步填充带来的图形整体密度过大问题。通过设置瓷砖格和窗格，建立信息矩阵实现快速计算窗格内部填充密度。
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1.一种控制冗余图形填充密度的方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，各个窗格的面积相等。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，使用最小范围求解瓷砖格密度调整矩阵中各个瓷砖格的密度调整量。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述对不合规窗格进行密度调整，包括：
5.根据权利要求1或2或4所述的方法，其特征在于，瓷砖格中应挖取的冗余图形数量在该瓷砖格所在多个窗格的计算结果中取最大值。
6.一种控制冗余图形填充密度的装置，其特征在于，包括：
7.一种计算机存储介质，其特征在于，所述计算机存储介质存储有多条指令，所述指令适于由处理器加载并执行如权利要求1~5任意一项的方法步骤。
8.一种终端设备，其特征在于，包括：处理器和存储器；其中，所述存储器存储有计算机程序，所述计算机程序适于由所述处理器加载并执行如权利要求1~5任意一项的方法步骤。
【技术特征摘要】
1.一种控制冗余图形填充密度的方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，各个窗格的面积相等。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，使用最小范围求解瓷砖格密度调整矩阵中各个瓷砖格的密度调整量。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述对不合规窗格进行密度调整，包括：
5.根据权利要求1或2或4所述的方法，其特征在于，瓷砖格中应挖取的冗余图形数量在...
【专利技术属性】
技术研发人员：范文妍，张峻伟，何振宇，鲍琛，白耿，
申请(专利权)人：深圳国微福芯技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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