System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种提高半导体侧泵模块性能的装置及其方法制造方法及图纸_技高网

一种提高半导体侧泵模块性能的装置及其方法制造方法及图纸

技术编号:41354500 阅读:19 留言:0更新日期:2024-05-20 10:06
本发明专利技术提供一种提高半导体侧泵模块性能的装置及其方法,包括:增益介质,所述增益介质外侧设有石英管,所述石英管上设有匀光透镜,所述匀光透镜用于对泵浦光进行匀光处理;其结构简单,操作方便,在不影响半导体侧泵模块输出功率的前提下,可以同时提高半导体侧泵模块荧光分布均匀性和增益倍数。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体侧泵模块,具体涉及一种提高半导体侧泵模块性能的装置及其方法


技术介绍

1、由于固体激光器应用领域的迅速发展,对泵浦功率的要求不断提高。在追求高泵浦功率的同时,提高半导体侧泵模块的荧光分布均匀性和增益成为了目前研究的热点。

2、而随着增益的提高,如不采取相应措施,高峰值功率的半导体侧泵模块会产生严重的ase效应,导致增益饱和,无法得到高增益倍数。

3、荧光分布均匀性能够直接反映半导体侧泵模块泵浦结构及输出光斑的合理性,荧光分布均匀性高低直接关系到应用端固体激光器内部本振级或放大级光斑质量,最终影响使用效果。

4、目前,半导体侧泵模块在追求高泵浦功率的同时,半导体侧泵模块的荧光分布均匀性较差、增益倍数较低,导致半导体侧泵模块的性能较差,因此,亟待一种提高半导体侧泵模块性能的装置及其方法的出现。


技术实现思路

1、为了解决在不影响半导体侧泵模块输出功率的前提下,如何提高半导体侧泵模块荧光分布均匀性和增益倍数的技术问题,本专利技术提出了一种提高半导体侧泵模块性能的装置及其方法。

2、为了达到上述目的,本专利技术的技术方案如下:

3、本专利技术提供一种提高半导体侧泵模块性能的装置,包括:增益介质,所述增益介质外侧设有石英管,所述石英管上设有匀光透镜,所述匀光透镜用于对泵浦光进行匀光处理。

4、本专利技术提供一种提高半导体侧泵模块性能的装置,其结构简单,操作方便,在不影响半导体侧泵模块输出功率的前提下,可以同时提高半导体侧泵模块荧光分布均匀性和增益倍数。

5、作为优选技术方案,所述匀光透镜设置于所述石英管的外侧壁,所述匀光透镜为具有曲率的非球面透镜。

6、作为优选技术方案,所述石英管与所述增益介质之间的间隙形成散热冷却通道。

7、作为优选技术方案,所述石英管外侧设有聚光腔,所述聚光腔用于将透射过增益介质或被增益介质漫反射的光斑重新反射或漫反射至增益介质上。

8、作为优选技术方案,所述聚光腔为多边形,所述聚光腔的每一条边外侧设有泵浦源模组,所述泵浦源模组用于增益介质吸收外来能量后激发到激发态以实现并维持粒子数反转。

9、作为优选技术方案,所述泵浦源模组包括:芯片和电极,所述电极呈相对设置于所述芯片两侧以形成第一贴片单元,所述聚光腔上每一条边上设有通光口,所述通光口与所述芯片呈相对应设置。

10、作为优选技术方案,所述第一贴片单元上设有散热片以形成第二贴片单元。

11、作为优选技术方案,所述第二贴片单元上设有热沉以形成第三贴片单元。

12、本申请提供一种提高半导体侧泵模块性能的方法,包括以下步骤:

13、将泵浦源作为泵浦条件,增益介质吸收外来能量后激发到激发态,实现并维持粒子数反转,通过匀光透镜对泵浦光进行匀光处理以输出高分布均匀性的荧光。

14、作为优选技术方案,将透射过增益介质或被增益介质漫反射的光斑重新反射或漫反射至增益介质上以优化入射增益介质的泵浦光光斑状态。

15、本专利技术提供的一种提高半导体侧泵模块性能的装置及其方法,具有以下有益效果:

16、1)其结构简单,操作方便,在不影响半导体侧泵模块输出功率的前提下,可以同时提高半导体侧泵模块荧光分布均匀性和增益倍数;

17、2)通过所述匀光透镜可以获得更高分布均匀性的荧光,较高荧光分布均匀性可以有效地抑制半导体侧泵模块热效应,从而为半导体侧泵模块提供更高质量的光束;更低的半导体侧泵模块热效应可以使半导体侧泵模块在固体激光器中的设计更加方便快捷,拥有更少的杂散光影响半导体侧泵模块,不仅降低了成本,而且最大程度上提高了半导体侧泵模块的使用寿命;

18、3)所述聚光腔与所述泵浦源模组相互配合优化入射增益介质的泵浦光光斑状态,在不影响半导体侧泵模块输出功率的前提下,可以同时提升半导体侧泵模块的增益倍数。

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【技术保护点】

1.一种提高半导体侧泵模块性能的装置,其特征在于,包括:增益介质,所述增益介质外侧设有石英管,所述石英管上设有匀光透镜,所述匀光透镜用于对泵浦光进行匀光处理。

2.根据权利要求1所述的提高半导体侧泵模块性能的装置,其特征在于,所述匀光透镜设置于所述石英管的外侧壁,所述匀光透镜为具有曲率的非球面透镜。

3.根据权利要求2所述的提高半导体侧泵模块性能的装置,其特征在于,所述石英管与所述增益介质之间的间隙形成散热冷却通道。

4.根据权利要求1所述的提高半导体侧泵模块性能的装置,其特征在于,所述石英管外侧设有聚光腔,所述聚光腔用于将透射过增益介质或被增益介质漫反射的光斑重新反射或漫反射至增益介质上。

5.根据权利要求4所述的提高半导体侧泵模块性能的装置,其特征在于,所述聚光腔为多边形,所述聚光腔的每一条边外侧设有泵浦源模组,所述泵浦源模组用于增益介质吸收外来能量后激发到激发态以实现并维持粒子数反转。

6.根据权利要求5所述的提高半导体侧泵模块性能的装置,其特征在于,所述泵浦源模组包括:芯片和电极,所述电极呈相对设置于所述芯片两侧以形成第一贴片单元,所述聚光腔上每一条边上设有通光口,所述通光口与所述芯片呈相对应设置。

7.根据权利要求6所述的提高半导体侧泵模块性能的装置,其特征在于,所述第一贴片单元上设有散热片以形成第二贴片单元。

8.根据权利要求6所述的提高半导体侧泵模块性能的装置,其特征在于,所述第二贴片单元上设有热沉以形成第三贴片单元。

9.一种提高半导体侧泵模块性能的方法,其特征在于,包括以下步骤:

10.根据权利要求9所述的提高半导体侧泵模块性能的方法,其特征在于,将透射过增益介质或被增益介质漫反射的光斑重新反射或漫反射至增益介质上以优化入射增益介质的泵浦光光斑状态。

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【技术特征摘要】

1.一种提高半导体侧泵模块性能的装置,其特征在于,包括:增益介质,所述增益介质外侧设有石英管,所述石英管上设有匀光透镜,所述匀光透镜用于对泵浦光进行匀光处理。

2.根据权利要求1所述的提高半导体侧泵模块性能的装置,其特征在于,所述匀光透镜设置于所述石英管的外侧壁,所述匀光透镜为具有曲率的非球面透镜。

3.根据权利要求2所述的提高半导体侧泵模块性能的装置,其特征在于,所述石英管与所述增益介质之间的间隙形成散热冷却通道。

4.根据权利要求1所述的提高半导体侧泵模块性能的装置,其特征在于,所述石英管外侧设有聚光腔,所述聚光腔用于将透射过增益介质或被增益介质漫反射的光斑重新反射或漫反射至增益介质上。

5.根据权利要求4所述的提高半导体侧泵模块性能的装置,其特征在于,所述聚光腔为多边形,所述聚光腔的每一条边外侧设有泵浦源模组,所述泵浦源模组用于增益介质...

【专利技术属性】
技术研发人员:蔡震潘昊冯小明李双双
申请(专利权)人:无锡亮源激光技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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