一种用于制造浸没式光刻机防振基座的倒灌模具制造技术

本技术公开了一种用于制造浸没式光刻机防振基座的倒灌模具，包括倒灌模具平台，在所述倒灌模具平台的顶部的左右两端分别设有整体呈矩形的开口空心盒状的左防振基座腔体和右防振基座腔体，在所述左防振基座腔体和右防振基座腔体的内部的上部分别设有对应的空心盒模具，在所述倒灌模具平台的顶部对应左防振基座腔体和右防振基座腔体的底壁位置均设有若干用于固定及定位浸没式光刻机的锚固配件、若干用于防振基座表面预制螺纹孔的预埋铁块、若干用于吊装防振基座的吊环螺柱。本技术提供的倒灌模具可用于制造浸没式光刻机防振基座，能为浸没式光刻机提供良好的运转环境，并且，可使浸没式光刻机防振基座的制造非常方便，易于实现工业化实施。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种模具，具体是涉及一种用于制造浸没式光刻机防振基座的倒灌模具，属于精密仪器防振基座制造。

技术介绍

1、光刻机是半导体制造行业的“心脏”，也是集成电路制造过程中不可或缺的关键设备。而浸没式光刻机(如：asml公司制造的xt型光刻机)是高精密制造具有纳米级节点的半导体器件的关键设备，而防振基座是决定光刻机加工精度的关键因素，如何使防振基座能满足浸没式光刻机纳米级高精密加工的精度要求，将是本领域亟需解决的技术难题。

技术实现思路

1、针对现有技术存在的上述问题和需求，本技术的目的是提供一种用于制造浸没式光刻机防振基座的倒灌模具。

2、为实现上述目的，本技术采用如下技术方案：

3、一种用于制造浸没式光刻机防振基座的倒灌模具，包括倒灌模具平台，在所述倒灌模具平台的顶部的左右两端分别设有整体呈矩形的开口空心盒状的左防振基座腔体和右防振基座腔体，在所述左防振基座腔体和右防振基座腔体的内部的上部分别设有对应的空心盒模具，在所述倒灌模具平台的顶部对应左防振基座腔体和右防振基座腔体的底壁位置均设有若干用于固定及定位浸没式光刻机的锚固配件、若干用于防振基座表面预制螺纹孔的预埋铁块、若干用于吊装防振基座的吊环螺柱。

4、一种实施方案，在所述左防振基座腔体内设有一个空心盒模具，在所述右防振基座腔体内设有三个从左到右并列排列的空心盒模具。

5、一种实施方案，在所述倒灌模具平台的顶部的左右两端分别设有四个首尾相连的防振基座侧板，位于左端的四个防振基座侧板与倒灌模具平台形成左防振基座腔体，位于右端的四个防振基座侧板与倒灌模具平台形成右防振基座腔体。

6、一种优选方案，在所述防振基座侧板的外部围绕设有捆绑型钢。

7、一种优选方案，在所述倒灌模具平台的顶部对应防振基座侧板的位置设有防振基座侧板定位块。

8、一种实施方案，所述倒灌模具平台的顶部分别对应设有与锚固配件、预埋铁块、吊环螺柱相适配的锚固配件安装槽、预埋铁块安装槽、吊环螺柱安装槽，在所述锚固配件安装槽、预埋铁块安装槽、吊环螺柱安装槽内均设有可供紧固件穿过的安装孔，所述锚固配件、预埋铁块和吊环螺柱通过紧固件可拆卸的安装到对应的安装槽上。

9、一种实施方案，所述倒灌模具平台的整体框架是通过型钢整体焊接而成，所述倒灌模具平台的底部对称设有多个用于支撑倒灌模具平台的钢构支撑脚。

10、相较于现有技术，本技术的有益技术效果在于：

11、本技术提供的倒灌模具可用于制造浸没式光刻机防振基座，可使制造的防振基座能满足浸没式光刻机的高精度加工要求，能为浸没式光刻机提供良好的运转环境，并且，采用本技术提供的倒灌模具，可使浸没式光刻机防振基座的制造非常方便，易于实现工业化实施；因此，本技术相对于现有技术，具有显著应用价值和进步性。

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【技术保护点】

1.一种用于制造浸没式光刻机防振基座的倒灌模具，其特征在于：包括倒灌模具平台，在所述倒灌模具平台的顶部的左右两端分别设有整体呈矩形的开口空心盒状的左防振基座腔体和右防振基座腔体，在所述左防振基座腔体和右防振基座腔体的内部的上部分别设有对应的空心盒模具，所述倒灌模具平台的顶部在对应左防振基座腔体和右防振基座腔体的底壁位置均设有若干用于固定及定位浸没式光刻机的锚固配件、若干用于防振基座表面预制螺纹孔的预埋铁块、若干用于吊装防振基座的吊环螺柱。

2.根据权利要求1所述的用于制造浸没式光刻机防振基座的倒灌模具，其特征在于：在所述左防振基座腔体内设有一个空心盒模具，在所述右防振基座腔体内设有三个从左到右并列排列的空心盒模具。

3.根据权利要求1所述的用于制造浸没式光刻机防振基座的倒灌模具，其特征在于：在所述倒灌模具平台的顶部的左右两端分别设有四个首尾相连的防振基座侧板，位于左端的四个防振基座侧板与倒灌模具平台形成左防振基座腔体，位于右端的四个防振基座侧板与倒灌模具平台形成右防振基座腔体。

4.根据权利要求3所述的用于制造浸没式光刻机防振基座的倒灌模具，其特征在于：在所述防振基座侧板的外部围绕设有捆绑型钢。

5.根据权利要求3所述的用于制造浸没式光刻机防振基座的倒灌模具，其特征在于：在所述倒灌模具平台的顶部对应防振基座侧板的位置设有防振基座侧板定位块。

6.根据权利要求1所述的用于制造浸没式光刻机防振基座的倒灌模具，其特征在于：所述倒灌模具平台的顶部分别对应设有与锚固配件、预埋铁块、吊环螺柱相适配的锚固配件安装槽、预埋铁块安装槽、吊环螺柱安装槽，在所述锚固配件安装槽、预埋铁块安装槽、吊环螺柱安装槽内均设有可供紧固件穿过的安装孔，所述锚固配件、预埋铁块和吊环螺柱通过紧固件可拆卸的安装到对应的安装槽上。

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【技术特征摘要】

1.一种用于制造浸没式光刻机防振基座的倒灌模具，其特征在于：包括倒灌模具平台，在所述倒灌模具平台的顶部的左右两端分别设有整体呈矩形的开口空心盒状的左防振基座腔体和右防振基座腔体，在所述左防振基座腔体和右防振基座腔体的内部的上部分别设有对应的空心盒模具，所述倒灌模具平台的顶部在对应左防振基座腔体和右防振基座腔体的底壁位置均设有若干用于固定及定位浸没式光刻机的锚固配件、若干用于防振基座表面预制螺纹孔的预埋铁块、若干用于吊装防振基座的吊环螺柱。

2.根据权利要求1所述的用于制造浸没式光刻机防振基座的倒灌模具，其特征在于：在所述左防振基座腔体内设有一个空心盒模具，在所述右防振基座腔体内设有三个从左到右并列排列的空心盒模具。

3.根据权利要求1所述的用于制造浸没式光刻机防振基座的倒灌模具，其特征在于：在所述倒灌模具平台的顶部的左右两端分别设有四个首尾相连的防振基...

【专利技术属性】
技术研发人员：何成伟，
申请(专利权)人：协伟集成电路设备上海有限公司，
类型：新型
国别省市：