【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种样品台组件，具体为一种用于化学气相沉积的样品台组件，属于化学样品台。
技术介绍
1、近年来微波等离子体化学气相沉积法(mpcvd)技术越来越成熟，越来越多的企业用该方法来生产金刚石类产品。现有mpcvd设备一般是微波经过三销钉、波导和微波模式转换器传入由天线、石英玻璃、生长台组成的密闭腔体后生成等离子体，再由特气管路通入工艺气体，经过一系列化学气相沉积，在生长台上沉积生成需要的金刚石类产品。
2、在产品生长的过程中，生长温度是影响金刚石产品至关重要的因素。为解决不同的生长工艺对温度高低和均匀性的要求，市场上大部分机型采用水冷台上方添加固定样品台方式，通过多个钼盘叠加及加工各种沟槽实现温度调整以及均匀性问题。根据工艺的不同的，去选择不同尺寸的钼盘组件，在生产过程中温度调节困难，调节手段繁琐，在生产过程中因为钼盘等零件受高温影响变形，会导致生产状态的稳定性难以保证。
技术实现思路
1、(一)解决的技术问题
2、本技术的目的就在于为了解决上述问题而提供一种用于化学气相沉积的样品台组件，以解决现有技术中由于工艺的不同，去选择不同尺寸的钼盘组件，在生产过程中温度调节困难，调节手段繁琐，在钼盘等零件变形生产状态的稳定性难以保证的问题。
3、(二)技术方案
4、本技术通过以下技术方案予以实现：一种用于化学气相沉积的样品台组件，包括基台，所述基台内部设置有样品台，所述样品台顶部设置有钼盘，所述钼盘外侧固定套设有钼环内圈，所述钼环内圈外侧
5、优选地，所述钼盘底部固定连接有螺纹钼套，所述样品台顶部开设有螺纹槽，所述螺纹钼套套设于样品台外侧顶部，通过调整螺纹钼套拧入样品台顶部的高度，控制热传导作用的螺纹钼套与样品台之间接触面积，调整热交换速度。
6、优选地，所述基台内部固定连接有基台水冷环，基台水冷环内部水循环为水冷结构进行补充，保证水冷降温的面积，所述基台水冷环套设于样品台外侧。
7、优选地，所述基台底部固定连接有基台固定板，所述基台固定板套设于样品台外侧。
8、优选地，所述伸缩波纹管顶部与基台固定板固定连接，所述伸缩波纹管与基台固定板之间设置有第二密封圈。
9、优选地，所述伸缩波纹管底部固定连接有升降板，所述升降板固定套设于样品台外侧底部，解决了样品台升降过程密封的问题，避免样品台升降结构因为灰尘杂质的进入，所述伸缩波纹管与升降板之间设置有第一密封圈。
10、优选地，水冷结构包括样品台水冷腔、进水管和出水口，所述进水管设置于样品台底部，所述样品台水冷腔成型于样品台，进水管顶端设置于样品台水冷腔内腔顶部，进水管将水送到样品台水冷腔内腔顶部，所述出水口成型于样品台一侧，样品台水冷腔内部水进行热交换后，通过出水口排出。
11、本技术提供了一种用于化学气相沉积的样品台组件，其具备的有益效果如下：
12、1、该用于化学气相沉积的样品台组件，通过伸缩波纹管、第一密封圈和第二密封圈组成一个可伸缩密封结构，所述基台固定板套设于样品台外侧，可伸缩密封结构设置于样品台外侧，良好的解决了样品台升降过程密封的问题，避免样品台升降结构因为灰尘杂质的进入，出现卡顿准确性下降或磨损快速使用寿命下降的问题。
13、2、该用于化学气相沉积的样品台组件，进水管将水送到样品台水冷腔内腔顶部，样品台水冷腔内部水进行热交换后，通过出水口排出，构成一个简单有效的水冷结构，通过基台水冷环内部水循环为水冷结构进行补充，保证水冷降温的面积，钼加工件等高温区域均设有水冷，防止高温引起的钼件变形，控制螺纹钼套进行旋转，即可使螺纹钼套在样品台外侧进行旋转上移或者旋转下移，在生长不同厚度和大小种子晶片时，初始生长温度都会有所不同，可通过调整螺纹钼套拧入样品台顶部的高度，控制热传导作用的螺纹钼套与样品台之间接触面积，调整热交换速度，使得导热量发生变化进而使得产品温度更符合生产要求。
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1.一种用于化学气相沉积的样品台组件，包括基台(6)，其特征在于：所述基台(6)内部设置有样品台(8)，所述样品台(8)顶部设置有钼盘(1)，所述钼盘(1)外侧固定套设有钼环内圈(3)，所述钼环内圈(3)外侧固定套设有钼环外圈(4)，所述样品台(8)外侧设置有伸缩波纹管(10)，所述样品台(8)设置有水冷结构。
2.根据权利要求1所述的一种用于化学气相沉积的样品台组件，其特征在于：所述钼盘(1)底部固定连接有螺纹钼套(2)，所述样品台(8)顶部开设有螺纹槽，所述螺纹钼套(2)套设于样品台(8)外侧顶部。
3.根据权利要求1所述的一种用于化学气相沉积的样品台组件，其特征在于：所述基台(6)内部固定连接有基台水冷环(5)，所述基台水冷环(5)套设于样品台(8)外侧。
4.根据权利要求1所述的一种用于化学气相沉积的样品台组件，其特征在于：所述基台(6)底部固定连接有基台固定板(9)，所述基台固定板(9)套设于样品台(8)外侧。
5.根据权利要求1所述的一种用于化学气相沉积的样品台组件，其特征在于：所述伸缩波纹管(10)顶部与基台固定板(9
6.根据权利要求1所述的一种用于化学气相沉积的样品台组件，其特征在于：所述伸缩波纹管(10)底部固定连接有升降板(11)，所述升降板(11)固定套设于样品台(8)外侧底部，所述伸缩波纹管(10)与升降板(11)之间设置有第一密封圈(14)。
7.根据权利要求1所述的一种用于化学气相沉积的样品台组件，其特征在于：水冷结构包括样品台水冷腔(7)、进水管(12)和出水口(13)，所述进水管(12)设置于样品台(8)底部，所述样品台水冷腔(7)成型于样品台(8)，所述出水口(13)成型于样品台(8)一侧。
...【技术特征摘要】
1.一种用于化学气相沉积的样品台组件，包括基台(6)，其特征在于：所述基台(6)内部设置有样品台(8)，所述样品台(8)顶部设置有钼盘(1)，所述钼盘(1)外侧固定套设有钼环内圈(3)，所述钼环内圈(3)外侧固定套设有钼环外圈(4)，所述样品台(8)外侧设置有伸缩波纹管(10)，所述样品台(8)设置有水冷结构。
2.根据权利要求1所述的一种用于化学气相沉积的样品台组件，其特征在于：所述钼盘(1)底部固定连接有螺纹钼套(2)，所述样品台(8)顶部开设有螺纹槽，所述螺纹钼套(2)套设于样品台(8)外侧顶部。
3.根据权利要求1所述的一种用于化学气相沉积的样品台组件，其特征在于：所述基台(6)内部固定连接有基台水冷环(5)，所述基台水冷环(5)套设于样品台(8)外侧。
4.根据权利要求1所述的一种用于化学气相沉积的样品台组件，其特征在于：所述基台(6)底部固定连...
【专利技术属性】
技术研发人员：邱永强，赵俊芳，乔耀明，
申请(专利权)人：碳方程新材料山西有限公司，
类型：新型
国别省市：
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