勃姆石粒子的制造方法以及氧化铝粒子的制造方法技术

本发明专利技术提供适合制造氧化铝粒子的氧化铝粒子的制造方法，该氧化铝粒子可适合用作以下用途中的磨粒，即为了得到平滑度高且缺陷低的研磨面而对研磨对象物进行研磨的用途；本发明专利技术还提供适合制造勃姆石粒子的勃姆石粒子的制造方法，该勃姆石粒子可用作上述氧化铝粒子的原料。本发明专利技术的勃姆石粒子的制造方法中，通过将氢氧化铝粉末与成核剂一起供于水热反应，可以制造一次粒子形状为六面体、平均一次粒径为０．６μｍ以下的勃姆石粒子。本发明专利技术的氧化铝粒子的制造方法包括：对通过上述方法得到的勃姆石粒子进行干燥的工序；对干燥后的勃姆石粒子进行煅烧而得到氧化铝粒子的工序；对所得的氧化铝粒子进行粉碎的工序。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及能够作为制造氧化铝(alumina)粒子用的原料而使用的 勃姆石(boehmite)粒子的制造方法，以及氧化铝粒子的制造方法。
技术介绍
氧化铝粒子可以作为磨粒而用于对例如半导体设备基板、显示器 用基板、硬磁盘基板、LED用蓝宝石基板等研磨对象物进行研磨的用 途。为了得到平滑度高且缺陷少的研磨面，作为磨粒而使用的氧化铝 粒子的粒度(particle size)优选尽可能小。通常，与含有胶态硅石 (colloidal silica)作为游离磨粒的研磨用组合物相比，含有氧化铝粒子作 为游离磨粒的研磨用组合物，除去研磨对象物的速度(研磨速度)更高。 然而，即使是含有氧化铝粒子的情况，随着氧化铝粒子的粒度粒度减 小，通常研磨组合物对研磨对象物的除去速度降低。此外，随着氧化 铝粒子的粒度减小，通过洗涤除去附着于研磨面的氧化铝粒子也变得 困难(即，氧化铝粒子的洗涤性降低)。如专利文献l、 2所述，以往已知使用一次粒子形状为角状的氧化 铝粒子作为磨粒。 一次粒子的形状为六面体的氧化铝粒子，概念上包 含在该角状氧化铝粒子中，即使粒度小也能以高除去速度对研磨对象 物进行研磨，同时具有良好的洗涤性，因此，可适合用作以下用途中 的磨粒，即为了得到平滑度高且缺陷低的研磨面而对研磨对象物进行 研磨的用途。专利文献l:日本特开平3-277683号/>报专利文献2:日本特开平5-271647号7〉报
技术实现思路
因此，本专利技术的目的在于提供适合制造氧化铝粒子的氧化铝粒子 的制造方法，该氧化铝粒子可适合用作以下用途中的磨粒，即为了得 到平滑度高且缺陷低的研磨面而对研磨对象物进行研磨的用途；本专利技术还提供适合制造勃姆石粒子的勃姆石粒子的制造方法，该勃姆石粒 子可用作上述氧化铝粒子的原料。为了实现上述目的，本专利技术的一个实施方式提供勃姆石粒子的制 造方法，该方法通过将氢氧化铝粉末与成核剂(核生成剤)一起供于水热反应，来制造一次粒子的形状为六面体、平均一次粒径为0.6|Lmi以下 的勃姆石粒子。所使用的氢氧化铝粉末优选为三水铝石(gibbsite)。所4吏用的成核 剂优选为金属氧化物溶胶或者金属盐。将氢氧化铝粉末与成核剂一起供于水热反应的工序，例如可以通 过将含有氢氧化铝粉末及成核剂的浆料供于水热反应来进行。浆料的 pH值优选为8以下。浆料的导电率优选为50(HiS/cm以下。勃姆石粒子的制造方法优选包含以下工序通过一边向含有作为 水热反应结果而得到的勃姆石粒子的反应后浆料中导入纯水， 一边回 收反应后浆料中的水相作为滤液，从而对勃姆石粒子进行洗涤至所回 收滤液的导电率为50nS/cm以下的工序。本专利技术另一个实施方式提供氧化铝粒子的制造方法，该方法包含 以下工序对通过上述制造方法得到的勃姆石粒子进行干燥的工序； 对干燥后的勃姆石粒子进行煅烧而得到氧化铝粒子的工序；对所得的 氧化铝粒子进行粉碎(解砕)的工序。根据本专利技术，可以提供适合制造氧化铝粒子的氧化铝粒子的制造 方法，该氧化铝粒子可适合用作以下用途中的磨粒，即为了得到平滑 度高且缺陷低的研磨面而对研磨对象物进行研磨的用途；本专利技术还可 提供适合制造勃姆石粒子的勃姆石粒子的制造方法，该勃姆石粒子可 用作上述氧化铝粒子的原料。具体实施例方式以下，对本专利技术的一个实施方式进行说明。首先，在说明本实施方式的勃姆石粒子的制造方法之前，先对采 用本实施方式的方法制造的勃姆石粒子进行说明。另外，采用本实施 方式的方法制造的勃姆石粒子的主要用途是，作为用于制造用作磨粒 的氧化铝粒子的原料。勃姆石粒子的一次粒子的形状为六面体。勃姆石粒子的一次粒子优选具有近似于以下平行六面体的外形形状即，由相对的两个正方形与四个长方形或正方形包围形成的平行六面体，或者由相对的两个菱形与四个长方形或正方形包围形成的平行六面体。煅烧勃姆石粒子而得到的氧化铝粒子的一次粒子的形状，通常大体上维持该勃姆石粒子的一次粒子形状，因此，当勃姆石粒子的一次粒子形状为六面体时，可以说容易得到一次粒子形状为六面体的氧化铝粒子。 一次粒子形状为六面体的氧化铝粒子，可适合用作以下用途中的磨粒，即为了得到平滑度高且缺陷低的研磨面而对研磨对象物进行研磨的用途。 一次粒子的形状形成为六面体的勃姆石粒子，至少作为上述氧化铝粒子的原料有用。勃姆石粒子具有0.6jun以下的平均一次粒径。勃姆石粒子的平均一次粒径优选为0.4pm以下、更优选为0.3jim以下、进一步优选为0.2|nm以下。勃姆石粒子的平均一次粒径的定义是，从勃姆石一次粒子的一个顶点延伸的三条边中最长边的长度的平均值。煅烧勃姆石粒子而得到的氧化铝粒子的平均一次粒径的值，通常大体上维持该勃姆石粒子的平均一次粒径的值，因此，当勃姆石粒子的平均一次粒径在上述任意范围内时，可以说容易得到平均一次粒径为该范围的氧化铝粒子。平均一次粒径为0.6|nin以下、进一步来说在0.4nm以下、0.3nm以下或者0.2jim以下的氧化铝粒子，可适合用作以下用途中的磨粒，即为了得到平滑度高且缺陷低的研磨面而对研磨对象物进行研磨的用途。平均一次粒径为0.6nm以下、进一步来i兌在0.4nm以下、0.3nm以下或者0.2nm以下的勃姆石粒子，至少作为上述氧化铝粒子的原料有用。勃姆石粒子的平均一次粒径优选为0.01jun以上、更优选为0.05nm以上、进一步优选为0.08pm以上、特别优选为O.ljim以上。如上所述，煅烧勃姆石粒子而得到的氧化铝粒子的平均一次粒径，通常大体上维持该勃姆石粒子的平均一次粒径，因此，当勃姆石粒子的平均一次粒径在上述任意范围内时，可以说容易得到平均一次粒径为该范围的氧化铝粒子。随着氧化铝粒子的平均一次粒径增大，氧化铝粒子对研磨对象物的除去速度(研磨速度)升高。因此，当氧化铝粒子的平均一次粒径为O.Olnm以上、进一步来说为0.05pm以上、0.08pm以上或者为O.ljim以上时，易将除去速度提高至实际应用中特别适合的水平。平均一次粒径为O.Olpm以上、进一步来i兌为0.05nm以上、0.08nm以上或者为O.lpm以上的勃姆石粒子，至少作为上述氧化铝粒子的原料有用。勃姆石粒子的一次粒子具有优选为1~5、更优选为1~3、进一步优选为1~2、特别优选为1~1.5范围的长宽比(aspect ratio)。其中，勃姆石粒子的一次粒子的长宽比的定义是，从具有六面体形状的勃姆石一次粒子的一个顶点延伸的三条边中，以最长边的长度为a，以最短边的长度为c时，a除以c的值。剩下的一条边的长度b，优选与最长边的长度a大致相等。煅烧勃姆石粒子而得到的氧化铝粒子的一次粒子的长宽比，通常大体上维持该勃姆石粒子的一次粒子的长宽比，因此，当勃姆石粒子的一次粒子的长宽比在上述任意范围内时，可以说容易得到一次粒子的长宽比为该范围的氧化铝粒子。 一次粒子的长宽比为1~5、进一步来说为1~3、 1~2或1-1.5的氧化铝粒子，可特别适合用作以下用途中的磨粒，即为了得到平滑度高且缺陷低的研磨面而对研磨对象物进行研磨的用途。 一次粒子的长宽比为1~5、进一步来说为1~3、1 2或1~1.5的勃姆石粒子，至少作为上述氧化铝粒子的原料有用。本实施方式的勃姆石粒子的制造方法中，可以使用氢氧化铝粉末作为起始原料来进行水热反应。本文档来自技高网...

【技术保护点】
勃姆石粒子的制造方法，其特征在于：通过将氢氧化铝粉末与成核剂一起供于水热反应，来制造一次粒子的形状为六面体、平均一次粒径为０．６μｍ以下的勃姆石粒子。

【技术特征摘要】
JP 2008-8-18 2008-210027;JP 2009-7-21 2009-1701961.勃姆石粒子的制造方法，其特征在于通过将氢氧化铝粉末与成核剂一起供于水热反应，来制造一次粒子的形状为六面体、平均一次粒径为0.6μm以下的勃姆石粒子。2. 权利要求1所述的勃姆石粒子的制造方法，其中，所述氢氧化 铝粉末为三水铝石。3. 权利要求1或2所述的勃姆石粒子的制造方法，其中，所述成 核剂为金属氧化物溶胶或者金属盐。4. 权利要求1至3中任一项所述的勃姆石粒子的制造方法，其中， 将氢氧化铝粉末与成核剂 一起供于水热反应的工序是通过将含有氢氧 化铝粉末和成核剂的浆料供于水热反应来进行的，所述浆料的p...

【专利技术属性】
技术研发人员：森永均，田原宗明，芦高圭史，
申请(专利权)人：福吉米股份有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[]