【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体镀膜，尤其涉及一种便于清理的半导体镀膜设备。
技术介绍
1、半导体材料在使用时有时需要在外部镀上特定材质的膜以对其进行保护，常见的半导体镀膜方法包括pvd镀膜、cvd镀膜、离子镀膜等，而物理镀膜主要利用加热可蒸发的镀膜原料，使其转化成蒸汽，并附着在半导体材料表面，从而达到镀膜的效果。在半导体镀膜的过程中，部分废屑会掉落在工作台表面，凌乱的废屑造成工作台面的脏污，影响的循环使用。
2、为此，我们提出一种便于清理的半导体镀膜设备。
技术实现思路
1、本技术主要是解决上述现有技术所存在的技术问题，提供一种便于清理的半导体镀膜设备。
2、为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案，一种便于清理的半导体镀膜设备，包括工作台和镀膜箱，工作台上固定连接有两个限位框，两个限位框的内腔均固定连接有限位杆，两个限位杆上均滑动连接有移动块，两个移动块相对的侧壁面上固定连接有收集壳，收集壳的底部分别固定连接有若干个清洁刷和清洁铲，工作台一端的底部固定连接有放置框，放置框上活动设有集尘盒。
3、作为优选，收集壳的侧壁面上固定设有吸尘器，吸尘器输入端固定连接有输送管，输送管底部固定连接有吸尘管，吸尘管的底部固定连接有吸尘头。
4、作为优选，收集壳远离吸尘器的侧壁面上铰接有箱门，收集壳的内腔放置收集盒。
5、作为优选，放置框的侧壁面上横向开设有滑槽，集尘盒的侧壁面与滑槽相互配合的位置固定连接有滑块。
6、作为优选，收集壳顶部
7、有益效果
8、本技术提供了一种便于清理的半导体镀膜设备。具备以下有益效果：
9、(1)、该一种便于清理的半导体镀膜设备，手握把手时，收集壳带动清洁刷和清洁铲的运动，清洁铲的设置可以将较大的废屑推入集尘盒的内腔，清洁刷的设置可以进一步对工作台上的废屑进行清洁，清理过程更加方便快捷，从而可以循环使用半导体镀膜的工作台。
10、(2)、该一种便于清理的半导体镀膜设备，在使用清洁刷和清洁铲时，同时可以启动吸尘器，工作台上飘起的废屑通过吸尘头由吸尘管经过输送管最终最送入收集壳内腔中的收集盒中，降低在清理过程中废屑的扬起，提高工作环境的舒适度。
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1.一种便于清理的半导体镀膜设备，包括工作台(1)和镀膜箱(5)，其特征在于：所述工作台(1)上固定连接有两个限位框(2)，两个限位框(2)的内腔均固定连接有限位杆(3)，两个限位杆(3)上均滑动连接有移动块(4)，两个移动块(4)相对的侧壁面上固定连接有收集壳(6)，收集壳(6)的底部分别固定连接有若干个清洁刷(12)和清洁铲(13)，工作台(1)一端的底部固定连接有放置框(8)，放置框(8)上活动设有集尘盒(11)。
2.根据权利要求1所述的一种便于清理的半导体镀膜设备，其特征在于：所述收集壳(6)的侧壁面上固定设有吸尘器(14)，吸尘器(14)输入端固定连接有输送管(15)，输送管(15)底部固定连接有吸尘管(16)，吸尘管(16)的底部固定连接有吸尘头(17)。
3.根据权利要求2所述的一种便于清理的半导体镀膜设备，其特征在于：所述收集壳(6)远离吸尘器(14)的侧壁面上铰接有箱门(18)，收集壳(6)的内腔放置收集盒(19)。
4.根据权利要求1所述的一种便于清理的半导体镀膜设备，其特征在于：所述放置框(8)的侧壁面上横向开设有滑槽(
5.根据权利要求1所述的一种便于清理的半导体镀膜设备，其特征在于：所述收集壳(6)顶部的中心位置固定连接有把手(7)。
...【技术特征摘要】
1.一种便于清理的半导体镀膜设备，包括工作台(1)和镀膜箱(5)，其特征在于：所述工作台(1)上固定连接有两个限位框(2)，两个限位框(2)的内腔均固定连接有限位杆(3)，两个限位杆(3)上均滑动连接有移动块(4)，两个移动块(4)相对的侧壁面上固定连接有收集壳(6)，收集壳(6)的底部分别固定连接有若干个清洁刷(12)和清洁铲(13)，工作台(1)一端的底部固定连接有放置框(8)，放置框(8)上活动设有集尘盒(11)。
2.根据权利要求1所述的一种便于清理的半导体镀膜设备，其特征在于：所述收集壳(6)的侧壁面上固定设有吸尘器(14)，吸尘器(14)输入端固定连接有输送管(15)，输...
【专利技术属性】
技术研发人员：舒波，洪滔，程浩东，包瑞，
申请(专利权)人：安合鑫光电科技苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：
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