本发明专利技术公开了一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，包括有镀膜腔体，镀膜腔体内设有腔室，腔室内设有平面阴极组件，以及设置于平面阴极组件上侧带动基材运动的基材滚动支架，镀膜腔体与平面阴极组件之间设有靶基距调节组件，平面阴极组件上侧面上设有靶材，平面阴极组件内设有进水管以及位于进水管上侧设有与靶材相对设置的磁轭，磁轭上侧面设有磁铁，进水管与磁轭之间设有磁基距调节组件，调节靶基距实现根据不同的靶材或基材快速调节出最符合生产工艺要求的靶基距，调节磁基距保证磁铁与靶材两者长度方向上的平行度，同时在应用不同材质或不同厚度的靶材镀膜时，也能调节磁基距达到最佳镀膜磁场要求。
1、真空磁控溅射镀膜设备是一种先进的镀膜技术，主要用于在各种材料表面镀上一层薄膜，以实现特定的功能。如可用于功能性薄膜镀膜，制备各种具有特定功能的薄膜，例如反射、折射、偏光、吸收等作用的薄膜，这些功能性薄膜可以应用于太阳能电池、光学器件等领域，提高产品的性能；可用于装饰领域的应用，制备的薄膜具有高光泽度、高硬度和良好的耐候性等特点，如可以在手机外壳、电脑键盘、门窗玻璃等产品上镀上一层美观且耐用的薄膜，提升产品的质量和附加值；可用于微电子行业领域，主要用于制备电子器件的薄膜，如半导体薄膜、金属薄膜等，这些薄膜在集成电路、传感器、太阳能电池等领域有着广泛的应用；可用于机械行业加工，制备具有高硬度、高耐磨性、高耐腐蚀性等性能的表面功能膜，如超硬膜、耐腐蚀膜等，这些膜层可以应用于各种机械设备上，提高设备的性能和使用寿命。
2、现有的平面阴极真空磁控溅射镀膜设备中，靶材的安装位置是固定的，使得靶材与镀膜基材之间的距离是固定不变的，因此在应用不同靶材镀膜时，需要调节靶材厚度、基材的厚度或基材位置来调节靶基距，操作繁琐，难以快速且低成本调节出最符合生产工艺要求靶基距；另一方面，现有的平面阴极真空磁控溅射镀膜设备中，磁轭一般固定在平面阴极上，使得磁轭与靶材之间的距离是固定不变的，在镀膜设备组装后，由于磁轭和靶材长度较长，因此难以保证磁轭与靶材两者平行；同时在应用不同材质或不同厚度的靶材镀膜时，也难以达到最佳磁场要求。
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技术实现思路
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1、本专利技术克服了现有技术的不足，提供了一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备。
2、为实现上述目的，本专利技术采用了下列技术方案：
3、一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：包括有镀膜腔体，镀膜腔体内设有腔室，腔室内设有沿长度方向设置用于受带电粒子碰撞后向外溅射靶材粒子的平面阴极组件，以及设置于平面阴极组件上侧用于带动基材运动的基材滚动支架，镀膜腔体与平面阴极组件之间设有用于调节平面阴极组件与基材之间距离的靶基距调节组件，平面阴极组件上侧面上设有靶材，平面阴极组件内设有进水管以及位于进水管上侧设有与靶材相对设置的磁轭，磁轭上侧面设有磁铁，进水管与磁轭之间设有多个用于调节磁铁与靶材之间距离的磁基距调节组件。
4、如上所述的一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：靶基距调节组件包括有竖向设置且一端与腔室上侧面连接有靶距调节螺杆，平面阴极组件一端设有套设在靶距调节螺杆上的螺杆套，靶距调节螺杆上位于螺杆套下侧螺纹连接有承托螺母，镀膜腔体顶面上设有转动螺母，转动螺母内螺纹连接有可随转动螺母转动上下移动的螺纹导电柱，螺纹导电柱与平面阴极组件另一端之间连接有连接杆。
5、如上所述的一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：靶距调节螺杆上位于螺杆套上侧螺纹连接有锁定螺母。
6、如上所述的一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：腔室上侧面上设有螺杆连接座，靶距调节螺杆上端设有插入螺杆连接座的螺杆接头。
7、如上所述的一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：平面阴极组件内设有方管，进水管、磁轭以及磁铁均设在方管内，连接杆为连接管，且螺纹导电柱与平面阴极组件之间设有两个连接管，螺纹导电柱上设有两个分别与两连接管连通的导电柱通孔，其中一个连接管另一端与进水管一端连通，另一个连接管另一端与方管连通，进水管侧面设有多个进水管通孔。
8、如上所述的一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：镀膜腔体顶面上设有螺母转动座，转动螺母设置在螺母转动座内。
9、如上所述的一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：磁基距调节组件包括有竖向设置且贯穿设置的磁距调节螺杆，磁距调节螺杆上端与磁轭底面连接，磁距调节螺杆上位于进水管上侧面位置套设有靶距调节螺母。
10、如上所述的一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：磁距调节螺杆下端设有限位头部，磁距调节螺杆上位于限位头部与进水管下侧面之间、靶距调节螺母与进水管上侧面之间分别设有垫圈。
11、如上所述的一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：平面阴极组件包括有两端封闭的凵型防护板，凵型防护板内设有方管，方管两端设有方管端盖，进水管固定在两侧方管端盖之间，凵型防护板与方管之间设有绝缘垫，方管顶面上设有散热板，靶材设置在散热板上且与凵型防护板上端开口相对设置。
12、如上所述的一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：凵型防护板两内侧侧面与绝缘垫之间分别设有供气体通过的气体板，凵型防护板两侧侧面设有向内弯折的护板弯折部。
13、本专利技术的有益效果是：
14、1、本专利技术在镀膜腔体与平面阴极组件之间设有用于调节靶材与基材之间距离的靶基距调节组件，通过靶基距调节组件可调节平面阴极组件上的靶材与基材之间的靶基距，实现了可根据不同的靶材或基材，以低成本且快速调节出最符合生产工艺要求的靶基距。
15、2、本专利技术在平面阴极组件的进水管与磁轭之间设有多个用于调节磁铁与靶材之间距离的磁基距调节组件，通过磁基距调节组件可调节磁铁与靶材之间的磁基距，保证磁铁与靶材两者长度方向上的平行度，同时在应用不同材质或不同厚度的靶材镀膜时，也能调节磁基距达到最佳镀膜磁场要求。
16、3、本专利技术的靶基距调节组件包括有竖向设置且一端与腔室上侧面连接有靶距调节螺杆，平面阴极组件一端设有套设在靶距调节螺杆上的螺杆套，靶距调节螺杆上位于螺杆套下侧螺纹连接有承托螺母，镀膜腔体顶面上设有转动螺母，转动螺母内螺纹连接有可随转动螺母转动上下移动的螺纹导电柱，螺纹导电柱与平面阴极组件另一端之间连接有连接杆，通过分别转动承托螺母和转动螺母即可调节平面阴极组件上的靶材与基材之间的靶基距，结构简单且操作便利。
17、4、本专利技术的磁基距调节组件包括有竖向设置且贯穿进水管设置的磁距调节螺杆，磁距调节螺杆上端与磁轭底面连接，磁距调节螺杆上位于进水管上侧面位置套设有靶距调节螺母，通过转动靶距调节螺母调节其在磁距调节螺杆上的位置，从而实现磁铁与靶材之间的磁基距调节，保证磁铁与靶材两者长度方向上的平行度，结构简单且操作便利。
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【技术保护点】
1.一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：包括有镀膜腔体(1)，镀膜腔体(1)内设有腔室(2)，腔室(2)内设有沿长度方向设置用于受带电粒子碰撞后向外溅射靶材粒子的平面阴极组件(3)，以及设置于平面阴极组件(3)上侧用于带动基材(4)运动的基材滚动支架(5)，镀膜腔体(1)与平面阴极组件(3)之间设有用于调节平面阴极组件(3)与基材(4)之间距离的靶基距调节组件(6)，平面阴极组件(3)上侧面上设有靶材(7)，平面阴极组件(3)内设有进水管(31)以及位于进水管(31)上侧设有与靶材(7)相对设置的磁轭(32)，磁轭(32)上侧面设有磁铁(33)，进水管(31)与磁轭(32)之间设有多个用于调节磁铁(33)与靶材(7)之间距离的磁基距调节组件(8)。
2.根据权利要求1所述的一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：靶基距调节组件(6)包括有竖向设置且一端与腔室(2)上侧面连接有靶距调节螺杆(61)，平面阴极组件(3)一端设有套设在靶距调节螺杆(61)上的螺杆套(62)，靶距调节螺杆(61)上位于螺杆套(62)下侧螺纹连接有承托螺母(63)，镀膜腔体(1)顶面上设有转动螺母(64)，转动螺母(64)内螺纹连接有可随转动螺母(64)转动上下移动的螺纹导电柱(65)，螺纹导电柱(65)与平面阴极组件(3)另一端之间连接有连接杆(66)。
3.根据权利要求2所述的一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：靶距调节螺杆(61)上位于螺杆套(62)上侧螺纹连接有锁定螺母(67)。
4.根据权利要求2所述的一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：腔室(2)上侧面上设有螺杆连接座(68)，靶距调节螺杆(61)上端设有插入螺杆连接座(68)的螺杆接头(69)。
5.根据权利要求2所述的一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：平面阴极组件(3)内设有方管(34)，进水管(31)、磁轭(32)以及磁铁(33)均设在方管(34)内，连接杆(66)为连接管，且螺纹导电柱(65)与平面阴极组件(3)之间设有两个连接管，螺纹导电柱(65)上设有两个分别与两连接管连通的导电柱通孔(651)，其中一个连接管另一端与进水管(31)一端连通，另一个连接管另一端与方管连通，进水管(31)侧面设有多个进水管通孔。
6.根据权利要求2所述的一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：镀膜腔体(1)顶面上设有螺母转动座(610)，转动螺母(64)设置在螺母转动座(610)内。
7.根据权利要求1所述的一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：磁基距调节组件(8)包括有竖向设置且贯穿设置的磁距调节螺杆(81)，磁距调节螺杆(81)上端与磁轭(32)底面连接，磁距调节螺杆(81)上位于进水管(31)上侧面位置套设有靶距调节螺母(82)。
8.根据权利要求7所述的一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：磁距调节螺杆(81)下端设有限位头部(83)，磁距调节螺杆(81)上位于限位头部(83)与进水管(31)下侧面之间、靶距调节螺母(82)与进水管(31)上侧面之间分别设有垫圈(84)。
9.根据权利要求1所述的一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：平面阴极组件(3)包括有两端封闭的凵型防护板(35)，凵型防护板(35)内设有方管(34)，方管(34)两端设有方管端盖(36)，进水管(31)固定在两侧方管端盖(36)之间，凵型防护板(35)与方管(34)之间设有绝缘垫(37)，方管(34)顶面上设有散热板(38)，靶材(7)设置在散热板(38)上且与凵型防护板(35)上端开口相对设置。
10.根据权利要求9所述的一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：凵型防护板(35)两内侧侧面与绝缘垫(37)之间分别设有供气体通过的气体板(39)，凵型防护板(35)两侧侧面设有向内弯折的护板弯折部(351)。
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【技术特征摘要】
1.一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：包括有镀膜腔体(1)，镀膜腔体(1)内设有腔室(2)，腔室(2)内设有沿长度方向设置用于受带电粒子碰撞后向外溅射靶材粒子的平面阴极组件(3)，以及设置于平面阴极组件(3)上侧用于带动基材(4)运动的基材滚动支架(5)，镀膜腔体(1)与平面阴极组件(3)之间设有用于调节平面阴极组件(3)与基材(4)之间距离的靶基距调节组件(6)，平面阴极组件(3)上侧面上设有靶材(7)，平面阴极组件(3)内设有进水管(31)以及位于进水管(31)上侧设有与靶材(7)相对设置的磁轭(32)，磁轭(32)上侧面设有磁铁(33)，进水管(31)与磁轭(32)之间设有多个用于调节磁铁(33)与靶材(7)之间距离的磁基距调节组件(8)。
2.根据权利要求1所述的一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：靶基距调节组件(6)包括有竖向设置且一端与腔室(2)上侧面连接有靶距调节螺杆(61)，平面阴极组件(3)一端设有套设在靶距调节螺杆(61)上的螺杆套(62)，靶距调节螺杆(61)上位于螺杆套(62)下侧螺纹连接有承托螺母(63)，镀膜腔体(1)顶面上设有转动螺母(64)，转动螺母(64)内螺纹连接有可随转动螺母(64)转动上下移动的螺纹导电柱(65)，螺纹导电柱(65)与平面阴极组件(3)另一端之间连接有连接杆(66)。
3.根据权利要求2所述的一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：靶距调节螺杆(61)上位于螺杆套(62)上侧螺纹连接有锁定螺母(67)。
4.根据权利要求2所述的一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：腔室(2)上侧面上设有螺杆连接座(68)，靶距调节螺杆(61)上端设有插入螺杆连接座(68)的螺杆接头(69)。
5.根据权利要求2所述的一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：平面阴极组件(3)内设有方管(34)，进水管(31)、磁轭(32)以及磁...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱世元，高鹤，潘朝刚，吴桂桃，柯绍锴，
申请(专利权)人：金耀真空设备中山有限公司，
类型：发明
国别省市：
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