【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及瓷砖的，具体涉及一种局部定位微光的大理石瓷砖及其制备方法。
技术介绍
1、大理石瓷砖，是指具有天然大理石逼真纹理、色彩和质感的一类瓷砖产品，其具有天然大理石逼真的装饰效果和瓷砖的优越性能，摒弃天然大理石的各种天然缺陷，它是建陶行业划时代的革新者，也是现代顶级瓷砖制造工艺的代表作，大理石瓷砖是继瓷片、抛光砖、仿古砖、微晶石瓷砖之后的又一瓷砖新品类。大理石瓷砖在纹理、色彩、质感、手感以及视觉效果完全达到天然大理石的逼真效果，装饰效果甚至优于天然石材，大理石瓷砖凭借逼真的装饰效果和优越的实用性能赢得广大消费者的青睐，已发展成为瓷砖领域的主流产品之一。
2、但是在实际使用时，大理石瓷砖仍旧存在一些缺点，如：目前的陶瓷行业的仿大理石瓷砖对比天然大理石，往往缺少闪光效果，或者光感效果差，过渡不够自然，瓷砖与天然石材形像神不像，同时现有技术制备的闪光瓷砖表面质量不高，瓷砖表面颗粒粗大，无法与砖面图案形成配合，与天然石材效果相差较大。
3、因此十分有必要，开发一种局部定位微光的大理石瓷砖及其制备方法。
技术实现思路
1、本申请所述一种局部定位微光的大理石瓷砖及其制备方法，本申请的大理石瓷砖，通过将闪光釉料在烧成过程的自发析晶代替外加闪光物相的方式，在赋予釉面闪光装饰的同时不会影响釉层自身通彻、透明的特点，还能够消除釉面的杂质感和突兀感，同时丝网印刷可精准控制大理石瓷砖各个颜色，能呈现丰富的色彩变化，闪光物相和釉层玻璃相有良好的浸润、包裹以及化学键结合，可以减少
2、本专利技术的目的通过下述技术方案实现：
3、本申请的第一目的，一种局部定位微光的大理石瓷砖，包括坯体，还包括依次附着在坯体上的釉面层、闪光釉层、保护釉层；
4、形成所述闪光釉层的闪光釉料，以重量份为单位，包括以下原料：
5、闪光粉30-50份、高钙干粒10-30份、保护粉1-3份；
6、所述闪光粉，以重量份为单位，包括以下原料：
7、氧化铁5-8份、氧化锰5-8份、碳酸铜5-8份、氧化钴5-8份、荧光粉10-18份。
8、优选的，所述高钙干粒，包括以质量百分比计的下述化学组成：
9、sio2:40-48％，al2o3:25-32％，cao:20-25％，mgo:0.08-1.2％，k2o:0.3-0.4％，na2o:1.5-2.2％，tio2:0.02-0.1％。
10、优选的，所述高钙干粒的粒径为0.1-0.15mm。
11、优选的，所述保护粉，包括以质量百分比计的下述化学组成：
12、sio2:42.74％，al2o3:22.38％，fe2o3:0.17％，tio2:0.06％，cao:8.01％，mgo:4.36％，k2o:3.05％，na2o:0.96％，bao:4.95％，灼减量11.89％。
13、优选的，形成所述釉面层的釉面釉料，以重量份为单位，包括以下原料：
14、石英20-30份、长石20-30份、高岭土10-15份、石灰石8-15份、方解石8-15份、滑石5-8份、氧化锌3-5份、硼砂3-5份。
15、优选的，形成所述保护釉层的保护粉，包括以质量百分比计的下述化学组成：
16、sio2:42.74％，al2o3:22.38％，fe2o3:0.17％，tio2:0.06％，cao:8.01％，mgo:4.36％，k2o:3.05％，na2o:0.96％，bao:4.95％，灼减量11.89％。
17、本申请的第二目的，提供一种局部定位微光的大理石瓷砖制备方法，包括以下步骤：
18、s1.将坯体粉料压制成型，得到陶瓷坯体，将陶瓷坯体送入干燥窑干燥，在干燥后的陶瓷坯体表面施面釉的浆料；形成面釉层；
19、s2.在施面釉后的陶瓷坯体表面喷墨打印，形成图案；
20、s3.制备闪光釉浆；
21、s4.通过丝网将闪光釉浆，印刷到图案上；形成闪光层；
22、s5.通过丝网将保护釉浆，印刷到闪光层上；形成保护釉层；
23、s6.将步骤s5得到含有保护釉层的陶瓷坯体，在温度1220-1240℃下烧成；得到大理石瓷砖半成品。
24、优选的，在步骤s3中，所述制备闪光釉浆，按照闪光釉料的原料组成，将闪光粉、高钙干粒、保护粉、水混合均匀，配制成闪光釉浆。
25、优选的，在步骤s1中，所述面釉的浆料比重为1.84-1.88g/ml，施釉量为65g。
26、优选的，在步骤s5中，所述保护釉浆的比重为1.56-1.60g/ml，施釉量为180-200g。
27、本申请的有益效果是：
28、1.本申请通过设置喷墨打印，结合丝网印刷可增加拼花瓷砖的图案立体感，色彩鲜艳和瓷砖质感，使其还原石头本来的样子；通过闪光釉料在烧成过程的自发析晶代替外加闪光物相的方式，在赋予釉面闪光装饰的同时不会影响釉层自身通彻、透明的特点，还能够消除釉面的杂质感和突兀感，同时丝网印刷可精准控制大理石瓷砖各个颜色，能呈现丰富的色彩变化，闪光物相和釉层玻璃相有良好的浸润、包裹以及化学键结合，可以减少甚至杜绝气泡、空洞、釉层致密性降低等釉面层缺陷。
29、2.本申请结合丝网的多变性，在坯体表面局部施一层闪光釉料，然后在上部施一层保护釉，在最高烧成温度为1240℃下进行烧成，整个烧成时间为60-80分钟，烧成后再进行刷抛处理，刷抛磨块主要为行业常用的弹性磨块，进一步提高瓷砖防污性能，表面效果靓丽，石材质感。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种局部定位微光的大理石瓷砖，包括坯体，其特征在于，还包括依次附着在坯体上的釉面层、闪光釉层、保护釉层；
2.根据权利要求1所述的大理石瓷砖，其特征在于，所述高钙干粒，包括以质量百分比计的下述化学组成：
3.根据权利要求2所述的大理石瓷砖，其特征在于，所述高钙干粒的粒径为0.1-0.15mm。
4.根据权利要求1所述的大理石瓷砖，其特征在于，所述保护粉，包括以质量百分比计的下述化学组成：
5.根据权利要求1所述的大理石瓷砖，其特征在于，形成所述釉面层的釉面釉料，以重量份为单位，包括以下原料：
6.根据权利要求1所述的大理石瓷砖，其特征在于，形成所述保护釉层的保护粉，包括以质量百分比计的下述化学组成：
7.根据权利要求1-6任一项所述的一种局部定位微光的大理石瓷砖制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，在步骤S3中，所述制备闪光釉浆，按照闪光釉料的原料组成，将闪光粉、高钙干粒、保护粉、水混合均匀，配制成闪光釉浆。
9.根据权利要求7所述的制
10.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，在步骤S5中，所述保护釉浆的比重为1.56-1.60g/ml，施釉量180-200g。
...【技术特征摘要】
1.一种局部定位微光的大理石瓷砖，包括坯体，其特征在于，还包括依次附着在坯体上的釉面层、闪光釉层、保护釉层；
2.根据权利要求1所述的大理石瓷砖，其特征在于，所述高钙干粒，包括以质量百分比计的下述化学组成：
3.根据权利要求2所述的大理石瓷砖，其特征在于，所述高钙干粒的粒径为0.1-0.15mm。
4.根据权利要求1所述的大理石瓷砖，其特征在于，所述保护粉，包括以质量百分比计的下述化学组成：
5.根据权利要求1所述的大理石瓷砖，其特征在于，形成所述釉面层的釉面釉料，以重量份为单位，包括以下原料：
6.根据权利要求1所述的大理石瓷砖，其特征在于，形成所述保...
【专利技术属性】
技术研发人员：浦霄，李志豪，黄文锋，李道杰，吴惠权，王修成，李梦洁，
申请(专利权)人：清远市简一陶瓷有限公司，
类型：发明
国别省市：
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