【技术实现步骤摘要】
本申请涉及光学，更具体地，涉及一种电子光学调试方法、装置和系统。
技术介绍
1、电子光学成像系统是传统电子显微镜的核心子系统，随着人类社会的进步发展，对于微观探测的需求与日俱增，其在生物、医学、物理、材料、半导体等行业都有着广泛应用，所有的扫描电子显微系统在出厂前都需要进行电子光学调试，现阶段的调试都是基于电光转换晶体的辅助进行电子束斑的定位，然后通过传统测试样品(金粒子、锡粒子)进行电子光学光路的精细调节。但是由于电光转换晶体和传统电子光学调试样品的厚度和尺寸是不相同的，从电光转换晶体切换成传统电子光学调试样品的时候，就失去了对电子束斑位置的监控能力，只能去盲调电子光学光路，如果怀疑束斑偏离出了调试样品区域，就又需要换回电光转换晶体，所以传统电子光学调试方案存在着需要反复开关真空腔、反复更换样品等耗时过长的痛点。随着多电子束系统的诞生和发展，这种电光转换晶体和传统测试样品之间的切换急剧增加了电子光学系统的调试难度和成本。
2、因此，如何简化电子光学调试的流程，提高电子光学调试的精度和效率是现阶段亟需解决的技术问题。
技术实现思路
1、本申请提供一种电子光学调试方法、装置和系统，以简化电子光学调试的流程，提高电子光学调试的精度和效率。
2、第一方面，提供了一种电子光学调试方法，该方法包括：控制电子束发射器向第一样品照射第一电子束；通过第一探测器拍摄所述第一样品在所述第一电子束的照射下的至少一个第一图像，所述第一探测器用于光学成像；对所述电子束发射器进行第一调
3、基于上述方案，只需要使用第一样品就可以实现电子光学调试，不需要切换样品，避免了频繁更换样品带来的时间损耗和调试误差，简化了电子光学调试的流程。同时能够通过第一探测器单纯的调节电子束，从而将电子束的调节和第二探测器的调节进行解耦，进而提高电子光学调试的精度和效率。
4、具体地，第一样品受到电子束的照射后，被照射的区域会发出可见光，且光强随束流大小呈正比。第一探测器包括光学探测器，用于采集第一样品上的光学像，第二探测器包括电子收集系统，用于采集第一样品上的二次电子并根据采集到的二次电子进行成像。此外，上述电子束发射器包括电磁透镜，通过对电磁透镜进行调节可以对电子束进行调制，使其能够精确的控制电子束的运动轨迹和扫描。
5、本申请中，当电子束轰击在第一样品上时，通过第一探测器成像可以对电子束位置进行定位，同时利用电子束发生器对电子束进行调制，利用第一探测器进行电子束发生器的调节，本申请中，电子束发生器也可以被称为入射电子光学系统，其作用是产生电子束并能对电子束进行调节。当电子束发生器调节完成后，可以针对第二探测器进行匹配调节，实现电子光学系统的快速调测目的。利用第一样品，可以表征电子束的分辨率，像散、放大倍率等一系列电子光学性能指标。
6、结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，所述第一预设条件包括：图像的分辨率达到第一阈值；和/或图像的放大倍率达到第二阈值；和/或图像的像散低于第三阈值。
7、基于上述方案，当第一图像满足第一预设条件时，电子束能够做到良好聚焦于第一样品的表面，从而提高后续调试的准确度，其中，第一阈值、第二阈值和第三阈值可以根据实际使用中的要求进行设置，本申请对此不做限定。
8、结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，所述第二预设条件包括：图像的分辨率达到第四阈值；和/或图像的放大倍率达到第五阈值；和/或图像的像散低于第六阈值。
9、基于上述方案，当第二图像满足第二预设条件时，第二探测器可以匹配经过第一调解处理的电子束发生器，从而提高调试的效率。
10、结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，所述第一样品上绘制有调试图案，所述调试图案是根据所述第二预设条件设计的。
11、本申请将第一样品和调试图案进行结合，经过上述第一调节处理和第二调节处理后，第一图像和第二图像上可以清晰呈现该调试图案，进而可以实现对分辨率、对中和像散的优化，从而提高电子光学调试的精度。
12、调试图案可以是传统电子光学表征图案，也可以根据实际需求进行设计，本申请对此不做限定。
13、结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，第一探测器透过透明真空法兰拍摄所述至少一个第一图像。
14、基于上述方案，电子束轰击在第一样品上所形成的光学像可以经过透明真空法兰导出。
15、需要说明的是，使用透明真空法兰的原因是第一样品放置在真空环境中，如果可以将第一探测器也放置在真空环境中采集第一图像，那么不使用透明真空法兰也能达到相同的效果。
16、第二方面，提供了一种电子光学调试系统，该系统包括：电子束发射器、第一探测器和第二探测器，其中，所述第一探测器用于光学成像，所述第二探测器用于电子光学成像；所述电子束发射器，用于向第一样品照射第一电子束；所述第一探测器，用于拍摄所述第一样品在所述第一电子束的照射下的至少一个第一图像；所述电子束发射器，具体用于进行第一调节处理，以使所述至少一个第一图像满足第一预设条件；所述第二探测器，用于拍摄所述第一样品在第二电子束的照射下的至少一个第二图像，所述第二电子束是所述电子束发射器经过第一调节处理后发射的；所述第二探测器，具体用于进行第二调节处理，以使所述至少一个第二图像满足第二预设条件。
17、具体地，第一样品受到电子束的照射后，被照射的区域会发出可见光，且光强与电子束束流大小呈正比。第一探测器包括光学探测器，用于采集第一样品上的光学像，第二探测器包括电子收集系统，用于采集第一样品上的电子并根据采集到的电子进行成像。此外，上述电子束发射器包括电磁透镜，通过对电磁透镜进行调节可以对电子束进行调制。
18、基于上述方案，利用第一探测器和第一样品可以快速调试电子束，利用第一样品可以快速调试第二探测器，使得第二探测器与调试后的电子束相匹配，从而提高电子光学调试的效率和精度。
19、结合第二方面，在第二方面的某些实现方式中，所述第一预设条件包括：图像的分辨率达到第一阈值；和/或图像的放大倍率达到第二阈值；和/或图像的像散低于第三阈值。
20、结合第二方面，在第二方面的某些实现方式中，经过所述第二调节处理后，所述第二图像满足第二预设条件。
21、结合第二方面，在第二方面的某些实现方式中，所述第二预设条件包括：图像的分辨率达到第四阈值；和/或图像的放大倍率达到第五阈值；和/或图像的像散低于第六阈值。
22、结合第二方面，在第二方面的某些实现方式中，所述第一样品上绘制有调试图案，所述调试图案是根据所述第二预设条本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种电子光学调试方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一预设条件包括：
3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述第二预设条件包括：
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述第一样品上绘制有调试图案，所述调试图案是根据所述第二预设条件设计的。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其特征在于，第一探测器透过透明真空法兰拍摄所述至少一个第一图像。
6.一种电子光学调试系统，其特征在于，包括：
7.根据权利要求6所述的系统，其特征在于，所述第一预设条件包括：
8.根据权利要求7所述的系统，其特征在于，所述第二预设条件包括：
9.根据权利要求7或8所述的系统，其特征在于，所述第一样品上绘制有调试图案，所述调试图案是根据所述第二预设条件设计的。
10.一种电子光学调试样品，其特征在于，包括：
11.根据权利要求10所述的装置，其特征在于，所述第一阻挡层的形状是调试图案，所述调试图案用于电子光学调试。
13.根据权利要求10至12中任意一项所述的装置，其特征在于，所述第一阻挡层包括第二金属，所述第二金属的质量数大于第八阈值。
14.根据权利要求10至13中任一项所述的装置，其特征在于，所述第一支撑件是透明支撑件。
15.根据权利要求10至14中任一项所述的装置，其特征在于，所述第一衬底在受电子束轰击后，被轰击区域能够发射可被光学探测器探测的可见光。
16.一种电子光学调试装置，其特征在于，包括：
17.一种计算机存储介质，其特征在于，所述计算机存储介质中存储有计算机指令，所述指令在计算机上执行时，使得所述计算机执行如权利要求1至5中任一项所述的方法。
18.一种芯片，其特征在于，包括处理器，所述处理器用于执行如权利要求1至5中任一项所述的方法。
...【技术特征摘要】
1.一种电子光学调试方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一预设条件包括：
3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述第二预设条件包括：
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述第一样品上绘制有调试图案，所述调试图案是根据所述第二预设条件设计的。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其特征在于，第一探测器透过透明真空法兰拍摄所述至少一个第一图像。
6.一种电子光学调试系统，其特征在于，包括：
7.根据权利要求6所述的系统，其特征在于，所述第一预设条件包括：
8.根据权利要求7所述的系统，其特征在于，所述第二预设条件包括：
9.根据权利要求7或8所述的系统，其特征在于，所述第一样品上绘制有调试图案，所述调试图案是根据所述第二预设条件设计的。
10.一种电子光学调试样品，其特征在于，包括：
11.根据权利要求10所述的装置，其特征在于，...
【专利技术属性】
技术研发人员：王琰，朱金台，劳大鹏，白玉杰，戴凤钊，杨晨，袁忠辉，黎承蕾，闫石林，
申请(专利权)人：华为技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。