【技术实现步骤摘要】
下面的实施例涉及一种基板处理系统。
技术介绍
1、为了制造半导体元件，在基板上通过照相、蚀刻、灰化、离子注入以及薄膜沉积等多种工艺，在基板上形成想要的图案。在各工艺中使用各种处理液，而且在工艺进行过程中会产生污染物和颗粒。为了解决这个问题，在各工艺前后会执行用于处理污染物和颗粒的处理工艺。
2、一般来说，处理工艺执行清洗工艺和干燥工艺。清洗工艺向基板上供给清洗液及/或有机溶剂，干燥处理工艺去除在基板上残留的流体。当向基板上供给有机溶剂时，执行用于去除该有机溶剂的干燥工艺。
3、干燥工艺在和清洗腔室不同的腔室里进行。因此，完成清洗工艺的基板从清洗腔室被搬运至干燥腔室。此时，残留于基板上的有机溶剂超过已设定的范围的情况，有机溶剂作用为颗粒而污染周围装置。与此不同地，有机溶剂少于已设定的范围的情况，由于图案的倾斜现象会产生工艺不良。另外，通常使用的有机溶剂由挥发性强的物质提供,在基板搬运过程中，部分可能会挥发。
4、因此，实情是需要一种基板处理系统，通过测量搬进清洗腔室之前基板的重量和从清洗腔室搬出后基板的重量来精确地测量有机溶剂在基板上的涂布量。
5、前述的
技术介绍
是专利技术人在导出本申请的公开内容的过程中拥有或掌握的，并不一定是在本申请前向一般公众公开的公知技术。
技术实现思路
1、根据一个实施例的目的在于提供一种基板处理系统，其能够测量从缓冲部搬出基板之前缓冲部的重量。
2、根据一个实施例的目的在于提供一种基板处理系统，其
3、根据一个实施例的目的在于提供一种基板处理系统，其能够判断基板被搬进清洗腔室之前基板的重量。
4、根据一个实施例的目的在于提供一种基板处理系统，其能够测量基板被搬出清洗腔室之后基板的重量。
5、根据一个实施例的目的在于提供一种基板处理系统，其能够判断在清洗腔室涂布于基板的流体的涂布量。
6、根据一个实施例的目的在于提供一种基板处理系统，当涂布于基板的流体的涂布量不包含在指定范围内时，将基板重新搬进清洗腔室。
7、根据一个实施例的目的在于提供一种基板处理系统，当涂布于基板的流体的涂布量包含在指定范围内时，将基板搬进干燥腔室。
8、根据一个实施例的基板处理系统可包括：缓冲部，其用于保管至少一个基板；第一传感器部，其用于感知缓冲部的重量；搬运机器人，其用于从缓冲部搬出基板；以及控制部，其利用从缓冲部搬出基板前第一传感器部感知的重量及从缓冲部搬出基板后第一传感器部感知的重量，对从缓冲部搬出的基板的重量进行判断。
9、根据一个实施例的基板处理系统还包括清洗腔室，其用于向基板涂布流体，控制部可以控制搬运机器人将从缓冲部搬出的基板搬进清洗腔室。
10、根据一个实施例的基板处理系统，控制部在基板被搬进清洗腔室后，可以控制清洗腔室向基板涂布流体。
11、根据一个实施例的基板处理系统，控制部在流体涂布于基板后，可以控制搬运机器人将基板从清洗腔室搬出。
12、根据一个实施例的基板处理系统还可包括第二传感器部，其用于对从清洗腔室搬出的基板的重量进行感知。
13、根据一个实施例的基板处理系统，控制部可以利用第二传感器部感知的重量及从缓冲部搬出的基板的重量对在清洗腔室涂布于基板的流体的涂布量进行判断。
14、根据一个实施例的基板处理系统，涂布量不包含在指定范围内的情况，控制部可以控制搬运机器人将基板重新搬进清洗腔室。
15、根据一个实施例的基板处理系统，还包括干燥腔室，其用于使得涂布于基板的流体干燥，涂布量包含在指定范围内的情况，控制部可以控制搬运机器人将基板搬进干燥腔室。
16、根据一个实施例的基板处理系统，控制部在基板被搬进干燥腔室后，可以控制在干燥腔室对涂布的流体进行干燥。
17、根据一个实施例的基板处理系统，涂布于基板的流体可以是有机溶剂。
18、根据一个实施例的基板处理系统，缓冲部可以以沿缓冲部的高度方向叠层的方式保管基板。
19、根据一个实施例的基板处理系统，缓冲部可以以使得配置多个的基板彼此上下间隔开的形式保管配置多个的基板。
20、根据一个实施例的基板处理系统，搬运机器人包括夹持部，其能够支撑基板的下面，夹持部插入保管在缓冲部中的配置多个的基板之间的缝隙，能够夹持基板。
21、根据一个实施例的基板处理系统可以向基板涂布适量的有机溶剂。
22、根据一个实施例的基板处理系统可以防止从清洗腔室搬出的基板的图案崩溃。
23、根据一个实施例的基板处理系统可以防止因为干燥腔室的干燥不良导致产生颗粒及倾斜问题。
24、根据一个实施例的基板处理系统的效果不限于上面提及的，一般的技术人员可通过下面的记载明确地理解没有提及的其他效果。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种基板处理系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，
3.根据权利要求2所述的基板处理系统，其特征在于，
4.根据权利要求3所述的基板处理系统，其特征在于，
5.根据权利要求4所述的基板处理系统，其特征在于，
6.根据权利要求5所述的基板处理系统，其特征在于，
7.根据权利要求6所述的基板处理系统，其特征在于，
8.根据权利要求6所述的基板处理系统，其特征在于，
9.根据权利要求8所述的基板处理系统，其特征在于，
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12.根据权利要求11所述的基板处理系统，其特征在于，
13.根据权利要求12所述的基板处理系统，其特征在于，
【技术特征摘要】
1.一种基板处理系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，
3.根据权利要求2所述的基板处理系统，其特征在于，
4.根据权利要求3所述的基板处理系统，其特征在于，
5.根据权利要求4所述的基板处理系统，其特征在于，
6.根据权利要求5所述的基板处理系统，其特征在于，
7.根据权利要求6所述的基板处理系统...
【专利技术属性】
技术研发人员：金炯剟，郑有善，
申请(专利权)人：凯斯科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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