【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及真空镀膜设备，具体涉及一种真空镀膜装置。
技术介绍
1、真空镀膜设备的核心部分包括镀膜腔室、旋转架和靶材，旋转架安装在镀膜腔室中，靶材位于镀膜腔室侧壁上，其中，旋转架一般安装多块矩形挂板用于放置基片，多块矩形挂板环绕旋转架均匀间隔布置拼接成类似多边形筒状结构，各矩形挂板上放置基片后也呈似多边形筒状结构。为提高镀膜效率，通常设置多组环绕旋转架的转动轴线依次布置的靶材，以同时对相邻的多块矩形挂板上的基片进行镀膜，多组依次布置的靶材中位于最外侧的两组板材的外侧与放置在矩形挂板上基片之间的空隙直接与镀膜腔室相通，与其他位置处的气流平衡性不一致，在镀膜时会导致膜层厚度不一致，影响镀膜的均匀性。
技术实现思路
1、本专利技术要解决的技术问题是克服现有技术存在的不足，提供一种可提高镀膜均匀性，且结构简单、易于实施应用、实施成本低的真空镀膜装置。
2、为解决上述技术问题，本专利技术采用以下技术方案：
3、一种真空镀膜装置，包括安装在镀膜腔室内的旋转架和安装在镀膜腔室侧壁上的三组以上靶材，三组以上靶材环绕所述旋转架的转动轴线依次布置，所述旋转架上安装有多块用于放置基片的矩形挂板，多块矩形挂板环绕所述旋转架的转动轴线均匀间隔布置，三组以上靶材中位于最外侧两组靶材的外侧与放置在矩形挂板上基片之间的空隙为外侧空隙，所述旋转架上安装有将所述外侧空隙部分封堵的封堵件。
4、作为上述技术方案的进一步改进：
5、所述封堵件包括自所述外侧空隙绕旋转架的转
6、所述封堵件还包括固接于所述弧形板端部的连接平板，所述连接平板通过紧固件与镀膜腔室侧壁连接。
7、每组靶材均对应设有两块导板，两块导板连接于所述镀膜腔室侧壁上形成一具有朝向旋转架的开口的凹腔，各组靶材位于对应凹腔内，所述封堵件的端部位于最外侧两组靶材的外侧导板与放置在矩形挂板上的基片之间。
8、各导板靠近旋转架的一端具有向凹腔内侧弯折延伸的弯折部。
9、与现有技术相比，本专利技术的优点在于：
10、本专利技术的真空镀膜装置在旋转架上设有封堵件，封堵件将最外侧两组靶材的外侧与放置在矩形挂板上基片之间的空隙(外侧空隙)的至少部分封堵，可提高最外侧两组靶材处的气流平衡性，从而增加镀膜均匀性。该真空镀膜装置还具有结构简单、易于实施应用、实施成本低的优点。
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1.一种真空镀膜装置，包括安装在镀膜腔室内的旋转架(1)和安装在镀膜腔室侧壁上的三组以上靶材(2)，三组以上靶材(2)环绕所述旋转架(1)的转动轴线依次布置，所述旋转架(1)上安装有多块用于放置基片(100)的矩形挂板(3)，多块矩形挂板(3)环绕所述旋转架(1)的转动轴线均匀间隔布置，其特征在于：三组以上靶材(2)中位于最外侧两组靶材(2)的外侧与放置在矩形挂板(3)上基片(100)之间的空隙为外侧空隙，所述旋转架(1)上安装有将所述外侧空隙部分封堵的封堵件(4)。
2.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于：所述封堵件(4)包括自所述外侧空隙绕旋转架(1)的转动轴线延伸的弧形板(41)。
3.根据权利要求2所述的真空镀膜装置，其特征在于：所述封堵件(4)还包括固接于所述弧形板(41)端部的连接平板(42)，所述连接平板(42)通过紧固件与镀膜腔室侧壁连接。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的真空镀膜装置，其特征在于：每组靶材(2)均对应设有两块导板(5)，两块导板(5)连接于所述镀膜腔室侧壁上形成一具有朝向旋转架(1)的开口的凹腔，
5.根据权利要求4所述的真空镀膜装置，其特征在于：各导板(5)靠近旋转架(1)的一端具有向凹腔内侧弯折延伸的弯折部(51)。
...【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜装置，包括安装在镀膜腔室内的旋转架(1)和安装在镀膜腔室侧壁上的三组以上靶材(2)，三组以上靶材(2)环绕所述旋转架(1)的转动轴线依次布置，所述旋转架(1)上安装有多块用于放置基片(100)的矩形挂板(3)，多块矩形挂板(3)环绕所述旋转架(1)的转动轴线均匀间隔布置，其特征在于：三组以上靶材(2)中位于最外侧两组靶材(2)的外侧与放置在矩形挂板(3)上基片(100)之间的空隙为外侧空隙，所述旋转架(1)上安装有将所述外侧空隙部分封堵的封堵件(4)。
2.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于：所述封堵件(4)包括自所述外侧空隙绕旋转架(1)的转动轴线延伸的弧形板(41)。
3.根...
【专利技术属性】
技术研发人员：祝海生，梁红，孙桂红，陈立，黄国兴，李俊杰，李新栓，寇立，薛闯，桂丹，刘柏桢，黄乐，
申请(专利权)人：湘潭宏大真空技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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