【技术实现步骤摘要】
本申请涉及等离子处理装置，尤其是涉及一种等离子处理装置的等离子释放控制方法及系统。
技术介绍
1、等离子处理设备（箱式结构类），目前被较多的应用于对各类零部件和产品的表面进行清理、改性等。等离子处理设备主要由真空系统、离子体系统组成，其中，等离子系统又由等离子发生器、等离子体室（处理腔体）和电源组成。
2、因为等离子体的产生通过放电得到，所以等离子处理设备工作时始终处于较高的耗能状态，且因为目前的等离子处理设备多为各电极统一上电，所以即便是演示、测试等场景，等离子室中只有少量待处理物（如：汽车内饰件）时，等离子处理设备依据满功率运行，导致能耗浪费，因此本申请提出一种新的技术方案。
技术实现思路
1、为了减小等离子处理设备使用过程中的能耗浪费，本申请提供一种等离子处理装置的等离子释放控制方法及系统。
2、第一方面，本申请提供一种等离子处理装置的等离子释放控制方法，采用如下的技术方案：
3、一种等离子处理装置的等离子释放控制方法，包括：
4、获取等离子室中各个待处理物的位置信息和图像信息，并基于图像信息调用三维模型，得到俯视/仰视轮廓尺寸信息；
5、结合预建立的等离子室三维模型和三维坐标系进行待处理物仿真呈现，并评估空间占比；
6、根据待处理物的位置信息和俯视/仰视轮廓尺寸信息，控制与之位置关系、等离子处理关系符合预设的匹配条件的若干个电极进行上电；
7、根据空间占查找预设的占比与电压/电流关系表，得到
8、可选的，所述基于图像信息调用三维模型，得到俯视/仰视轮廓尺寸信息，其包括：
9、对图像进行识别，查找预设的产品数据库，得到待处理物的品名和三维模型；其中，所述三维模型用于进行待处理物仿真呈现；
10、基于当前的图像，调整三维模型的姿态；
11、对当前姿态的三维模型取俯视/仰视图，并得到对应的轮廓尺寸信息。
12、可选的，所述基于图像信息调用三维模型，得到俯视/仰视轮廓尺寸信息，其还包括：
13、当查找产品数据库，得到两个或两个以上的品名，则获取当前待处理物的图像采集高度；
14、根据图像采集高度进行同系列不同规格辨识，确定最匹配的品名；
15、根据品名调用对应的三维模型。
16、可选的，包括：当空间占比小于预设的下限阈值时，令多个预设置且分布于待处理物周侧、上方、下方的电磁发生单元开启。
17、可选的，包括：根据所述空间占比大小调节电磁发生单元的电流大小且空间占比越小，电磁发生单元的电流越大。
18、第二方面，本申请提供一种等离子处理装置的等离子释放控制系统，采用如下的技术方案：
19、一种等离子处理装置的等离子释放控制系统，包括控制器，所述控制器用于加载并执行实施如上述任一所述的等离子处理装置的等离子释放控制方法的计算机程序。
20、可选的，所述控制器电连接有摄像头和测距传感器，所述摄像头和测距传感器均设置于离子室的开口侧的上部外沿；等离子室的上部外沿安装直线电机，所述测距传感器安装于直线电机上，所述直线电机的驱动方向平行于离子室的开口宽度方向且用于在离子室的门打开时带动测距传感器进行往复移动。
21、可选的，所述控制器电连接电磁发生单元，且电磁发生单元包括绝缘座、铁芯和金属导线，所述绝缘座固定于待处理物的上方或下放，所述铁芯横向且内置于绝缘座，所述金属导线螺旋缠绕于铁芯且横向延伸出绝缘座并以绝缘套包覆，所述金属导线电连接于控制装置。
22、综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：可以针对待处理物的位置、尺寸调整工作的电极，并调整对应的电压/电流大小，从而可减小等离子处理设备使用过程中的能耗浪费。
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1.一种等离子处理装置的等离子释放控制方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的等离子处理装置的等离子释放控制方法，其特征在于，所述基于图像信息调用三维模型，得到俯视/仰视轮廓尺寸信息，其包括：
3.根据权利要求2所述的等离子处理装置的等离子释放控制方法，其特征在于，所述基于图像信息调用三维模型，得到俯视/仰视轮廓尺寸信息，其还包括：
4.根据权利要求1所述的等离子处理装置的等离子释放控制方法，其特征在于，包括：当空间占比小于预设的下限阈值时，令多个预设置且分布于待处理物周侧、上方、下方的电磁发生单元（1）开启。
5.根据权利要求4所述的等离子处理装置的等离子释放控制方法，其特征在于，包括：根据所述空间占比大小调节电磁发生单元（1）的电流大小且空间占比越小，电磁发生单元（1）的电流越大。
6.一种等离子处理装置的等离子释放控制系统，其特征在于：包括控制器（4），所述控制器（4）用于加载并执行实施如权利要求1-5任一所述的等离子处理装置的等离子释放控制方法的计算机程序。
7.根据权利要求6所述的等离子处
8.根据权利要求6所述的等离子处理装置的等离子释放控制系统，其特征在于：所述控制器（4）电连接电磁发生单元（1），且电磁发生单元（1）包括绝缘座、铁芯（2）和金属导线（3），所述绝缘座固定于待处理物的上方或下放，所述铁芯（2）横向且内置于绝缘座，所述金属导线（3）螺旋缠绕于铁芯（2）且横向延伸出绝缘座并以绝缘套包覆，所述金属导线（3）电连接于控制装置。
...【技术特征摘要】
1.一种等离子处理装置的等离子释放控制方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的等离子处理装置的等离子释放控制方法，其特征在于，所述基于图像信息调用三维模型，得到俯视/仰视轮廓尺寸信息，其包括：
3.根据权利要求2所述的等离子处理装置的等离子释放控制方法，其特征在于，所述基于图像信息调用三维模型，得到俯视/仰视轮廓尺寸信息，其还包括：
4.根据权利要求1所述的等离子处理装置的等离子释放控制方法，其特征在于，包括：当空间占比小于预设的下限阈值时，令多个预设置且分布于待处理物周侧、上方、下方的电磁发生单元（1）开启。
5.根据权利要求4所述的等离子处理装置的等离子释放控制方法，其特征在于，包括：根据所述空间占比大小调节电磁发生单元（1）的电流大小且空间占比越小，电磁发生单元（1）的电流越大。
6.一种等离子处理装置的等离子释放控制系统，其特征在于：包括控制器（4），所述控制器（4）用于...
【专利技术属性】
技术研发人员：欧阳军，刘华光，
申请(专利权)人：深圳市奥普斯等离子体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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