【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开涉及叠对计量，且更特定来说，涉及扫描叠对计量。
技术介绍
1、对更小半导体装置日益增长的需求导致对精确及高效计量的对应增加的需求。一种增加计量工具的效率及处理量的方法是在样本运动时而非在测量视场中的静态位置中在样本上产生计量数据。以此方式，可消除或减少与在测量之前的平移载物台的安定相关联的时间延迟。然而，增加此类测量的灵敏度及处理量仍然是此类扫描计量方法的主要挑战。因此，期望提供用于解决上述缺点的系统及方法。
技术实现思路
1、根据一或多个说明性实施例公开一种叠对计量系统。在一个说明性实施例中，所述系统包含照明源。在另一说明性实施例中，所述系统包含照明子系统，所述照明子系统具有一或多个照明光学器件以根据测量配方在样本相对于来自所述照明源的照明运动时，用来自所述照明源的所述照明照射所述样本上的叠对目标。在另一说明性实施例中，根据所述测量配方，所述叠对目标包含一或多个胞元，其中所述胞元中的至少一些包含双光栅，所述双光栅具有沿着测量方向在重叠区中以第一节距及第二节距分布的第一系列特征，且进一步包含单光栅，所述单光栅具有沿着所述测量方向以所述第一节距分布的第二系列特征。在另一说明性实施例中，所述系统包含收集子系统，其具有一或多个收集光学器件以根据所述测量配方将由与所述第一及第二节距相关联的所述双光栅及所述单光栅两者的照明的正及负一级衍射引导到定位于光瞳平面中的一或多个检测器，其中所述一或多个检测器产生与由所述双光栅及所述单光栅两者的所述照明的所述正及负一级衍射相关联的时变干涉信号。在
2、根据一或多个说明性实施例公开一种叠对目标。在一个说明性实施例中，目标包含样本上的一或多个胞元，其中所述胞元中的至少一些包含双光栅，所述双光栅具有沿着测量方向在重叠区中以第一节距及第二节距分布的第一系列特征，且进一步包含位于所述样本的第二层上的单光栅，所述单光栅具有沿着测量方向以所述第一节距分布的第二系列特征。在另一说明性实施例中，选择所述第一及第二节距，使得对于至少一个操作波长，来自所述第一及第二节距的正一级衍射在第一重叠角区中重叠，且来自所述第一及第二节距的负一级衍射在第二重叠角区中重叠。在另一说明性实施例中，当相对于照明光束扫描所述叠对目标时产生的在所述第一及第二重叠区中的时变干涉信号指示所述双光栅与所述单光栅之间的叠对。
3、根据一或多个说明性实施例公开一种叠对计量系统。在一个说明性实施例中，所述系统包含照明源。在另一说明性实施例中，所述系统包含照明子系统，所述照明子系统具有一或多个照明光学器件以根据测量配方在样本相对于来自所述照明源的照明运动时，用来自所述照明源的所述照明照射所述样本上的叠对目标。在另一说明性实施例中，根据所述测量配方，所述叠对目标包含一或多个胞元，其中所述胞元中的至少一些包含在所述样本的第一层上的第一光栅，所述第一光栅具有沿着测量方向以第一节距分布的第一系列特征，及在所述样本的第二层上的第二光栅，所述第二光栅具有沿着所述测量方向以不同于所述第一节距的第二节距分布的第二系列特征。在另一说明性实施例中，所述系统包含收集子系统，其具有一或多个收集光学器件以根据所述测量配方将测量衍射级引导到光瞳平面处的一或多个检测器，其中所述测量衍射级包含由所述第一光栅的照明的正及负一级衍射，及由所述第二光栅的照明的正及负一级衍射及二级衍射。在另一说明性实施例中，所述系统包含控制器以基于所述测量衍射级确定所述样本的所述第一与第二层之间的叠对测量。
4、根据一或多个说明性实施例公开一种叠对目标。在一个说明性实施例中，所述目标包含样本上的一或多个胞元，其中所述胞元中的至少一些包含在所述样本的第一层上的第一光栅，所述第一光栅包含沿着测量方向以第一节距分布的第一系列特征，及在所述样本的第二层上的第二光栅，所述第二光栅包含沿着所述测量方向以不同于所述第一节距的第二节距分布的第二系列特征。在另一说明性实施例中，选择所述第一及第二节距，使得在第一组重叠区中，来自所述第一光栅的正一级衍射与来自所述第二光栅的正一及二级衍射重叠，其中在第二组重叠区中，来自所述第一光栅的负一级衍射与来自所述第二光栅的负一及二级衍射重叠。在另一说明性实施例中，所述第一及第二组重叠区中的时变干涉信号指示所述样本的所述第一与第二层之间的叠对。
5、应理解，前文概述及以下详细描述两者仅为示范性及说明性且不一定限制本专利技术。并入本说明书中且构成本说明书的部分的附图说明本专利技术的实施例且与概述一起用于说明本专利技术的原理。
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1.一种叠对计量系统，其包括：
2.根据权利要求1所述的叠对计量系统，其中所述双光栅及所述单光栅在所述样本上重叠。
3.根据权利要求1所述的叠对计量系统，其中所述双光栅及所述单光栅定位于所述样本的相邻非重叠区中。
4.根据权利要求1所述的叠对计量系统，其中所述双光栅及所述单光栅定位于所述样本的不同层中。
5.根据权利要求1所述的叠对计量系统，其中所述双光栅及所述单光栅定位于所述样本的共同层中。
6.根据权利要求1所述的叠对计量系统，其中与所述第一及第二节距相关联的所述正一级衍射在所述光瞳平面处的第一重叠区中重叠，其中与所述第一及第二节距相关联的所述负一级衍射在所述光瞳平面处的第二重叠区中重叠，其中基于由与所述第一及第二节距相关联的所述双光栅及所述单光栅的所述照明的所述正及负一级衍射确定所述样本的所述第一与第二层之间的所述叠对测量包括：
7.根据权利要求1所述的叠对计量系统，其中在单个曝光步骤中制造所述双光栅。
8.一种叠对目标，其包括：
9.根据权利要求8所述的叠对目标，其中在单个曝光
10.根据权利要求8所述的叠对目标，其中在所述第二层之前制造所述第一层。
11.根据权利要求8所述的叠对目标，其中在所述第二层之后制造所述第一层。
12.根据权利要求8所述的叠对目标，其中所述双光栅及所述单光栅定位于所述样本的不同层中。
13.根据权利要求8所述的叠对目标，其中所述双光栅及所述单光栅定位于所述样本的共同层中。
14.一种叠对计量系统，其包含：
15.根据权利要求14所述的叠对计量系统，其中在第一组重叠区中，来自所述第一光栅的所述正一级衍射与来自所述第二光栅的所述正一级及二级衍射重叠，其中在第二组重叠区中，来自所述第一光栅的所述负一级衍射与来自所述第二光栅的所述负一级及二级衍射重叠，其中基于所述测量衍射级确定所述样本的所述第一与第二层之间的所述叠对测量包括：
16.根据权利要求14所述的叠对计量系统，其中所述双光栅及所述单光栅在所述样本上重叠。
17.根据权利要求14所述的叠对计量系统，其中所述双光栅及所述单光栅定位于所述样本的相邻非重叠区中。
18.根据权利要求14所述的叠对计量系统，其中在所述第二层之前制造所述第一层。
19.根据权利要求14所述的叠对计量系统，其中在所述第二层之后制造所述第一层。
20.一种叠对目标，其包括：
21.根据权利要求20所述的叠对目标，其中在所述第二层之前制造所述第一层。
22.根据权利要求20所述的叠对目标，其中在所述第二层之后制造所述第一层。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种叠对计量系统，其包括：
2.根据权利要求1所述的叠对计量系统，其中所述双光栅及所述单光栅在所述样本上重叠。
3.根据权利要求1所述的叠对计量系统，其中所述双光栅及所述单光栅定位于所述样本的相邻非重叠区中。
4.根据权利要求1所述的叠对计量系统，其中所述双光栅及所述单光栅定位于所述样本的不同层中。
5.根据权利要求1所述的叠对计量系统，其中所述双光栅及所述单光栅定位于所述样本的共同层中。
6.根据权利要求1所述的叠对计量系统，其中与所述第一及第二节距相关联的所述正一级衍射在所述光瞳平面处的第一重叠区中重叠，其中与所述第一及第二节距相关联的所述负一级衍射在所述光瞳平面处的第二重叠区中重叠，其中基于由与所述第一及第二节距相关联的所述双光栅及所述单光栅的所述照明的所述正及负一级衍射确定所述样本的所述第一与第二层之间的所述叠对测量包括：
7.根据权利要求1所述的叠对计量系统，其中在单个曝光步骤中制造所述双光栅。
8.一种叠对目标，其包括：
9.根据权利要求8所述的叠对目标，其中在单个曝光步骤中制造所述双光栅。
10.根据权利要求8所述的叠对目标，其中在所述第二层之前制造所述第一层。
11.根据权利要求8所述的叠对目标，其中在所述第二层之后制造所述第一层。
【专利技术属性】
技术研发人员：Y·卢巴舍夫斯基，I·戈多尔，D·内格里，E·哈贾，
申请(专利权)人：科磊股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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