【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种刷子及具备所述刷子的衬底处理装置以及刷子的推压力控制方法，所述刷子在对半导体衬底、液晶显示用或有机el(electroluminescence：电致发光)显示装置等fpd(flat panel display：平板显示器)用衬底、光罩用玻璃衬底、光盘用衬底等衬底进行洗净处理时作用于衬底。
技术介绍
1、以往，作为这种装置，存在具备旋转保持部、喷嘴、刷子、重量传感器及洗净臂的装置(例如，参考专利文献1)。旋转保持部保持衬底，使衬底在水平面内旋转。喷嘴对衬底的上表面供给洗净液。洗净臂在前端部具备刷子，使刷子绕铅直轴旋转。洗净臂以基端部为轴使刷子在衬底的上表面上摆动。此时，通过洗净臂内置的推压机构，对刷子施加目标载荷而进行洗净。重量传感器内置于刷子中。重量传感器检测刷子的推压力。由此，以刷子的推压力成为目标载荷的方式操作推压机构。
2、[
技术介绍
文献]
3、[专利文献]
4、[专利文献1]
5、日本专利特开2010-40943号公报
技术实现思路
1、[专利技术所要解决的问题]
2、然而，在具有这种构成的以往例的情况下，存在如下问题。
3、且说，在衬底中，经由包含各种热处理的工艺形成器件。在所述过程中，有因面方向上的热膨胀率产生差异等主要原因，而衬底的周缘部相对于中央部朝一面侧翘曲的情况。如果以刷子对如此翘曲的衬底进行洗净，那么在衬底的中央部与周缘部中清洁度会产生差异。也就是说，在衬底的径向上清洁度
4、在衬底的中央部，刷子的下表面全体作用于衬底面。另一方面，在衬底的周缘部中，由于衬底面倾斜，所以仅刷子的下表面的一部分作用于衬底面。也就是说，周缘部中的刷子的接触面积小于中央部中的刷子的接触面积。因此，在利用重量传感器以刷子的推压力成为目标载荷的方式操作推压机构时，每单位面积的载荷在周缘部中大于中央部。换句话说，从衬底面观察的情况下，刷子本体作用的力越靠周缘部而越大。从衬底面观察的情况下，由刷子本体作用的力在衬底的径向上产生差异。
5、结果，以往的装置具有在衬底的径向上微粒的去除率产生差异的问题。换句话说，清洁度在衬底的面内不均一。另外，当刷子的接触面积较小时，每单位面积的载荷会过剩。因此，还产生刷子的损伤加剧，而刷子能使用的时间(刷子寿命)变短的不同的问题。
6、本专利技术是鉴于此种事情而完成的，目的在于提供能通过考虑刷子的面内的压力分布，而提高衬底的面内的清洁度的均一性的刷子及具备所述刷子的衬底处理装置以及刷子的推压力控制方法。
7、[解决问题的技术手段]
8、本专利技术为了达成此种目的，而采用如下构成。
9、也就是说，技术方案1所记载的专利技术是一种刷子，其进行针对衬底的洗净处理，且特征在于具备：刷子本体，作用于衬底；刷座，安装所述刷子本体；及面内压力分布检测部，配置在所述刷子本体与所述刷座之间，检测对所述刷子本体的压力，且检测作用于衬底的所述刷子本体的面内的压力分布。
10、[作用、效果]根据技术方案1所记载的专利技术，通过面内压力分布检测部检测刷子本体的面内的压力分布。由此，能判断刷子本体是否不均匀地作用于衬底面。而且，能将所述判断结果用于调整刷子本体对衬底面的推压力。
11、另外，技术方案2所记载的专利技术是一种衬底处理装置，其使刷子作用于衬底而进行洗净处理，且特征在于具备：旋转保持部，将衬底以水平姿势保持，且使衬底旋转；刷子，作用于保持在所述旋转保持部的衬底的上表面，且具备作用于衬底的刷子本体、及安装所述刷子本体的刷座；洗净臂，在前端部具备所述刷子，使所述刷子在保持于所述旋转保持部的衬底的旋转中心与周缘部之间，在衬底的径向移动；推压机构，以推压力将所述刷子朝向衬底弹推；面内压力分布检测部，配置在所述刷子本体与所述刷座之间，检测对所述刷子本体的压力，且检测作用于衬底的所述刷子本体的面内的压力分布；及控制部，以基于所述压力分布，根据衬底的径向上的所述刷子的位置，通过所述推压机构调整所述推压力的方式进行控制。
12、[作用、效果]根据技术方案2所记载的专利技术，控制部以基于面内压力分布检测部的压力分布，根据衬底的径向上的刷子的位置，通过推压机构调整推压力的方式进行控制。由此，即便刷子本体根据径向上的刷子的位置而不均匀地作用，也能无关于刷子的位置，使从衬底面观察到的由刷子本体作用的力几乎均等。因此，能提高衬底的面内的清洁度的均一性。
13、另外，本专利技术中，优选为所述控制部以使由所述刷子施加到衬底的每单位面积的载荷在衬底的径向上固定的方式，调整所述推压力(技术方案3)。
14、以使施加到衬底的每单位面积的载荷在衬底的径向上固定的方式调整推压力。因此，能无关于刷子的位置，使从衬底面观察到的由刷子本体作用的力几乎均等。
15、另外，本专利技术中，优选为所述控制部将所述压力分布中为几乎相同的压力的面积设为同压面积，将所述刷子位于衬底的中央时的同压面积设为基准同压面积，且在所述同压面积相较于所述基准同压面积减少的情况下，操作所述推压机构，根据所述同压面积的减少程度而减少对所述刷子的推压力(技术方案4)。
16、在同压面积相较于基准同压面积减少的情况，表示刷子本体作用于衬底面的面积(接触面积)减少。这表示每单位面积的载荷变大。因此，操作推压机构，根据同压面积的减少程度而减少对刷子的推压力。由此，能无关于刷子的位置，使从衬底面观察到的由刷子本体作用的力几乎均等。
17、另外，本专利技术中，优选为所述控制部在所述基准同压面积低于规定值的情况下，判断为所述刷子本体未正常安装在所述刷座(技术方案5)。
18、如果刷子本体以倾斜的姿势错误地安装于刷座，那么衬底的中央的基准同压面积低于规定值。因此，控制部能判断为刷子本体未正常安装。由此，由于能判断为无法正常地进行洗净，所以能进行停止处理等对策。
19、另外，本专利技术中，优选为所述控制部进一步调整所述旋转保持部的衬底的旋转速度、所述刷子的自转速度、及所述洗净臂的移动速度中的至少任一个(技术方案6)。
20、除了通过推压机构调整推压外，还进一步调整旋转保持部的衬底的旋转速度、刷子的自转速度、及洗净臂的移动速度中的至少一个。因此，能抑制只靠调整推压而无法完全调整的清洁度的不均一度。
21、另外，技术方案7所记载的专利技术是一种刷子的推压力控制方法，所述方法通过具备作用于衬底的刷子本体及安装所述刷子本体的刷座的刷子、及在前端部具备所述刷子，且能在基端部移动的洗净臂，对所述刷子施加推压力使之在衬底的中心与周缘部之间移动而将衬底洗净；且特征在于实施以下过程：压力分布检测过程，检测作用于衬底的所述刷子本体的面内的压力分布；及推压力调整过程，基于所述压力分布，根据衬底的径向上的所述刷子的位置，调整所述推压力。
22、[作用、效果]根据技术方案7所记载的专利技术，在压力分布检测过程中，检测刷子本体的面内的压力分布。在推压力调整本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种刷子，对衬底进行洗净处理，且特征在于具备：
2.一种衬底处理装置，使刷子作用于衬底而进行洗净处理，且特征在于具备：
3.根据权利要求2所述的衬底处理装置，其中
4.根据权利要求2所述的衬底处理装置，其中
5.根据权利要求4所述的衬底处理装置，其中
6.根据权利要求2到5中任一权利要求所述的衬底处理装置，其中
7.一种刷子的推压力控制方法，通过具备作用于衬底的刷子本体及安装所述刷子本体的刷座的刷子、及在前端部具备所述刷子，且能在基端部移动的洗净臂，对所述刷子施加推压力使之在衬底的中心与周缘部之间移动而将衬底洗净；且特征在于实施以下过程：
【技术特征摘要】
1.一种刷子，对衬底进行洗净处理，且特征在于具备：
2.一种衬底处理装置，使刷子作用于衬底而进行洗净处理，且特征在于具备：
3.根据权利要求2所述的衬底处理装置，其中
4.根据权利要求2所述的衬底处理装置，其中
5.根据权利要求4所述的衬底处理装置，其中
...【专利技术属性】
技术研发人员：安武阳介，石川道明，大野拓也，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：
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