本实用新型专利技术公开了一种单腔双线式真空装置，可传送一个加工物件前进，并包括：一个具有一腔室的基座、一个将该基座的腔室区隔成一第一通道及一第二通道的冷却区隔单元、两个分别安装在该腔室的第一及第二通道内并且将加工物件由一入口端往一出口端传送的输送机构，以及一个架设在该基座旁并将加工物件由第一通道移送到第二通道的连接机构。借在腔室内架设具有区隔及冷却功能的冷却区隔单元，除了可以将腔室区隔成两条平行的通道，以缩小装置的体积及摆放空间外，还可以降低加工时的制程高温，使真空装置的各项加工顺畅进行。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
单腔双线式真空装置絲领域本技术涉及一种真空装置，特别是涉及一种具有两条并排的加工通道的单 腔双线式真空装置。背景駄在半导体、电机电子与光电产业中，许多制程都需要经过多道镀膜步骤来形成 多种不同材质的願。为了使加工能够一贯化作业，申请人曾申请如图1所示的折 合式真空^gl，该真空，l包括 一个第一基座ll、 一个和第一基座ll平行间隔的第二基座12、两条用来平移输送加工物件的输送机构13、 一个耙材单元14，以 及一，接第一基座11及第:i^座12的连接机构15。其中，一基座11具有一个 界定出一长条形通道111的腔壁112，该腔壁112具有一个内壁部113、 一个外壁部 114，以及数个设在内壁部113财卜壁部114间并受控制可打开或关闭的阀门115， 而该逝直111具有一个^ffii接机构15的出口端116，以及一个和出口端116间隔 的入口端117。織二基座12的构造和第一基座11相同，因此也具有一1 1121， 该通道121则是具有一个S3ffii接机构15的入口端122，以及一个和入口端122间 隔的出口端123。又戶诚输送机构13分别安装在第一基座11及第1座12的fflit 111、 121内， 并且将加工物件由入口端117、 122往出口端116、 123移送。该革巴材单元14是具有 数个等距离地安装在第一基座11及第Z^座12上的耙材141。而该连接机构15包 括一个靠近第一基座11的出口端116的第一回转件151、 一个靠近第^^座12的入 口端122的第二回转{牛152、一，接第一回转件151及第二回转件152的连接腔体 153、 一个设在该连接腔体153内部的i^接输送《牛154，以及一个设在ii接腔体153 上的耙材155。^^时例如 等等的加工物件是由第一基座11的入口端ii7aAil道m内， 并逐^iMilM耙材141进行各项加工。当加工物件通过第一回转件151时将旋 转90度，然后借由连接输送件154的传送移到第二回转件152，最后再旋转90度后 送入第^S座12的通道121。相同道理，借由安驗第:r^座12内的输送机构13的传送，加工物^^M渐地由第:iS座12的入口端122往出口端123移送，并完成 连续加工的作业。以往折合式真空装置1虽然可以利用连接机构15 ，接平行间隔的第一基座11 及第二基座12，但是该项设计必需禾鹏两个分开的腔体来各别界定出两条间隔的通 道111、 121，故雖来说不但体积庞大，也需要占据较大的摆放空间，在设计上不 太理想。
技术实现思路
本技术的目的是在提供一种可以縮小^f只及摆放空间的单腔双线式真空装置。本技术的单腔，式真空装置是用来移送一个加工物件，并且包括 一个 基座、两个传送机构，以及一个和基座并靠连接的连接机构，该基座包括一个界定出一腔室的腔壁，i^腔壁具有一第一壁部及一第二壁部。本技术的特征在于该真空装置还包括一个安装在该基座的腔室内并且将 该腔室分隔成一个靠近第一壁部的第一通道，以及一个,第二壁部的第二通道的 冷却区隔单元，战第一通道及第二通道都各别具有一个入口端及一个出口端，而 所述输送机构是分别安装在第一通道及第二通道内，并且将加工物件由入口端往出 口端移送，该连接机构是将由第一通道的出口端送出的加工物件移送到第二通道的 入口端。本技术的有益功效在于借在该基座的腔室内部架设具有区隔及冷却功能的冷却区隔单元，除了可以在腔室内区隔出第一通皿第:^i道，以縮小装置的体积及摆放空间外，该冷却区隔单元的设计，还可以降低加工时的制程高温，使真空 装置的各项加工顺申縱行。附图说明图1是中国台湾专利号数第M341704号技术的一个加工设备示意图； 图2是本技术真空装置的第一较佳实施例的俯视示意图； 图3是该第一较佳实施例的一个局部咅舰图，i^虫显示该真空體的一个冷却 隔座；及图4是一类似图2的俯视示意图，显示本技术真空装置的第二较佳实施例。以下结合附图及实施例对本技术进行详细说明在本技术被详细描述之前，要注意的是，在以下的说明内容中，类似的元 件是以相同的编号来表示。参阅图2、 3，本技术单腔双线式真空装置的第一较佳实施例是用来移送一 个加工物件，以便在该加工物件上进行各种的加工。上述真空體并包括 一條 矩形的基座2、 一个安装在该基座2内部的冷却区隔单元3、 一个安装在该基座2上 的耙材单元4、 一个第一输送机构5、 一个第二输送机构5'，以及一个和基座2并靠 连接的连接机构6。本实施例的基座2实际上是由数个左右并靠的箱体20靠接而成，并靠后该基座 2包括一个界定出一^:方形的腔室21的腔壁22，该腔壁22具有一个沿着长度方 向延伸的第一壁部221，以及一个和第一壁部221平行间隔的第二壁部222，该基座 2还包括数片间隔并垂直连接在第一壁部221及第二壁部222间的区隔壁23，針 区隔壁23都具有一个靠近第一壁部221的第一阀门231，以及一个^a第二壁部222 的第二阀门232，前述第一阀门231及第二阀门232并受到自动控制可以打开或者关 闭。本实施例的冷却区隔单元3包括数个分别架设在基座2上相对应的区隔壁23间 的糊隔座30，借由前述冷却隔座30的区隔，可以^^座2的腔室21区隔成一条 ,第一壁部221的第一通道211，以及一条W3fi第二壁部222的第:iffl道212。该 第一Mit211具有一个^ffii接机构6的出口端213，以及一个和出口端213间隔的 入口端214，而该第二通道212也是具有一个出口端215及一个入口端216，但第二 通道212的入口端216是,该连接机构6。本实施例的每个冷却隔座30都具有两片彼此平行并垂直于区隔壁23的侧板31 、 一，接^E^M侧板31间并和侧板31共同界定出一个冷却室32的连接围板33。该 连接围板33具有一个上壁部331、 一^h和上壁部331上下平行间隔的下壁部332， 以及两个和戶诚上壁部331及下壁部332连接并且和区隔壁23贴靠的侧壁部333、 334。又该7賴卩隔座30还具有数片由上壁部331往下延伸的第一隔板34、数片位在 两两第一隔板34间并由下壁部332往上突出的第二隔板35、 一*接该上壁部331 及下壁部332的支撑板36、 一支安驗上壁部331及下壁部332间并且誕侧壁部 333的入水管37，以及一支架设在该上壁部331及下壁部332间并且靠近侧壁部334的出水管38。旨第一隔板34到下壁部331间都具有一个第~31口341，而戶;M第 二隔板35和上壁部332间各别具有一个第，口 351 ，该支撑阪36具有数个^il 方的贯孔361，借此可将冷却室32分割成一条迂回的7jC道，该7jC道的起始端是靠近 该入水管37，而水道的终止端是靠近该出水管38，前^A水管37及出水管38上各 别设有数个通向7jC道的孑L洞，不再以图例说明。当冷却液由入水管37通入时，冷却液将由入水管37流入冷却室32，并且逐渐 地受到第一隔板34麟二隔板35的区隔，再以迂回的方式逐^fi也往图3的右侧流 动。当7夠液流到设置出水管38的终止端时，就会由出水管38流出，借雌至蜊 用冷却液的循环来冷却第一通道211及第二本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种单腔双线式真空装置，用来移送一个加工物件，并包括：一个基座、两个传送机构，以及一个和基座并靠连接的连接机构，该基座包括一个界定出一腔室的腔壁，上述腔壁具有一个第一壁部及一个第二壁部； 其特征在于：该真空装置还包括一个安装在该基座的腔室内并且将该腔室分隔成一个靠近第一壁部的第一通道，以及一个靠近第二壁部的第二通道的冷却区隔单元，上述第一通道及第二通道都各别具有一个入口端及一个出口端，而所述输送机构是分别安装在第一通道及第二通道内，并且将加工物件由入口端往出口端移送，该连接机构是将由第一通道的出口端送出的加工物件移送到第二通道的入口端。
【技术特征摘要】
1.一种单腔双线式真空装置，用来移送一个加工物件，并包括一个基座、两个传送机构，以及一个和基座并靠连接的连接机构，该基座包括一个界定出一腔室的腔壁，上述腔壁具有一个第一壁部及一个第二壁部；其特征在于该真空装置还包括一个安装在该基座的腔室内并且将该腔室分隔成一个靠近第一壁部的第一通道，以及一个靠近第二壁部的第二通道的冷却区隔单元，上述第一通道及第二通道都各别具有一个入口端及一个出口端，而所述输送机构是分别安装在第一通道及第二通道内，并且将加工物件由入口端往出口端移送，该连接机构是将由第一通道的出口端送出的加工物件移送到第二通道的入口端。2. 如权利要求l戶腿的单腔双线式真空體，其特征在于该基座还包括数愧接 在第一壁部及第二壁部间的区隔壁，而该冷却区隔单元包括数个架设在相对应 的区隔壁间的冷却隔座，所述区隔壁都具有两个分别位在冷却隔座相反侧的阀 门。3. 如权利要^2戶;M的单腔双线式真空装置，其特征在于上述冷却隔座都具有两片分别横向架设在基座的区隔壁间的侧板，以及一个围绕并连接侧板同时和侧 板共同界定出一个冷却室的连接围板，旨冷却...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄泳钊，郑博仁，
申请(专利权)人：北儒精密股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：71[中国|台湾]
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