一种平动抛光机构制造技术

技术编号:41196002 阅读:2 留言:0更新日期:2024-05-07 22:24
本技术公开了一种平动抛光机构,包括抛光板、固定架和可用于带动所述抛光板偏心旋转运动的偏心组件,所述抛光板与偏心组件相连,所述平动抛光机构还包括用于抑制阻止抛光板旋转运动趋势的止转组件,所述止转组件的一端固定于所述固定架上,止转组件的另一端与抛光板固定连接。本技术的平动抛光机构解决了现有旋转抛光时内外圈线速度不一致造成的抛光效果不同的缺点,极大的提高了抛光效率,并且频率稳定、可控,抛光纹路均匀、细腻,抛光效果更好。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及抛光,具体涉及一种物料表面抛光设备。


技术介绍

1、传统的抛光方式是通过抛光头高速旋转,对物体进行抛光,主要有同心抛光机构和偏心抛光机构两种结构。

2、同心抛光机构工作时,如果输出轴转速不变,同心轮上各点的线速度恒定,切削力强,能承受较大的抛光压力,但其缺点是抛光出的工件表面纹路较深且单一,后道工序去除不了前道工序的纹路,造成抛光工件良率低。

3、偏心抛光机构克服了同心抛光机构这一缺陷,抛光轮在作偏心转动(即绕抛光头输出轴中心的公转)的同时,本身还作自转运动,这种“自转”与“公转”的共同作用,使得抛光过程中会产生揉动效果,能有效地清除抛光留下抛光纹路痕迹,使得抛光出的工件较之同心抛光机构,表面纹路均匀、细化,提高了产品的抛光良率,但仍存在抛光轮自转时留下纹路。

4、如图1所示,现有偏心抛光机构6的连接件61安装在抛光头的输出轴上,偏心座62安装在连接件61上,偏心座62具有内腔,偏心轴63通过双列角接触球轴承64置于偏心座62的内腔,偏心轴63上再安装有抛光盘66。抛光工件时,偏心座62跟随输出轴一起转动,由于轴承内、外圈的摩擦力,抛光盘66作偏心转动(绕抛光头输出轴中心线的公转)的过程中还作自转运动。

5、现有的偏心抛光机构在工作时,抛光盘在工件表面作偏心旋转运动,由于抛光盘运动原理是偏心座跟随抛光头一起转动,偏心座上的轴承内、外圈产生的摩擦力带动耗材作偏心转动,实现耗材在绕抛光头输出轴中心线公转时还有自转运动。由于轴承的摩擦力比较小,在抛光盘空转无负载时,自转速度可以升得很高,而一旦抛光盘压上工件后,耗材与工件之间摩擦力,会远大于这个轴承的摩擦力,会使得抛光盘自转速度迅速降低。这个摩擦力与工件及耗材的材质、耗材贴紧工件的正压力、耗材与工件接触面积等很多因素有关,当耗材与工件之间摩擦力过大的时候,抛光盘自转转速达不到要求,抛光效果也就有不可能达到理想状态。

6、另一方面,如前所述有很多种因素都可能使得耗材与工件摩擦力发生变化,而轴承摩擦力很小,不足以与之抗衡,因此耗材与工件摩擦力的一点变化都会迅速引起抛光轮自转的转速的变化,导致工件在抛光过程中容易出现局部振纹或橘皮等缺陷,降低抛光良率。且随着抛光过程的进行,抛光耗材会逐渐磨损,这也会使得摩擦力发生变化,这样多种因素相互恶性作用,随着抛光时间的增长,会导致抛光的效果越来越差。

7、此外,抛光盘上的耗材自转时,耗材内圈线速度小,外圈线速度大,会造成不同抛光位置的效果不一样,也会造成抛光效果不一致的情况。

8、因此现有技术会因为抛光盘与产品之间的压力及轴承内外圈摩擦力影响运动速度,造成抛光盘转速不均匀,转速不可靠,并且能耗浪费大,抛光去除效率低,内外去除量不一致的缺点。


技术实现思路

1、本技术要解决的技术问题是克服现有技术存在的不足,提供一种结构简单、抛光效率高、抛光效果好的平动抛光机构

2、为解决上述技术问题,本技术提出的技术方案为:

3、一种平动抛光机构,包括抛光板、固定架和可用于带动所述抛光板偏心旋转运动的偏心组件,所述抛光板与偏心组件相连,所述平动抛光机构还包括用于抑制阻止抛光板旋转运动趋势的止转组件,所述止转组件的一端固定于所述固定架上,止转组件的另一端与抛光板固定连接。

4、上述的平动抛光机构,优选的,所述止转组件包括在受力后会发生形变的缓冲揉动柱,所述缓冲揉动柱包括上连接部、下连接部和柔性止转部,所述上连接部与所述抛光板固定连接,所述下连接部与所述固定架固定连接,所述柔性止转部设于上连接部和下连接部之间,且两端分别与上连接部和下连接部相连。

5、上述的平动抛光机构,优选的,所述柔性止转部为多个间隔布置的柔性柱,所述柔性柱的直径小于所述上连接部和下连接部的宽度。

6、上述的平动抛光机构,优选的,所述固定架上固定设有增高垫,所述下连接部与增高垫固定连接。

7、上述的平动抛光机构,优选的,所述止转组件对称设有两组,两组止转组件分设于固定架的两侧。

8、上述的平动抛光机构,优选的,所述偏心组件包括偏心输出轴、偏心转接轴和连接板,所述连接板与抛光头输出轴相连,所述偏心转接轴设于连接板上,偏心转接轴上设有空腔,且所述空腔内设有轴承,所述偏心输出轴通过所述轴承设于偏心转接轴的空腔内,所述抛光板与偏心输出轴连接。

9、上述的平动抛光机构,优选的,所述偏心组件还包括用于定位抛光头输出轴与所述连接板位置的定位销,所述定位销与所述偏心输出轴偏心设置。

10、与现有技术相比,本技术的优点在于:

11、本技术的平动抛光机构,偏心组件有带动抛光板作偏心旋转运动的趋势,但由于设置了止转组件抑制阻止抛光板的旋转运动,在作用力和反作用力的共同作用下,止转组件会发生形变,因此抛光板只能沿着止转组件变形轨迹作平面划圆运动,当抛光头输出轴驱动偏心组件转一圈,抛光板平动一圈,运动轨迹稳定,去除效率高,耗材内外抛光均匀,所以能达到更好的表面效果。

12、本技术的平动抛光机构解决了旋转抛光时,内外圈线速度不一致造成的抛光效果不同的缺点,极大的提高了抛光效率,并且频率稳定、可控,从而抛光纹路均匀、细腻,抛光效果更好,抛光板平动频率和转速一致(1:1),平动速度可以根据输出主轴转速进行调整。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种平动抛光机构,包括抛光板(1)、固定架(2)和可用于带动所述抛光板(1)偏心旋转运动的偏心组件(3),所述抛光板(1)与偏心组件(3)相连,其特征在于:所述平动抛光机构还包括用于抑制阻止抛光板(1)旋转运动趋势的止转组件(4),所述止转组件(4)的一端固定于所述固定架(2)上,止转组件(4)的另一端与抛光板(1)固定连接。

2.根据权利要求1所述的平动抛光机构,其特征在于:所述止转组件(4)包括在受力后会发生形变的缓冲揉动柱(41),所述缓冲揉动柱(41)包括上连接部(411)、下连接部(412)和柔性止转部(413),所述上连接部(411)与所述抛光板(1)固定连接,所述下连接部(412)与所述固定架(2)固定连接,所述柔性止转部(413)设于上连接部(411)和下连接部(412)之间,且两端分别与上连接部(411)和下连接部(412)相连。

3.根据权利要求2所述的平动抛光机构,其特征在于:所述柔性止转部(413)为多个间隔布置的柔性柱,所述柔性柱的直径小于所述上连接部(411)和下连接部(412)的宽度。

4.根据权利要求2所述的平动抛光机构,其特征在于:所述固定架(2)上固定设有增高垫(5),所述下连接部(412)与增高垫(5)固定连接。

5.根据权利要求1所述的平动抛光机构,其特征在于:所述止转组件(4)对称设有两组,两组止转组件(4)分设于固定架(2)的两侧。

6.根据权利要求1至5任一项所述的平动抛光机构,其特征在于:所述偏心组件(3)包括偏心输出轴(31)、偏心转接轴(32)和连接板(33),所述连接板(33)与抛光头输出轴相连,所述偏心转接轴(32)设于连接板(33)上,偏心转接轴(32)上设有空腔,且所述空腔内设有轴承(34),所述偏心输出轴(31)通过所述轴承(34)设于偏心转接轴(32)的空腔内,所述抛光板(1)与偏心输出轴(31)连接。

7.根据权利要求6所述的平动抛光机构,其特征在于:所述偏心组件(3)还包括用于定位抛光头输出轴与所述连接板(33)位置的定位销(35),所述定位销(35)与所述偏心输出轴(31)偏心设置。

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【技术特征摘要】

1.一种平动抛光机构,包括抛光板(1)、固定架(2)和可用于带动所述抛光板(1)偏心旋转运动的偏心组件(3),所述抛光板(1)与偏心组件(3)相连,其特征在于:所述平动抛光机构还包括用于抑制阻止抛光板(1)旋转运动趋势的止转组件(4),所述止转组件(4)的一端固定于所述固定架(2)上,止转组件(4)的另一端与抛光板(1)固定连接。

2.根据权利要求1所述的平动抛光机构,其特征在于:所述止转组件(4)包括在受力后会发生形变的缓冲揉动柱(41),所述缓冲揉动柱(41)包括上连接部(411)、下连接部(412)和柔性止转部(413),所述上连接部(411)与所述抛光板(1)固定连接,所述下连接部(412)与所述固定架(2)固定连接,所述柔性止转部(413)设于上连接部(411)和下连接部(412)之间,且两端分别与上连接部(411)和下连接部(412)相连。

3.根据权利要求2所述的平动抛光机构,其特征在于:所述柔性止转部(413)为多个间隔布置的柔性柱,所述柔性柱的直径小于所述上连接部(411)和...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘小平刘漂谭新刘维新
申请(专利权)人:湖南宇环精密制造有限公司
类型:新型
国别省市:

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